[发明专利]放射线敏感性组合物、保护膜、层间绝缘膜以及它们的形成方法

权利要求书

1.一种放射线敏感性组合物，其包括：

[A]硅氧烷聚合物，

[B]选自由下式(1)和(3)分别表示的化合物构成的群组中的至少一种硅烷化合物，以及

[C]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂；

(R¹O)₃Si-R²-Si(OR³)₃          (1)

式(1)中，R¹和R³各自独立地是碳原子数为1～4的烷基，R²是碳原子数为1～6的亚烷基、亚苯基或式(2)所示的基团，式(2)中，a是1～4的整数，式(3)中，R⁴、R⁵和R⁶各自独立地是碳原子数为1～4的烷基，b、c和d各自独立地是1～6的整数。

2.根据权利要求1所记载的放射线敏感性组合物，其中[A]硅氧烷聚合物是下式(4)所示的水解性硅烷化合物的水解缩合物，

(R⁷)_q-Si-(OR⁸)_4-q              (4)式(4)中，R⁷是碳原子数为1～20的非水解性的有机基团，R⁸是碳原子数为1～4的烷基，q是0～3的整数。

3.根据权利要求1或2所记载的放射线敏感性组合物，其进一步含有[D]脱水剂。

4.根据权利要求1、权利要求2或权利要求3记载的放射线敏感性组合物，其中使用选自由三苯基锍盐和四氢噻吩鎓盐构成的群组中的至少一种作为[C]放射线敏感性酸产生剂。

5.根据权利要求1、权利要求2或权利要求3记载的放射线敏感性组合物，其中使用选自由2-硝基苄基环己基氨基甲酸酯和O-氨基甲酰基羟基酰胺构成的群组中的至少一种作为[C]放射线敏感性碱产生剂。

6.根据权利要求1至5任一项所记载的放射线敏感性组合物，其用于形成液晶显示元件的保护膜或层间绝缘膜。

7.一种液晶显示元件用保护膜或层间绝缘膜的形成方法，其包括：

(1)在基板上形成权利要求6所记载的放射线敏感性组合物的涂膜的工序，

(2)对工序(1)形成的涂膜的至少一部分照射放射线的工序，

(3)将工序(2)中照射放射线的涂膜显影的工序，以及

(4)将工序(3)显影的涂膜加热的工序。

8.由权利要求6所记载的放射线敏感性组合物形成的液晶显示元件的保护膜或层间绝缘膜。