[发明专利]低电容光电二极管元件和计算机断层造影检测器有效

专利信息
申请号: 201010178129.3 申请日: 2010-05-04
公开(公告)号: CN101882626A 公开(公告)日: 2010-11-10
发明(设计)人: A·伊赫列夫;李文;J·A·考策尔 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: H01L27/144 分类号: H01L27/144;H01L31/08;A61B6/03
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 柯广华;徐予红
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 电容 光电二极管 元件 计算机 断层 造影 检测器
【权利要求书】:

1.一种光电二极管元件(20),包括:

包括第一扩散类型的第一层(22);

定义电荷收集区域(29)的第二层(24),所述电荷收集区域(29)包括第二扩散类型的活性区(32)以及无活性区(33),所述活性区(32)围绕所述无活性区(33);以及

设置在所述第一层(22)与所述第二层(24)之间的本征半导体层(26)。

2.如权利要求1所述的光电二极管元件(20),其中,所述活性区(32)和所述无活性区(33)被配置成降低所述光电二极管元件(20)的电容。

3.如权利要求1所述的光电二极管元件(20),其中,所述第一扩散类型包括P+扩散。

4.如权利要求1所述的光电二极管元件(20),其中,所述第一扩散类型包括N+扩散。

5.如权利要求1所述的光电二极管元件(20),其中,所述活性区(32)包括网格。

6.如权利要求1所述的光电二极管元件(20),其中,所述无活性区(33)的尺寸由最短载流子扩散距离来确定。

7.一种光电二极管元件(20),包括:

包括第一扩散类型的第一层(22);

定义电荷收集区域(29)的第二层(24),所述电荷收集区域(29)包括第二扩散类型的多个活性区(55)以及无活性区(57),所述多个活性区(55)被电互连;以及

设置在所述第一层(22)与所述第二层(24)之间的本征半导体层(26)。

8.如权利要求7所述的光电二极管元件(20),其中,所述第一扩散类型包括P+扩散。

9.如权利要求7所述的光电二极管元件(20),其中,所述第一扩散类型包括N+扩散。

10.如权利要求7所述的光电二极管元件(20),还包括连接所述多个活性区中的两个的导电触点(56)。

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