[发明专利]背面入射型固体摄像元件有效
申请号: | 201080014116.0 | 申请日: | 2010-03-23 |
公开(公告)号: | CN102365743A | 公开(公告)日: | 2012-02-29 |
发明(设计)人: | 铃木久则;米田康人;村松雅治;山本晃永 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | H01L27/148 | 分类号: | H01L27/148;H01L27/146 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 背面 入射 固体 摄像 元件 | ||
技术领域
本发明涉及一种背面入射型固体摄像元件。
背景技术
已知BT(Back-illuminated Thinning)-CCD作为基板的光入射面侧 薄膜化的背面入射型固体摄像元件。根据非专利文献1,入射至BT-CCD 的被检测光,与入射后的被检测光在BT-CCD的检测侧的面反射的光 之间产生干涉(多重干涉(etalon)现象),影响近红外频域的检测特性。为 了抑制该多重干涉现象,同一文献中,增大光感应区域的厚度,还在 光感应区域设置反射防止膜。
非专利文献
非专利文献1:“Etaloning in Back-Illuminated CCDs”,ROPER SCIENTIFIC TECHINICAL NOTE、ROPER SCIENTIFIC发行,2000 年,No.7
发明内容
发明所要解决的问题
但是,以往的BT-CCD的解决手法,牺牲薄膜化产生的检测灵敏 度提高这一BT-CCD本来的优点,未在本质上提高图像质量。
本发明鉴于如此问题而完成,其目的在于提供一种抑制多重干涉 现象造成的图像劣化,可提高图像质量的背面入射型固体摄像元件。
解决问题的技术手段
为解决上述问题,本发明的背面入射型固体摄像元件,其具备: 在背面侧具有光入射面的半导体基板;及设置于半导体基板的与光入 射面为相反侧的光检测面的多个电荷传送电极,在电荷传送电极的邻 接的彼此之间,形成光透过用的多个开口部。
背面入射的光,虽在光检测面侧被检测,但本发明的固体摄像元 件中,使提供光检测的光的一部分,经由开口部向外部透过。由此, 由于在开口部没有电荷传送电极,故可抑制反射、并抑制入射光与反 射光的干涉。因此,可抑制多重干涉现象造成的图像劣化,提高图像 质量。
此外,上述开口部优选为沿电荷传送方向排列配置。如此,在邻 接的电荷传送电极之间形成的开口部进行排列的情况下,该结构虽然 简易,但也可抑制反射光。但,该构造的情况下,要求电荷传送电极 的制造时的匹配精度,匹配精度低的情况下,各列每个像素的开口部 的面积不同,存在每个像素的特性散乱等应进一步改良的余地。
因此,上述开口部优选为沿电荷传送方向交错状地配置。即,开 口部彼此错位配置。采用如此的交错状开口部配置的情形,若第奇数 行(第p+1行与第p+3行(p为0以上的整数))的电荷传送电极同时形成, 第偶数行(第p+2行与第p+4行)的电荷传送电极另行同时形成,则第偶 数行的电荷传送电极在制造时横方向错位而增加第p+1行与第p+2行 的电荷传送电极之间的开口部面积的情况下,第p+3行与第p+4行的 电荷传送电极之间的开口部面积减少。即,该构造匹配精度的容许量 (tolerance)高,每个像素的透过光量相等,特性均一化。
另外,关于电荷传送电极的形状及配置,第p+1行的电荷传送电 极具有第1形状,第p+2行的电荷传送电极具有第2形状,第p+3行 的电荷传送电极具有第3形状,第p+4行的电荷传送电极具有第4形 状,第1至第4形状彼此完全不同,第p+1行与第p+2行的电荷传送 电极之间形成第1图形的开口部,第p+3行与第p+4行的电荷传送电 极之间形成第2图形的开口部,第1及第2图形优选为彼此不同。
如此的构造的情形,因电荷传送电极的形状或开口部的图形不同, 故开口部的随机性高,例如,即使第p+2行与第p+4行的电荷传送电 极在横方向错位的情形,也可抑制开口部面积的变动。
另外,本发明的背面入射型固体摄像元件,其具备:在背面侧具 有光入射面的半导体基板,及设置于半导体基板的与光入射面为相反 侧的光检测面的多个电荷传送电极;在各电荷传送电极内形成光透过 用的多个开口部。
即使在该构造的情形,使提供光检测的光的一部分,经由开口部 向外部透过。由此,因为在开口部无电荷传送电极,故可抑制反射, 抑制入射光与反射光的干涉。因此,可抑制多重干涉现象造成的图像 劣化,提高图像质量。
发明的效果
根据本发明的背面入射型固体摄像元件,可取得高质量图像。
附图说明
图1是实施方式的背面入射型固体摄像元件100的立体图。
图2是从与光入射方向相反侧看背面入射型固体摄像元件100的 底面图。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的