[发明专利]轧制铜箔及轧制铜箔的制造方法无效

专利信息
申请号: 201110327711.6 申请日: 2011-10-20
公开(公告)号: CN102453812A 公开(公告)日: 2012-05-16
发明(设计)人: 佐川英之;鹫见亨;黑田洋光;青山正义 申请(专利权)人: 日立电线株式会社
主分类号: C22C9/00 分类号: C22C9/00;C22F1/08;B21B1/40
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 钟晶;於毓桢
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 轧制 铜箔 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种轧制铜箔,在含有不可避免的杂质的纯铜中含有超过2质量ppm的量的氧、和选自由Mg、Zr、Nb、Ca、V、Ni、Mn、Ti和Cr所组成的组中的添加元素。

2.如权利要求1所述的轧制铜箔,所述添加元素为Ti,并且所述轧制铜箔由含有2质量ppm以上12质量ppm以下的硫、超过2质量ppm且为30质量ppm以下的氧、和4质量ppm以上55质量ppm以下的钛的软质低浓度铜合金材料构成。

3.如权利要求2所述的轧制铜箔,半软化温度在厚度0.8mm的尺寸时为148℃以下。

4.如权利要求1~3中任一项所述的轧制铜箔,加工前的结晶组织具有从其表面向内部直至50μm的深度的平均晶粒尺寸为20μm以下的表层。

5.一种轧制铜箔的制造方法,具备下述工序:

利用SCR连续铸造轧制,在1100℃以上1320℃以下的铸造温度下将在含有不可避免的杂质的纯铜中含有超过2质量ppm的量的氧、和选自由Mg、Zr、Nb、Ca、V、Ni、Mn、Ti和Cr所组成的组中的添加元素的低浓度铜合金材料制成熔液,并由所述熔液制作铜材的工序;

对所述铜材实施热轧加工从而制作铸造材料的工序;和

对所述铸造材料实施冷轧加工从而制作轧制铜箔的工序。

6.如权利要求5所述的轧制铜箔的制造方法,

所述添加元素为Ti,

所述低浓度铜合金材料含有2质量ppm以上12质量ppm以下的硫、超过2质量ppm且为30质量ppm以下的氧、和4质量ppm以上55质量ppm以下的钛。

7.如权利要求6所述的轧制铜箔的制造方法,所述热轧加工通过将最初的轧辊处的温度控制在880℃以下、将最终的轧辊处的温度控制在550℃以上来实施。

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