[发明专利]一种半导体致冷器件的制造方法无效

专利信息
申请号: 201110337469.0 申请日: 2011-11-01
公开(公告)号: CN102339947A 公开(公告)日: 2012-02-01
发明(设计)人: 陈国华 申请(专利权)人: 杭州澳凌制冷设备有限公司
主分类号: H01L35/34 分类号: H01L35/34
代理公司: 杭州赛科专利代理事务所 33230 代理人: 陈辉
地址: 310015 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 半导体 致冷 器件 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种新型的制造方法,尤其涉及一种半导体致冷器件的制造方法。

背景技术

半导体致冷器件的工作原理是基于帕尔帖原理,该效应是在1834年由J.A.C帕尔帖首先发现的,即利用当两种不同的导体A和B组成的电路且通有直流电时,在接头处除焦耳热以外还会释放出某种其它的热量,而另一个接头处则吸收热量,且帕尔帖效应所引起的这种现象是可逆的,改变电流方向时,放热和吸热的接头也随之改变,吸收和放出的热量与电流强度I成正比。

现如今大多数的厂家在生产半导体致冷器件的生产效率较低,废品较多,产品不美观且性能不佳。

发明内容

为了解决上述现有技术的不足和缺点,本发明提供了一种半导体致冷器件的制造方法。

一种半导体致冷器件的制造方法,其特征在于:包括下述步骤:

(1)将N型和P型半导体晶棒切割成片,清洗后,置于传送带上,镍丝经过加温后,均匀喷于晶片表面上;

(2)喷好镍后将晶片再镀一层镍和一层锡,然后再将晶片切割成粒;

(3)将N型半导体晶粒和P型半导体晶粒间隔地排列于金属陶瓷片上并使用模具固定,进行熔焊,制得半导体致冷片;

(4)将绝缘陶瓷片上侧刮涂胶水,将半导体致冷元件固定于两块绝缘陶瓷片之间,制得半导体致冷器件半成品。

优选地,所述步骤1中的熔焊温度为1000~1100℃。

优选地,所述步骤3中的熔焊温度为700~750℃。

本发明的有益效果在于:

1、将N型半导体晶粒和P型半导体晶粒间隔地排列于金属导体上并使用模具固定,再进行熔焊,使产品的成品率提高;

2、 在半导体致冷元件外侧设有一圈密封胶带,然后在密封胶带外侧用环氧树脂密封,有效防止环氧树脂流入半导体致冷器件中部,而影响半导体致冷器件的性能。

3、步骤1中晶片需先进行喷镍,增加喷镍工艺后使得晶粒牢固焊于陶瓷片上不容易脱落。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明作进一步说明,但本发明的保护范围并不限于此。

实施例1

一种半导体致冷器件的制造方法,其特征在于:包括下述步骤:

(1)将N型和P型半导体晶棒切割成片,清洗后,置于传送带上,镍丝经过加温后,均匀喷于晶片表面上;

(2)喷好镍后将晶片再镀一层镍和一层锡,然后再将晶片切割成粒;

(3)将N型半导体晶粒和P型半导体晶粒间隔地排列于金属陶瓷片上并使用模具固定,进行熔焊,制得半导体致冷片;

(4)将绝缘陶瓷片上侧刮涂胶水,将半导体致冷元件固定于两块绝缘陶瓷片之间,制得半导体致冷器件半成品。所述步骤1中的熔焊温度为1000~1100℃。所述步骤3中的熔焊温度为700~750℃。

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