[发明专利]一种掩模版附着颗粒物比对管理方法

权利要求书

1.一种掩模版附着颗粒物比对管理方法，包括以下步骤：

依据掩模版的等级设定不同等级的掩模版上附着颗粒物的比对标准；

将掩模版送入扫描机台中进行颗粒物扫描，得出扫描结果；

依据掩模版的等级选择已设定的相应等级的掩模版附着颗粒物的比对标准，并将扫描结果同该比对标准进行比较，若符合标准则该掩模版被列入待分配掩模版阵列，若不符合标准则该掩模版被列入待清洁掩模版阵列。

2.如权利要求1所述的掩模版附着颗粒物比对管理方法，其特征在于，所述扫描结果包括掩模版上各个颗粒物的大小。

3.如权利要求1所述的掩模版附着颗粒物比对管理方法，其特征在于，所述不同等级的掩模版上附着颗粒物的比对标准包括该等级掩模版上附着颗粒物的大小等级的判断标准以及各个大小等级的颗粒物所能允许存在的最多个数。

4.如权利要求3所述的掩模版附着颗粒物比对管理方法，其特征在于，所述将扫描结果同该比对标准进行比较的步骤包括：首先依据选定的比对标准中设定的颗粒物大小等级比对标准确定所述扫描结果中各颗粒物的大小等级；其次，对各个大小等级的颗粒物数量进行统计；最后将统计得到的各个大小等级的颗粒物数量与选定的比对标准中所设定的各个大小等级的颗粒物所能允许存在的最多个数进行比较。

5.如权利要求1或4所述的掩模版附着颗粒物比对管理方法，其特征在于，所述符合标准为任一大小等级的颗粒物数量小于等于比对标准中相应大小等级的颗粒物允许存在的最多个数。