[发明专利]处理装置无效
申请号: | 201110339978.7 | 申请日: | 2011-11-01 |
公开(公告)号: | CN102530554A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 福田达史;木内智一 | 申请(专利权)人: | 奥林巴斯株式会社 |
主分类号: | B65G49/06 | 分类号: | B65G49/06;B65G49/07;H01L21/67;H01L21/677 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 | ||
1.一种处理装置,其包括:处理部,其用于对作为处理对象的基板实施规定的处理;以及输送台,其用于载置上述基板而输送该基板;其特征在于,
上述输送台包括:
支承部件,其具有在沿输送上述基板的输送方向观看时端部位于比中央部靠铅垂下方的位置的上表面,并用于直接或间接地支承被配置在该上表面的上方的上述基板;
保持构件,其用于以能够沿与上述输送方向平行地延伸的输送轴移动的方式保持上述基板;以及
驱动部,其用于使上述保持构件沿上述输送轴移动;
上述支承部件支承上述基板的支承高度在设置有上述处理部的处理部设置区域中与上述保持构件保持上述基板的保持高度相同,上述支承部件支承上述基板的支承高度在上述处理部设置区域以外的区域中低于上述保持高度。
2.根据权利要求1所述的处理装置,其特征在于,
上述驱动部设置于上述输送台的宽度方向的中央,
上述支承部件的支承上述基板的高度至少是上述宽度方向的外缘侧的支承上述基板的高度与上述宽度方向的内侧的支承上述基板的高度不同。
3.根据权利要求2所述的处理装置,其特征在于,
上述支承部件在上述外缘侧支承上述基板的高度低于上述支承部件在上述内侧支承上述基板的高度。
4.根据权利要求2所述的处理装置,其特征在于,
上述支承部件在上述外缘侧支承上述基板的高度高于上述支承部件在上述内侧支承上述基板的高度。
5.根据权利要求1所述的处理装置,其特征在于,
上述支承部件沿与上述输送方向垂直的方向排列有沿上述输送方向延伸的多个支承构件,
上述驱动部配设在相邻的上述支承构件之间的隙间中的一部分隙间中,
配设上述驱动部的上述支承构件之间的间隔大于未配设上述驱动部的上述支承构件之间的间隔。
6.根据权利要求1所述的处理装置,其特征在于,
上述支承部件具有能够向上述输送方向旋转的多个自由辊。
7.根据权利要求1所述的处理装置,其特征在于,
上述支承部件具有多个吹出孔,该多个吹出孔用于利用来自空气供给部的空气供给而朝向上述输送台的上方吹出空气。
8.根据权利要求1所述的处理装置,其特征在于,
上述驱动部设置有多个,
各驱动部配设在相对于上述输送台的宽度方向的中心线对称的位置。
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