[发明专利]底漆有机硅组合物和用于剥离纸或剥离膜的处理过的纸或膜有效
| 申请号: | 201110201002.3 | 申请日: | 2011-05-06 |
| 公开(公告)号: | CN102391780A | 公开(公告)日: | 2012-03-28 |
| 发明(设计)人: | 山本谦儿;青木俊司 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号: | C09D183/07 | 分类号: | C09D183/07;C09D183/05;C09D5/20;D21H19/10 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李帆 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 底漆 有机硅 组合 用于 剥离 处理 | ||
1.底漆有机硅组合物,使用时将该底漆有机硅组合物涂布于纸基材或塑料膜基材并暴露于UV以形成底漆层,对该底漆层覆盖以剥离性有机硅组合物的固化涂层,从而形成剥离纸或剥离膜,该底漆有机硅组合物包含
(A)提供粘合性的组分,其是
(A1)有机聚硅氧烷,其每分子中含有至少两个与硅键合的含有烯基的取代基,其具有0.3到2.0mol/100g的烯基含量,并且具有这样的结构:其中含烯基的取代基与硅原子键合的两个硅氧烷单元直接连接,或者通过最多3个其中所述取代基不与硅原子键合的中间硅氧烷单元连接;在25℃下该有机聚硅氧烷具有小于0.04Pa·s的粘度,和/或
(A2)化合物,其每分子中含有至少一个具有碳-碳不饱和键(双键或三键)作为官能团的2-10个碳原子的取代基,和至少一个具有可与烯基和/或SiH基团进行加成反应和/或缩合反应的基团的取代基,和
(B)任意量的可选的有机溶剂。
2.权利要求1所述的底漆有机硅组合物,其中组分(A1)是由具有通式(2)结构的组成式(1)表示的有机聚硅氧烷,并且具有2至50的平均聚合度,
[M]m1[MA]m2[D]d1[DA]d2[T]t1[TA]t2[Q]q1 (1)
其中R1是2至10个碳原子的含有烯基的取代基,A是R2或通过氧原子键合并且为满足式(1)而选择的硅氧烷残基,与一个硅原子连接的两个A基团可以作为-O(SiR22O)y-而形成环状结构,R2是1至10个碳原子的取代的或未取代的单价烃基,x是0至3的整数,y是选择这使式(1)的有机聚硅氧烷可具有2至50平均聚合度的整数,
M,MA,D,DA,T,TA和Q是按下述定义的硅氧烷单元,O1/2表示相邻硅氧烷单元通过氧原子连接,
M和MA各自是:
条件是MA中的至少一个R2是R1,
D和DA各自是:
条件是DA中的至少一个R2是R1,
T和TA各自是:
条件是TA中的R2是R1,
Q是:
m1,m2,d1,d2,t1,t2,和q1是满足下列方程式的数字:
t1+t2+2×q1≤m1+m2≤2+t1+t2+2×q1
0≤d1+d2≤48,0≤t1+t2≤30,0≤q1≤20,
0.25≤(m2+d2+t2)/(m1+m2+d1+d2+t1+t2+q1)≤1。
3.权利要求2所述的底漆有机硅组合物,其中通式(2)中的x是0或1。
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