[发明专利]壳体及其制作方法

权利要求书

1.一种壳体，包括基体、结合层以及色彩层，所述结合层形成于基体的表面，所述色彩层形成于结合层的表面，其特征在于：所述色彩层为Zr-N膜，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L^*坐标值介于40至50之间，a^*坐标值介于-25至-15之间，b^*坐标值介于-45至-35之间。

2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述结合层为钛金属膜，其厚度0.1～0.3μm。

3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述色彩层的厚度为0.3～0.5μm。

4.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述基体为金属材料、玻璃、或塑料。

5.一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：

提供一基体；

在该基体的表面磁控溅射一结合层；

在该结合层的表面磁控溅射一色彩层，磁控溅射所述色彩层的工艺参数为：以锆为靶材，以氮气及氩气为工作气体，其中氮气与氩气总的流量为150-700sccm，氮气的分压占总的气体压强的20～40％；所述色彩层为Zr-N膜，所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L^*坐标值介于40至50之间，a^*坐标值介于-25至-15之间，b^*坐标值介于-45至-35之间。

6.如权利要求5所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述结合层为钛金属膜，形成该结合层的工艺参数为：设置钛靶的电源功率功率为8-10kw，对基体施加的偏压为0～-200V，占空比为0～100％，镀膜时间为5～10分钟。

7.如权利要求5所述的壳体的制作方法，其特征在于：形成该色彩层的工艺参数为：设置锆靶的电源功率功率为8-12kw，对基体施加的偏压为0～-250V，占空比为0～100％，镀膜时间为20～40分钟。