[发明专利]一种提取MOS管沿沟道电荷分布的方法有效
申请号: | 201110053772.8 | 申请日: | 2011-03-07 |
公开(公告)号: | CN102163568A | 公开(公告)日: | 2011-08-24 |
发明(设计)人: | 杨东;谭斐;安霞;黄如;张兴 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;G01R31/26;G06F17/50 |
代理公司: | 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 | 代理人: | 贾晓玲 |
地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 提取 mos 沟道 电荷分布 方法 | ||
1.一种提取MOS管沿沟道电荷分布的方法,应用于MOS管中界面态与栅介质电荷分布的提取,其特征在于,包括如下步骤:
a)构造测试电路,采用固定脉冲幅度、改变基准电压的电荷泵电流测试法测得应力前后MOS管漏端开路和源端开路的四条电荷泵电流曲线;
b)寻找原始曲线上任意一点A对应到应力后曲线上一点B,通过局部点A的电荷泵电流变化量和电压的变化估算局部产生界面态电荷和栅介质层电荷量。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述步骤b)的实现步骤为:
1)根据原始曲线得到关于局部对应点阈值电压Vth和平带电压Vfb沿沟道的分布;
2)任意选取Origin1曲线在区域I上的一点A;
3)枚举Post-stress1曲线在区域I上的点Bi,得到电荷泵电流变化量ΔIcp(x)和局部阈值电压漂移量ΔVth(x),计算出A点到B点处界面态电荷变化量ΔNit(x)和栅介质电荷变化量ΔNot(x);
4)从局部阈值电压和平带电压分布图找到Origin1曲线上点A在区域II上对应的点C,根据阈值电压和平带电压偏移关系式,在Post-stress1曲线区域II上找到对应的D点;
5)从局部阈值电压或平带电压分布图找到Origin2曲线上点A’对应Origin1曲线上点A,重复步骤4找到Origin2曲线上点A’在区域II上对应的点C’;
6)记B和A两点之间的电荷泵电流差为ΔIcp1,D和C两点之间的电荷泵电流差为ΔIcp2;D’和C’两点之间的电荷泵电流差为ΔIcp2’,根据关系式ΔIcp2’=ΔIcp2在曲线Post-stress2区域II上找到对应的D’点;
7)根据阈值电压和平带电压偏移关系式,在Post-stress2区域I上找到与点A’对应的点B’;
8)记B和A两点之间的电荷泵电流差为ΔIcp1’,应力前后所测得的电荷泵电流最大值之差为ΔIcp,max,在Post-stress1曲线区域I上枚举点B,直到ΔIcp1+ΔIcp1’+ΔIcp2(或ΔIcp2’)=ΔIcp,max;
9)当找到对应点B时,也得到了局部ΔNit(x)和ΔNot(x),即在应力后新增界面态电荷和栅介质层电荷沿沟道的分布。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,在步骤a)中,所述测试电路为源端开路,MOS管的源端悬空,漏端和衬底短接,栅端外接频率和幅度固定、基准电压Vbase变化的脉冲电压。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,在步骤a)中,所述测试电路为漏端开路,MOS管的漏端是悬空,源端和衬底短接,栅端外接频率和幅度固定、基准电压Vbase变化的脉冲电压。
5.如权利要求3或4所述的方法,其特征在于,固定脉冲幅值大于平带电压Vfb和阈值电压Vth之差。
6.如权利要求3或4所述的方法,其特征在于,固定脉冲频率大于500Hz。
7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,在步骤a)中,所述应力为热电子注入应力。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造