[发明专利]一种真空烧结制备Ni-W合金的方法无效
申请号: | 201110273196.8 | 申请日: | 2011-09-15 |
公开(公告)号: | CN102312132A | 公开(公告)日: | 2012-01-11 |
发明(设计)人: | 梁淑华;张晨;邹军涛 | 申请(专利权)人: | 西安理工大学 |
主分类号: | C22C19/03 | 分类号: | C22C19/03;C22C1/04 |
代理公司: | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人: | 李娜 |
地址: | 710048*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 烧结 制备 ni 合金 方法 | ||
技术领域
本发明属于粉末冶金制备技术领域,具体涉及一种真空烧结制备Ni-W合金的方法。
背景技术
目前在微机电系统的领域中获得成熟应用的材料只有Cu、Ni等,但是这些材料的硬度较低,耐磨性、耐热性及耐腐蚀性较差,由于Ni-W合金具比单纯的Ni有更加优异的物理和化学性能,其硬度、耐磨性和耐热性等都比Ni薄膜有显著提高,在微机电系统具有良好的应用前景。
溅射法是制备Ni-W合金薄膜的较好的方法,此法的优点是制备出的薄膜致密度高且稳定性好。制备出致密度高且组织均匀的的Ni-W合金靶材是溅射出性能更加优异的Ni-W薄膜的前提,开发出成本较低且性能优越的Ni-W合金具有现实意义。
发明内容
本发明的目的是提供一种真空烧结制备Ni-W合金的方法,解决了制备Ni-W合金的成本高、致密度低的问题。
本发明采用的技术方案是,一种用真空烧结制备Ni-W合金的方法,该方法按以下骤进行,
步骤1,粉末的制备
选取粒径为40~50μm,纯度不小于99.9%,含氧量为800~1000ppm的镍粉,选取粒径为6~10μm,纯度不小于99.9%,含氧量为500~800ppm的钨粉,按质量百分比Ni∶W=70%~85%∶15%~30%称取粉末;
步骤2,球磨
将称取好的镍粉和钨粉放入球磨罐中,在球磨中机中添加混合粉末总质量的2%~5%的过程控制剂,然后密封球磨罐进行球磨,球磨时间为24~72小时,球磨罐转速为200r/min;
步骤3,压坯
将球磨后的粉料进行模压,压强为60~80MPa,保压时间为10s~20s;
步骤4,烧结
将压制好的坯料放置到真空烧结炉中,先对炉内抽真空,保证炉体内的真空度小于10-3pa,然后对炉内进行加热,控制加热速度为小于等于10℃/min,当温度达到900℃~960℃时,再以20℃/min的加热速度继续升温,最终烧结温度为1250℃~1350℃,保温1.5h~3h后,随炉自然冷却到室温;
步骤5,机加工
最后对Ni-W合金进行机加工。
本发明的特点还在于,
其中步骤2中所述的过程控制剂为无水乙醇。
其中步骤2中选用WC球作为研磨球。
本发明通过球磨细化Ni粉和W粉两种混合粉末使得它们混合均匀,并采用真空烧结制备出一种组织均匀且有较高致密度的Ni-W合金,使得制备出的Ni-W合金具有高富镍相和极少量的富钨相,且本发明制备方法成本较低、工艺简单、容易实施。
附图说明
图1为本发明方法的制备流程图;
图2为本发明实施例1中Ni-30W的SEM照片;
图3为实例1中Ni-30W合金中白色相的能谱图;
图4为实例1中Ni-30W的XRD图谱。
具体实施方式
本发明利用镍钨可形成有限固溶体的特点,通过成分选择及制造工艺的控制,获得基体为高富镍相的镍钨固溶体组织。下面结合具体附图对本发明进行详细说明。
如图1所示,为本发明制备Ni-W合金的方法,其具体步骤为:
步骤1,粉末的制备
按Ni-W合金化学成分质量百分比Ni∶W=70%~85%∶15%~30%的比例分别称取粒径为40~50μm,纯度不小于99.9%,含氧量为800~1000ppm的Ni粉和粒径为6~10μm,纯度不小于99.9%,含氧量为500~800ppm的W粉;
步骤2,球磨
将称取好的Ni粉和W粉混合后放入球磨罐中,为了平衡粉末在球磨中的冷焊和断裂,在球磨中机中添加混合粉末总质量的2%~5%的无水乙醇作为过程控制剂,然后密封球磨罐;选用WC球作为研磨球,球磨比为10∶1~20∶1,球磨时间为24~72小时,球磨罐转速为200r/min;
步骤3,压坯
将球磨后的粉料进行模压,压强为60~80MPa,保压时间为10s~20s;
步骤4,烧结
将压制好的坯料放置到真空烧结炉中,先对炉内抽真空,保证炉体内的真空度小于10-3Pa,然后对炉内进行加热,控制加热速度为小于等于10℃/min,当温度达到900℃~960℃时,再以20℃/min的加热速度继续升温,最终烧结温度为1250℃~1350℃,保温1.5h~3h后,随炉自然冷却到室温;
步骤5,机加工
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