[发明专利]一种半导体致冷器件的制造方法无效
申请号: | 201110337469.0 | 申请日: | 2011-11-01 |
公开(公告)号: | CN102339947A | 公开(公告)日: | 2012-02-01 |
发明(设计)人: | 陈国华 | 申请(专利权)人: | 杭州澳凌制冷设备有限公司 |
主分类号: | H01L35/34 | 分类号: | H01L35/34 |
代理公司: | 杭州赛科专利代理事务所 33230 | 代理人: | 陈辉 |
地址: | 310015 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半导体 致冷 器件 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种新型的制造方法,尤其涉及一种半导体致冷器件的制造方法。
背景技术
半导体致冷器件的工作原理是基于帕尔帖原理,该效应是在1834年由J.A.C帕尔帖首先发现的,即利用当两种不同的导体A和B组成的电路且通有直流电时,在接头处除焦耳热以外还会释放出某种其它的热量,而另一个接头处则吸收热量,且帕尔帖效应所引起的这种现象是可逆的,改变电流方向时,放热和吸热的接头也随之改变,吸收和放出的热量与电流强度I成正比。
现如今大多数的厂家在生产半导体致冷器件的生产效率较低,废品较多,产品不美观且性能不佳。
发明内容
为了解决上述现有技术的不足和缺点,本发明提供了一种半导体致冷器件的制造方法。
一种半导体致冷器件的制造方法,其特征在于:包括下述步骤:
(1)将N型和P型半导体晶棒切割成片,清洗后,置于传送带上,镍丝经过加温后,均匀喷于晶片表面上;
(2)喷好镍后将晶片再镀一层镍和一层锡,然后再将晶片切割成粒;
(3)将N型半导体晶粒和P型半导体晶粒间隔地排列于金属陶瓷片上并使用模具固定,进行熔焊,制得半导体致冷片;
(4)将绝缘陶瓷片上侧刮涂胶水,将半导体致冷元件固定于两块绝缘陶瓷片之间,制得半导体致冷器件半成品。
优选地,所述步骤1中的熔焊温度为1000~1100℃。
优选地,所述步骤3中的熔焊温度为700~750℃。
本发明的有益效果在于:
1、将N型半导体晶粒和P型半导体晶粒间隔地排列于金属导体上并使用模具固定,再进行熔焊,使产品的成品率提高;
2、 在半导体致冷元件外侧设有一圈密封胶带,然后在密封胶带外侧用环氧树脂密封,有效防止环氧树脂流入半导体致冷器件中部,而影响半导体致冷器件的性能。
3、步骤1中晶片需先进行喷镍,增加喷镍工艺后使得晶粒牢固焊于陶瓷片上不容易脱落。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步说明,但本发明的保护范围并不限于此。
实施例1
一种半导体致冷器件的制造方法,其特征在于:包括下述步骤:
(1)将N型和P型半导体晶棒切割成片,清洗后,置于传送带上,镍丝经过加温后,均匀喷于晶片表面上;
(2)喷好镍后将晶片再镀一层镍和一层锡,然后再将晶片切割成粒;
(3)将N型半导体晶粒和P型半导体晶粒间隔地排列于金属陶瓷片上并使用模具固定,进行熔焊,制得半导体致冷片;
(4)将绝缘陶瓷片上侧刮涂胶水,将半导体致冷元件固定于两块绝缘陶瓷片之间,制得半导体致冷器件半成品。所述步骤1中的熔焊温度为1000~1100℃。所述步骤3中的熔焊温度为700~750℃。
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