[发明专利]盐及包含该盐的光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种如式(I-Pa)所示的盐：

其中X^Pa代表单键或C1-C4亚烷基，R^Pa代表单键、C4-C36二价脂环烃基或C6-C36二价芳香烃基，其中所述二价脂环烃基中的一个以上的亚甲基可用-O-或-CO-替代，

Y^Pa代表可聚合的基团，以及

Z^Pa+代表有机阳离子。

2.如权利要求1所述的盐，其特征在于，所述可聚合的基团为乙烯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基，并且所述乙烯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、丙烯酰氧基以及甲基丙烯酰氧基可具有一个以上的取代基。

3.如权利要求1所述的盐，其特征在于，所述Z^Pa+是如式(IXa)所示的阳离子：

其中P^B、P^C和P^D独立地各自代表可具有一个以上取代基的C1-C10脂肪烃基、可具有一个以上取代基的C4-C36脂环烃基、可具有一个以上取代基的C6-C36芳香烃基、或者可具有一个以上取代基的C3-C36杂环基，并且P^B、P^C和P^D中的任意两个可彼此成键从而形成环，其中所述脂肪烃基和所述脂环烃基中的一个以上的亚甲基可被-CO-或-O-取代。

4.如权利要求1所述的盐，其特征在于，R^Pa为单键或金刚烷基二基基团。

5.一种包含由权利要求1所述的盐衍生的结构单元的聚合物。

6.一种包含产酸剂和如权利要求5所述的聚合物的光致抗蚀剂组合物。

7.一种包含如权利要求1所述的盐、产酸剂以及树脂的光致抗蚀剂组合物，其中所述树脂包含具有酸不稳定性基团的结构单元，并且所述树脂不溶于或微溶于碱性水溶液，但在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液。

8.如权利要求6或7所述的光致抗蚀剂组合物，其特征在于，所述光致抗蚀剂组合物还包含碱性化合物。

9.一种用于形成光致抗蚀图案的方法，包括如下步骤(1)至(5)：

(1)将如权利要求6、7或8所述的光致抗蚀剂组合物施用在基材上，

(2)通过进行干燥形成光致抗蚀剂膜，

(3)使光致抗蚀剂膜曝露在辐射下，

(4)焙烤经曝露的光致抗蚀剂膜，以及

(5)用碱性显影剂显影经焙烤的光致抗蚀剂膜，从而形成光致抗蚀图案。