[发明专利]一种碳微纳集成结构的制备方法无效
| 申请号： | 201110066622.0 | 申请日： | 2011-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN102135729A | 公开（公告）日： | 2011-07-27 |
| 发明（设计）人： | 汤自荣;习爽;史铁林;张雷;刘丹 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;B81C1/00 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 碳微纳 集成 结构 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种碳微纳集成结构的制备方法，具体为：
(1) 将碳纳米管掺杂于光刻胶中；
(2) 将掺杂后的光刻胶旋涂于硅基片上，旋涂后作前烘处理；
(3) 对前烘处理后的硅基片曝光，曝光后作中烘处理；
(4) 采用混合有碳纳米管的显影液对中烘处理后的硅基片进行显影，显影后作后烘处理；
(5) 对后烘处理的硅基片热解即得碳微纳集成结构。
2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤（1）掺杂后的光刻胶中的碳纳米管质量浓度大于零且小于等于1mg/ml。
3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(5)分步对硅基片热解。
4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(4) 显影液中的碳纳米管的质量浓度大于0.1mg/ml且小于等于0.5mg/ml。
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