[发明专利]高效太阳能电池的制造工艺无效
| 申请号: | 201010621325.3 | 申请日: | 2010-12-31 |
| 公开(公告)号: | CN102130215A | 公开(公告)日: | 2011-07-20 |
| 发明(设计)人: | 陈亮 | 申请(专利权)人: | 常州天合光能有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;B41M1/12;C25D7/12;C25D5/02 |
| 代理公司: | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人: | 王凌霄 |
| 地址: | 213031 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 高效 太阳能电池 制造 工艺 | ||
1.一种高效太阳能电池的制造工艺,其特征在于具有以下步骤:
1)在硅片表面制绒,并进行扩散;
2)去除表面的磷硅玻璃PSG,进行刻边;
3)硅片表面钝化减反膜;
4)在硅片表面进行掩膜,形成掩膜层后采用丝网印刷技术在掩膜层上刻蚀正电极图形;
5)丝网印刷背电极和背电场,然后背面烧结;
6)采用电镀的方法制备正面电极,所用的电镀金属为Ni-Ag或Ni-Cu-Ag。
2.如权利要求1所述的高效太阳能电池的制造工艺,其特征在于:所述的步骤1)中的扩散工艺的方阻范围为40~120ohm/sq。
3.如权利要求1所述的高效太阳能电池的制造工艺,其特征在于:所述的步骤4)中表面掩膜采用二氧化硅,厚度为35~55nm。
4.如权利要求1所述的高效太阳能电池的制造工艺,其特征在于:所述的步骤4)中表面掩膜采用氮化硅,厚度35~55nm。
5.如权利要求1所述的高效太阳能电池的制造工艺,其特征在于:所述的硅片的电阻率为0.2~30Ωcm。
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





