[发明专利]黑色可固化组合物、遮光彩色滤光片、遮光膜及其制备方法，晶片级透镜，以及固态成像器件

权利要求书

1.一种用于晶片级透镜的黑色可固化组合物，所述黑色可固化组合物包含：

(A1)无机颜料；

(B1)在其分子中具有磷酸基或磺酸基的分散树脂；

(C1)聚合引发剂；和

(D1)可聚合化合物。

2.根据权利要求1所述的黑色可固化组合物，其中所述(A1)无机颜料包含钛黑。

3.根据权利要求1或2所述的黑色可固化组合物，所述黑色可固化组合物还包含(E)有机颜料。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的黑色可固化组合物，其中所述(B1)分散树脂包含具有磷酸基或磺酸基的单体(b1-1)与具有1,000至30,000的重均分子量的大分子单体(b1-2)的共聚物。

5.根据权利要求1至3中的任一项所述的黑色可固化组合物，其中所述(B1)分散树脂包含由下式(I)表示的树脂：

式(I)

其中，在式(I)中，R_A表示具有500至30,000的数均分子量并且选自聚醚或聚酯的分子链；并且y表示1或2。

6.一种晶片级透镜，所述晶片级透镜在存在于基板上的透镜的周缘部分包括使用根据权利要求1至5中的任一项所述的用于晶片级透镜的黑色可固化组合物获得的遮光部。

7.一种用于形成遮光膜的黑色可固化组合物，所述黑色可固化组合物包含：

(A2)无机颜料；

(B2)分散树脂，所述分散树脂在其分子中具有磷酸基或磺酸基中的至少一种并且具有10mgKOH/g至100mgKOH/g的酸值；

(C2)聚合引发剂；和

(D2)可聚合化合物，

其中所述遮光膜阻挡红外光并且被设置在硅基板的一个表面上，所述硅基板在其相反表面上具有成像器件部。

8.根据权利要求7所述的黑色可固化组合物，其中所述(A2)无机颜料包含钛黑。

9.根据权利要求7或8所述的黑色可固化组合物，其中所述(B2)分散树脂包含具有磷酸基或磺酸基中的至少一种的单体(b2-1)与具有1,000至30,000的重均分子量的大分子单体(b2-2)的共聚物。

10.根据权利要求7至9中的任一项所述的黑色可固化组合物，其中所述(B2)分散树脂包含由下式(I)表示的树脂：

式(I)

其中，在式(I)中，R_A表示具有500至30,000的数均分子量并且选自聚醚或聚酯的分子链；并且y表示1或2。

11.根据权利要求7至10中的任一项所述的黑色可固化组合物，其中所述(B2)分散树脂具有20mgKOH/g至70mgKOH/g的酸值。

12.根据权利要求7至11中的任一项所述的黑色可固化组合物，其中所述(C2)聚合引发剂是肟酯化合物或六芳基联咪唑化合物。

13.根据权利要求8所述的黑色可固化组合物，其中作为所述(A2)无机颜料的所述钛黑具有30nm至65nm的平均初级粒径。

14.根据权利要求7至13中的任一项所述的黑色可固化组合物，其中相对于所述(A2)无机颜料，所述(B2)分散树脂的含量以质量比计为0.20至0.40。

15.一种遮光膜，所述遮光膜使用根据权利要求7至14中的任一项所述的黑色可固化组合物形成在硅基板的一个表面上，所述硅基板在其相反表面上具有成像器件部。

16.一种用于制备遮光膜的方法，所述方法包括：

将根据权利要求7至14中的任一项所述的黑色可固化组合物涂敷在硅基板的一个表面上以形成黑色可固化组合物层，所述硅基板在其相反表面上具有成像器件部；

对所述黑色可固化组合物层进行图案曝光；以及

在曝光之后将所述黑色可固化组合物层显影以形成图案。

17.一种固态成像器件，所述固态成像器件在硅基板的一个表面上包括根据权利要求15所述的遮光膜，所述硅基板在其相反表面上具有成像器件部。