[发明专利]驱动芯片的版图结构无效
申请号: | 201010612798.7 | 申请日: | 2010-12-30 |
公开(公告)号: | CN102142439A | 公开(公告)日: | 2011-08-03 |
发明(设计)人: | 杭晓伟;张祯;彭秋平 | 申请(专利权)人: | 苏州华芯微电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L29/423;H01L29/06;H01L29/08 |
代理公司: | 北京华夏博通专利事务所 11264 | 代理人: | 孙东风 |
地址: | 215011 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 驱动 芯片 版图 结构 | ||
技术领域
本发明涉及集成电路技术领域,尤其涉及一种驱动功率较大的芯片版图结构。
背景技术
随着人们对芯片的要求越来越高,在芯片的应用过程中,人们希望芯片不仅功能正确无误,有良好的性能,对芯片的面积要求也越来越高,所以对版图的要求也会提高。一般情况下芯片的驱动版图的结构如图1所示,这种多晶栅晶体管是由一系列源极接触(Source contact)和漏极接触(Drain contact)相互交叉排列形成的漏源叉指组成。尽管这样的排布非常简单,但晶体管的结构不够紧凑,因此占有用的芯片的面积较大,进而增加了生产成本。尤其对于大功率的芯片来说,由于芯片的工作电压基本不变,因此通过芯片的电流较大,容易使芯片发热,进而影响芯片的性能。
发明内容
本发明的目的在于提出一种驱动芯片的版图结构,其采用曲栅状晶体管的版图排列方式,以减小芯片的面积,提高芯片的性能及功能,进而改善器件在极限条件下的稳定性。
为实现上述目的,本发明提出如下技术方案:该版图结构的晶体管采用曲栅状的排列方式,即晶体管的栅极是采用平缓的大角度的弯曲方式延伸,栅极的两侧分别相间形成源极区接触和漏极区接触。
所述晶体管的栅极采用135度的弯曲方式;
所述晶体管相接的栅极进行两次135度弯折后平行延伸;
所述源极区接触和漏极区接触呈对角状分布;
所述版图结构的两侧易植入分布式背栅接触孔以对芯片上的晶体管进行扩展。
与背景技术相比,本发明所揭示的驱动芯片的版图结构,由于是采用曲栅状排列的晶体管结构,即晶体管的栅极采用较为平缓的135度的弯曲方式延伸,增加了栅极的宽度,使得栅极条的排布更为紧密,其较背景技术中版图结构减少了一半的芯片面积,降低了生产成本。同时,由于源极区接触孔和漏极区接触孔呈对角放置,增加了源/漏限流作用,改善了电子器件在极限条件下的稳定性。
附图说明
图1为现有的驱动芯片的版图结构的示意图;
图2为本发明驱动芯片的版图结构的示意图;
图3为本发明驱动芯片植入背栅接触孔后的版图结构的示意图;
具体实施方式
如图2所示,为本发明大功率驱动的芯片结构的一种最佳实施方式,其晶体管是采用曲栅状的排列方式,即多晶硅的栅极(poly)并非采用图1中的90度的弯曲布置,而是采用较为平缓的135度的对称的弯曲方式(采用135度弯曲的方式为最优的弯曲方式),即相接的栅极是经过两次135度的弯折后平行延伸,形成如图2所示的分布形式,在弯曲区域相间的两侧分别形成源极区接触(Source contact)和漏极区接触(Drain contact),且源极区接触和漏极区接触呈对角状排布。这样的弯曲排布的曲栅增加了栅极的宽度,使得晶体管的源极极接触和漏极极接触,以及栅极条的排列更加紧密,从而减少了芯片的面积(这种方式排列的版图较背景技术中版图能减小一般芯片的面积),同时,由于栅极的弯曲采用的是较为平缓的135度弯曲,因此也不容易发生局部雪崩击穿。
此外,由于源极区接触和漏极区接触孔呈对角放置,因此源极区接触和漏极区接触之间的氧化层的面积增加,亦即等效于源极和漏极之间的电阻增大,这样进一步增加了源/漏限流作用,从而改善电子器件在极限条件下的稳定性,例如在进行ESD(Electrostatic Discharge,静电放电)测试中可能遇到的情况,提高了电子器件的整体性能。
更进一步,如图3示,在不牺牲更多的芯片面积的同时,这种版图结构的芯片根据实际需要,很容易实现在芯片的两侧进行同样排列方式的晶体管的扩展,即在芯片的两侧植入大范围的分布式背栅接触孔网络,使得这种器件适用于经常发生瞬态过载的情况。
本发明的技术内容及技术特征已揭示如上,然而熟悉本领域的技术人员仍可能基于本发明的教示及揭示而作种种不背离本发明精神的替换及修饰,因此,本发明保护范围应不限于实施例所揭示的内容,而应包括各种不背离本发明的替换及修饰,并为本专利申请权利要求所涵盖。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的