[发明专利]壳体及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201110147463.7 申请日: 2011-06-02
公开(公告)号: CN102808160A 公开(公告)日: 2012-12-05
发明(设计)人: 曹达华;刘旭 申请(专利权)人: 深圳富泰宏精密工业有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 壳体 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种壳体及其制备方法。

背景技术

类金刚石(Diamond-like Carbon,DLC)膜是一种非晶碳膜,碳原子主要以金刚石相(碳的键结形式为sp3)和石墨相(碳的键结形式为sp2)存在。当金刚石相多于石墨相时,DLC膜具有优异的耐磨性、高硬度及耐腐蚀性能,可被广泛应用于刀具及模具等领域。然而,目前应用在刀具及模具领域的DLC膜多采用多弧离子镀或者化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)方法形成,采用该类方法制得的DLC膜层表面往往不够光滑致密;且化学气相沉积工艺需采用600~1000℃的沉积温度,容易造成基材性能的改变及尺寸的变形,限制了其进一步应用。

发明内容

有鉴于此,提供一种具有光滑致密的DLC膜的壳体。

另外,还提供一种具有光滑致密的DLC膜的壳体的制备方法。

一种壳体,包括基材及形成于基材表面的类金刚石层,该类金刚石层中碳-碳以sp3杂化键的方式键合的比例为80%以上。

一种壳体的制备方法,其包括如下步骤:

提供基材;

采用离子束辅助磁控溅射法在该基材的表面形成类金刚石层,使用石墨靶,以甲烷为离子源反应气体,该类金刚石层中碳-碳以sp3杂化键的方式键合的比例为80%以上。

本发明所述DLC层光亮致密,具有良好的外观装饰效果且其耐刮伤、抗磨损性能及耐腐蚀效果优异,可有效改善壳体的外观效果并延长壳体的使用寿命。本发明所述壳体的制备方法在形成DLC层时,采用离子束辅助磁控溅射技术,并通过选取石墨靶和离子源反应气体甲烷作为两种不同的碳源,从而在基材上制备获得稳定的DLC层。所述制备方法可采用较低的镀膜温度,工艺简单且绿色环保。

附图说明

图1为本发明一较佳实施例壳体的剖视图;

图2为本发明一较佳实施例真空镀膜机的俯视示意图。

主要元件符号说明

壳体10基材11DLC层13真空镀膜机20镀膜室21石墨靶23离子源24中能离子源241低能离子源243轨迹25气源通道26真空泵30

如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。

具体实施方式

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