[发明专利]薄膜涂层微纳米织构制备方法及其装置

权利要求书

1.一种薄膜涂层微纳米织构制备方法，其特征是：制备方法包括前期准备、薄膜涂层沉积、微纳米织构制备和后处理，其步骤如下：

前期准备：首先准备好薄膜涂层微纳米织构制备所需的光滑样品、建立多光束脉冲激光微纳米织构处理系统装置，准备建立多光束脉冲激光微纳米织构处理系统装置所需的三大模块组件，三大模块组件即脉冲激光模块、光路传输模块、精密扫描模块，按照脉冲激光模块、光路传输模块、精密扫描模块依次连接；

薄膜涂层沉积：控制多光束脉冲激光在样品表面的扫描速度0.01~10mm/s，调节反应气体的化学反应速度，从而调控薄膜涂层的沉积速度，最终决定薄膜涂层沉积的厚度0~10μm；通过计算机控制三维平台的运动实现激光在样品表面扫描速度的调节，从而在样品表面特定区域进行薄膜涂层的沉积；反应气体由一路或者多路的不同气体同时输入或者不同气体分阶段输入，对样品的不同成分、不同梯度的复合涂层沉积；在薄膜涂层沉积时，充入沉积涂层或复合涂层所需的反应气体，反应气体为WF₆/C₆H₆、SiH₄/NH₃或Si₂H₆/O₂组合；薄膜涂层沉积完毕后，关闭反应气体；

微纳米织构制备：多光束脉冲激光的干涉可以在样品表面得到各种各样、不同尺寸的干涉条纹，三维平台携带样品在计算机的控制下进行三维平动，计算机控制激光干涉光斑在样品表面按照程序设定的轨迹扫描，实现可控的微纳米织构制备；进行微纳米织构制备时，调节激光在样品表面的扫描速度为0.01~10mm/s之间，先把反应室抽真空，真空度10^-3Pa以上，然后保持该真空度或再充入背景气体，所述的背景气体为刻蚀气体，所述的刻蚀气体有SF₆、Cl₂或N₂，计算机程序控制激光干涉光斑在样品表面的扫描路径，对样品进行微纳米织构制备，最终得到的织构尺寸范围为：横向0.02~100μm、纵向从零至薄膜厚度；

后处理：关闭多光束脉冲激光微纳米织构处理系统装置，取出样品，自然干燥或在80~100℃下烘干30min。

2.一种薄膜涂层微纳米织构制备装置，其特征是：本发明制备方法的专用装置为多光束脉冲激光微纳米织构处理系统装置，多光束脉冲激光微纳米织构处理系统装置包括脉冲激光模块、光路传输模块和精密扫描模块，脉冲激光模块、光路传输模块和精密扫描模块顺序连接。

3.根据权利要求2所述的一种薄膜涂层微纳米织构制备装置，其特征是：所述的脉冲激光模块包括计算机、控制器和脉冲激光器，计算机、控制器和脉冲激光器顺序连接；所述的脉冲激光器的脉宽为5fs~100ns、激光波长为197~400nm。

4.根据权利要求2所述的一种薄膜涂层微纳米织构制备装置，其特征是：所述的光路传输模块包括反射镜、扩束镜、反射镜组、聚焦镜组和透光玻璃，反射镜、扩束镜、反射镜组、聚焦镜组和透光玻璃顺序连接；所述的反射镜组由四个光学镜片组成，用以调节四光束的夹角；所述的聚焦镜组由四个聚焦透镜组成，分别对四路激光束进行聚焦。

5.根据权利要求2所述的一种薄膜涂层微纳米织构制备装置，其特征是：所述的精密扫描模块包括步进电机、三维平台、样品和反应室，在反应室内有三维平台，三维平台穿出反应室与步进电机连接，在三维平台上连接有样品，步进电机与计算机的输出端连接。