[发明专利]散热基板的制作方法有效

专利信息
申请号: 201110342827.7 申请日: 2011-10-25
公开(公告)号: CN102738319A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 张振铨 申请(专利权)人: 欣兴电子股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥
地址: 中国台湾桃园县*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 散热 制作方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种电路板结构的制作方法,特别是一种散热基板的制作方法。

背景技术

许多芯片(chip)在运作时会产生热能,效能越强的芯片产生的热能可能会越高,而这些热能会使得芯片的温度上升,进而发生芯片过热的情形,倘若无法迅速地将热能排除掉时,这除了会使得芯片不能正常地运作外,也可能会导致芯片永久性的损坏之外,甚至过热会导致在封装材与线路板基材的热涨程度不一致情形,使相异材质间的接口断裂产生细缝,或直接冲击元件与线路板间的电性连接强度,而使产品失效。

为了避免上述情形发生,目前已发展出具有散热结构的芯片载板(chip package carrier),以避免芯片发生过热的情形。在一现有技术中,首先以放置的方法将散热块(譬如铜块或陶瓷块)先预贴至一铜基板上,接着将具有对应散热块的孔洞的绝缘基板(譬如聚丙烯)与具有散热块的铜基板对位结合,最后再贴上另一铜基板在绝缘基板另一面,散热块穿过孔洞与另一铜基板接触,最后进行后续加工(譬如显影及蚀刻工序);当芯片置于铜基板上时,产生的热能可经由散热块传导至另一铜基板进行散热。然而,在上述的制作方法中,每道步骤皆须进行对位,易产生误差造成对位不易;铜块或陶瓷块以机械加工成型,但加工不易且良率低;陶瓷块的热膨胀系数(约)与铜和绝缘基板的热膨胀系数相差大,若以陶瓷块作为散热块,将因陶瓷块、铜及绝缘基板在受热膨胀时,因各自的膨胀程度不一,使散热结构严重变形甚至造成分层。

在另一现有技术中,以激光钻孔工序于载板上先形成多个激光孔,并于激光孔内填充导热物质;当芯片置于铜基板上时,产生的热能可经由多个激光孔内的导热物质传导至另一面(譬如铜基板)进行散热。然而,此激光孔的直径很小,其散热能力没有散热块好,若以增加大量激光孔加强散热,则使用激光钻孔所需的时间与制造成本也提高许多。

因此,有必要提供一种散热基板的制作方法,以改善上述所存在的问题。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种散热基板的制作方法,以解决现有技术散热效果差或制造成本高的技术问题。

为实现上述目的,本发明采用以下的技术方案:

一种散热基板的制作方法,包括下列步骤:

提供一基板,其中该基板包括一金属层、一绝缘层及一第一导电层,该绝缘层位于该金属层及该第一导电层之间,且该金属层的厚度大于该第一导电层的厚度;

移除部分该金属层,以形成一金属凸块;

提供一胶合层,其中该胶合层包括一开口,该开口对应该金属凸块;

提供一第二导电层;

压合该第二导电层、该胶合层及该基板,其中该胶合层位于该基板上,该第二导电层位于该胶合层上;

于该绝缘层及该第一导电层形成一开孔,其中该开孔位于该金属凸块的下方;以及

至少于该开孔处形成一第三导电层。

依照本发明所述的散热基板的制作方法,在提供该基板步骤中,还包括下列步骤:提供一复合板,其中该复合板包括一金属薄层、该绝缘层及该第一导电层,其中该绝缘层位于该金属薄层及该第一导电层之间;以及使该金属薄层的厚度增加以形成该金属层,且该复合板形成该基板。

依照本发明所述的散热基板的制作方法,其中,在提供该基板步骤中,还包括下列步骤:提供一复合板,其中该复合板包括二金属导层及一树脂载层,其中该树脂载层位于各该金属导层之间;于各该金属导层外压合一复合层,其中该复合层包括一绝缘层及一金属薄层,各该绝缘层分别配置于各该金属导层与各该金属薄层之间;增加各该金属薄层的厚度;以及移除该树脂载层以形成该二基板,其中该金属导层形成该第一导电层,该增加厚度的金属薄层即形成该金属层。

依照本发明所述的散热基板的制作方法,其中,该金属层的厚度介于38微米至65微米之间。

依照本发明所述的散热基板的制作方法,其中,该绝缘层的厚度介于5微米至25微米之间。

依照本发明所述的散热基板的制作方法,其中,该第一导电层的厚度介于10微米至38微米之间。

依照本发明所述的散热基板的制作方法,其中,该绝缘层的材质包括聚丙烯或树脂。

依照本发明所述的散热基板的制作方法,其中,该胶合层的材质包括聚丙烯或树脂。

依照本发明所述的散热基板的制作方法,其中,该金属凸块包括一上表面及一下表面,该下表面与该绝缘层接合,且该下表面的面积大于该上表面的面积。

依照本发明所述的散热基板的制作方法,其中,该上表面的面积与该下表面的面积的比值范围介于25%至95%之间。

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