[发明专利]多结化合物半导体太阳能电池有效
申请号: | 201080064809.0 | 申请日: | 2010-12-27 |
公开(公告)号: | CN102782864A | 公开(公告)日: | 2012-11-14 |
发明(设计)人: | 佐佐木和明;安居院高明 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | H01L31/04 | 分类号: | H01L31/04 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 刘彬 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化合物 半导体 太阳能电池 | ||
1.一种多结化合物半导体太阳能电池,其包括:
第1电极(128)、第1单元(40A、40B)、缓冲层(41)、第2单元(40C)和第2电极(102),
所述第1电极(128)设置在太阳光入射侧,
所述第1单元(40A、40B)包括第1光电转换层(60A、60B),所述第2单元(40C)包括第2光电转换层(60C),所述第1光电转换层(60A、60B)的禁带宽度和所述第2光电转换层(60C)的禁带宽度彼此不同,
所述第2单元(40C)的晶格常数大于所述第1单元(40A、40B)的晶格常数,
所述缓冲层(41)包括多个半导体层,
从所述第1单元(40A、40B)侧至所述第2单元(40C)侧,按照晶格常数逐渐增大的顺序分别设置所述多个半导体层,
在所述多个半导体层中,最接近所述第2单元(40C)的半导体层(30a)的晶格常数大于所述第2单元(40C)的晶格常数,
在所述多个半导体层中,邻接的两层中晶格常数差最大的两层(21a、22a)位于比所述缓冲层(41)在厚度方向上的中央更接近所述第1单元(40A、40B)的位置上。
2.根据权利要求1所述的多结化合物半导体太阳能电池,其中,所述邻接的两层半导体层中的晶格常数差最大的两层(21a,22a)是最接近所述第1单元(40A、40B)的两层。
3.根据权利要求1或2所述的多结化合物半导体太阳能电池,其中,将所述邻接的两层半导体层中的晶格常数差最大的两层(21a,22a)在所述第2单元(40C)侧的半导体层(22a)的晶格常数视为a1、在所述第1单元(40A,40B)侧的半导体层(21a)的晶格常数视为a2时,
所述晶格常数a1和所述晶格常数a2之间的晶格常数差为0.0015nm以上且0.0026nm以下。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的多结化合物半导体太阳能电池,其中,将所述第2单元(40C)的第2光电转换层(60C)的晶格常数视为a4、最接近所述第2单元(40C)的半导体层(30a)的晶格常数视为a3,
定义第2晶格常数差比(%)=(100×(a3-a4))/(a3)时,
第2晶格常数差比在0.12%以上且0.8%以下。
5.一种多结化合物半导体太阳能电池,其包括:
具有第1光电转换层(60A、60B)的第1单元(40A、40B),所述第1光电转换层(60A、60B)具有第1禁带宽度,
具有第2光电转换层(60C)的第2单元(40C),所述第2光电转换层(60C)具有禁带宽度小于所述第1禁带宽度的第2禁带宽度,
在所述第1单元(40A、40B)和所述第2单元(40C)之间的缓冲层(41),
设置在所述第1单元(40A、40B)侧的第1电极(128),以及
设置在所述第2单元(40C)侧的第2电极(102),
所述第2单元(40C)的晶格常数大于所述第1单元(40A、40B)的晶格常数,
所述缓冲层(41)包括多个半导体层,
从所述第1单元(40A、40B)侧至所述第2单元(40C)侧,按照晶格常数逐渐增大的顺序分别设置所述多个半导体层,
在所述多个半导体层中,最接近所述第2单元(40C)的半导体层(30a)的晶格常数大于所述第2单元(40C)的晶格常数,
在所述多个半导体层中,邻接的两层中晶格常数差最大的两层(21a、22a)位于比所述缓冲层(41)在厚度方向上的中央更接近所述第1单元(40A、40B)的位置上。
6.根据权利要求5所述的多结化合物半导体太阳能电池,其中,所述邻接的两层半导体层中晶格常数差最大的两层(21a,22a)是最接近所述第1单元(40A,40B)的两层。
7.根据权利要求5或6所述的多结化合物半导体太阳能电池,其中,将所述邻接的两层半导体层中晶格常数差最大的两层(21a,22a)在所述第2单元(40C)侧的半导体层(22a)的晶格常数视为a1、将在所述第1单元(40A,40B)侧的半导体层(21a)的晶格常数视为a2时,
所述晶格常数a1和所述晶格常数a2之间的晶格常数差为0.0015nm以上且0.0026nm以下。
8.根据权利要求5~7中任一项所述的多结化合物半导体太阳能电池,其中,将所述第2单元(40C)的第2光电转换层(60C)的晶格常数视为a4、将最接近所述第2单元(40C)的半导体层(30a)的晶格常数视为a3,
定义第2晶格常数差比(%)=(100×(a3-a4))/(a3)时,
第2晶格常数差比在0.12%以上且0.8%以下。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的