[发明专利]壳体及其制备方法无效
申请号: | 201110147463.7 | 申请日: | 2011-06-02 |
公开(公告)号: | CN102808160A | 公开(公告)日: | 2012-12-05 |
发明(设计)人: | 曹达华;刘旭 | 申请(专利权)人: | 深圳富泰宏精密工业有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/06 |
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地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 壳体 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种壳体及其制备方法。
背景技术
类金刚石(Diamond-like Carbon,DLC)膜是一种非晶碳膜,碳原子主要以金刚石相(碳的键结形式为sp3)和石墨相(碳的键结形式为sp2)存在。当金刚石相多于石墨相时,DLC膜具有优异的耐磨性、高硬度及耐腐蚀性能,可被广泛应用于刀具及模具等领域。然而,目前应用在刀具及模具领域的DLC膜多采用多弧离子镀或者化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)方法形成,采用该类方法制得的DLC膜层表面往往不够光滑致密;且化学气相沉积工艺需采用600~1000℃的沉积温度,容易造成基材性能的改变及尺寸的变形,限制了其进一步应用。
发明内容
有鉴于此,提供一种具有光滑致密的DLC膜的壳体。
另外,还提供一种具有光滑致密的DLC膜的壳体的制备方法。
一种壳体,包括基材及形成于基材表面的类金刚石层,该类金刚石层中碳-碳以sp3杂化键的方式键合的比例为80%以上。
一种壳体的制备方法,其包括如下步骤:
提供基材;
采用离子束辅助磁控溅射法在该基材的表面形成类金刚石层,使用石墨靶,以甲烷为离子源反应气体,该类金刚石层中碳-碳以sp3杂化键的方式键合的比例为80%以上。
本发明所述DLC层光亮致密,具有良好的外观装饰效果且其耐刮伤、抗磨损性能及耐腐蚀效果优异,可有效改善壳体的外观效果并延长壳体的使用寿命。本发明所述壳体的制备方法在形成DLC层时,采用离子束辅助磁控溅射技术,并通过选取石墨靶和离子源反应气体甲烷作为两种不同的碳源,从而在基材上制备获得稳定的DLC层。所述制备方法可采用较低的镀膜温度,工艺简单且绿色环保。
附图说明
图1为本发明一较佳实施例壳体的剖视图;
图2为本发明一较佳实施例真空镀膜机的俯视示意图。
主要元件符号说明
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
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