[发明专利]壳体及其制备方法

权利要求书

1.一种壳体，包括基材及形成于基材表面的类金刚石层，其特征在于：该类金刚石层中碳-碳以sp³杂化键的方式键合的比例为80%以上。

2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：该类金刚石层中含有碳-氢键。

3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：该基材的材质为不锈钢、铝合金或钛合金。

4.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：该类金刚石层的厚度为2.3～2.8μm。

5.一种壳体的制备方法，其包括如下步骤：

提供基材；

采用离子束辅助磁控溅射法在该基材的表面形成类金刚石层，使用石墨靶，以甲烷为离子源反应气体, 该类金刚石层中的碳-碳以sp³杂化键的方式键合的比例为80%以上。

6.如权利要求5所述的壳体的制备方法，其特征在于：所述基材的材质为不锈钢、铝合金或钛合金。

7.如权利要求5所述的壳体的制备方法，其特征在于：形成所述类金刚石层的步骤的具体工艺参数为：镀膜温度为150~200℃；以氩气为溅射气体，氩气的流量为120~150sccm，石墨靶的功率为15~18kw，施加于基材的偏压为150~200V，甲烷的流量为50~60sccm，离子源包括低能离子源及中能离子源，低能离子束流为60~80mA，中能离子束流为10~20mA；沉积时间为420~480min。

8.如权利要求5所述的壳体的制备方法，其特征在于：所述类金刚石层的厚度为2.3 ~2.8μm。

9.如权利要求5所述的壳体的制备方法，其特征在于：该类金刚石层中含有碳-氢键。