[发明专利]壳体及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种壳体及其制作方法，尤其涉及一种具有蓝色外观的壳体及其制作方法。

背景技术

为了使电子装置的外壳具有丰富色彩，目前主要通过阳极氧化、烤漆、烤瓷等工艺制备装饰涂层。相比这些传统工艺，PVD镀膜技更加绿色环保，且采用PVD镀膜技术可在产品外壳表面形成具有金属质感的装饰色彩层。

然而现有技术中，利用PVD镀膜技术于壳体表面形成的膜层的色彩非常有限，目前能够广泛制备和使用的PVD膜层主要为金黄色、黑色、蓝色等色系，能够稳定生产的颜色更是少之又少。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种能够稳定生产的蓝色的PVD镀膜的壳体。

另外，本发明还提供一种上述壳体的制作方法。

一种壳体，其包括基体及形成于基体表面的色彩层，该色彩层为氮氧化锡层，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L^*坐标介于35至38之间，a^*坐标介于3至4之间，b^*坐标介于-10至-15之间。

一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：

提供一基体；

在该基体的表面形成一色彩层，该色彩层为氮氧化锡层，形成所述色彩层采用磁控溅射法，以锡靶为靶材，以氧气和氮气为反应气体，控制氧气的流量为50～150sccm，氮气的流量为10～50sccm，溅射的温度为50～100℃，溅射的时间为15～30min；所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L^*坐标介于35至38之间，a^*坐标介于3至4之间，b^*坐标介于-10至-15之间。

相较于现有技术，所述壳体的制备方法在形成色彩层时，通过对靶材的选取、反应气体氧气和氮气流量的设计和对溅射温度和溅射时间的控制，从而达到使色彩层呈现蓝色的目的。以该方法所制得的壳体呈现出具有吸引力的蓝色的外观，丰富了真空镀膜层的颜色，极大地提高了产品的外观竞争力。

附图说明

图1是本发明一较佳实施例壳体的剖视图。

主要元件符号说明

壳体    10

基体    11

色彩层  13

具体实施方式

请参阅图1，本发明一较佳实施例的壳体10包括基体11及形成于基体11表面的色彩层13。该色彩层13呈现蓝色。

基体11的材质可为金属、玻璃、陶瓷或塑料。

色彩层13可以磁控溅射的方式形成于基体11的表面。该色彩层13为氮氧化锡(SnON)层。该色彩层13的厚度可为300～450nm。该色彩层13肉眼直观呈现蓝色，而其呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L^*坐标介于35至38之间，a^*坐标介于3至4之间，b^*坐标介于-10至-15之间。

本发明壳体10的制作方法包括以下步骤：

提供一基体11。该基体11的材质可为金属、玻璃、陶瓷或塑料。

将基体11放入无水乙醇中进行超声波清洗并烘干备用。

在基体11的表面形成一色彩层13。该色彩层13为氮氧化锡层。该色彩层13采用磁控溅射的方式形成。形成该色彩层13的具体操作方法可为：将基体11固定于一磁控溅射镀膜机(图未示)的转架上，设置转架的公转转速为3rpm(转/分钟)，抽真空使该镀膜机的腔体的真空度为8×10^-5Pa，加热该腔体使温度为100～110℃；以锡靶为靶材，开启锡靶，设定锡靶的功率为3～4kw，设定施加于基体11的偏压为-100～-200V；通入反应气体氧气和氮气，氧气的流量可为50～150sccm(标准状态毫升/分钟)，氮气的流量可为10～50sccm；通入工作气体氩气，氩气的流量可为200～300sccm，沉积所述色彩层13。沉积所述色彩层13的时间可为15～30min。所述色彩层13的厚度可为300～450nm。

该色彩层13于CIE LAB表色系统的L^*坐标介于35至38之间，a^*坐标介于3至4之间，b^*坐标介于-10至-15之间。

本发明壳体10可为笔记型计算机、个人数字助理等电子装置的壳体，或为其他装饰类产品的壳体。

相较于现有技术，所述壳体10的制备方法在形成色彩层13时，通过对靶材的选取、反应气体氧气和氮气流量的设计和对溅射温度和溅射时间的控制，从而达到使色彩层13呈现蓝色的目的。以该方法所制得的壳体10呈现出具有吸引力的蓝色的外观，丰富了真空镀膜层的颜色，极大地提高了产品的外观竞争力。