[发明专利]清洗组合物

说明书

技术领域

本发明涉及一种清洗组合物，其用于自湿处理设备内部除去污染物。更具体的说，本发明涉及一种清洗组合物，其用于半导体或平板显示器(FPD)的制造工艺和类似工艺。

背景技术

在半导体或FPD的制造工艺中，大部分的清洗剂为超纯水，从该超纯水中已尽可能多地除去溶解在水中的有机物、无机物、细微颗粒和微生物，且该超纯水制备为具有18.25兆欧姆(mega-ohms)的理论比电导率。此外，除清洗剂外还使用诸如剥膜液和蚀刻液的湿化学品。尽管超纯水处于具有最小量细菌的状态且清洗工艺不是敞开的循环体系，但即使微生物以极微小的量存在于超纯水中，由此产生的黏液和细菌残骸可能粘附到罐体或管道的内壁上。此外，在半导体或FPD的制造工艺的湿处理中使用的化学品不完全溶解而仅仅剥离目标(如颗粒、重金属、光刻胶金属膜等)的情况下，也可能发生漂浮物积累在罐体或管道的缝隙中的现象。如果随后的工艺在如此产生的污染物以预定流速被部分放出，从而粘附到清洗后的膜上的状态下进行，可能会在膜上形成针孔或坑，或产生线路断裂或桥接，不合期望地导致产品良率降低。

因此，以除去这些污染物为目标，要周期性地进行清洗以保养设备。然而就工艺管道而言，必须将其分开和清洗，由此除去污染物。而且，仅当用刷子或者类似物施加物理力以从罐体或者设备内部剥离污染物时，才有可能获得所需的效果。为此，生产设备的操作不得不停止以移除这些污染物，这不可避免地导致了金钱损失。

因此，为了避免这样的金钱损失，增强清洗能力的各种各样的清洗剂被开发出来。例如，日本经审查的专利公布号sho.41-15116公开了一种抑制处理水中微生物的生长的方法，其通过使混合的次氯酸盐和氨基磺酸盐溶液反应，由此制备反应产物N-氯代氨基磺酸盐溶液，并且供应此溶液到水状的处理水中。尽管这种组合物在某种程度上可能分离并移除粘附到罐体或管道内壁的污染物，但这些污染物仅微溶在内，不合期望地引发二次污染，借此分离的污染物会再次粘附到罐体或管道内壁。

类似地，韩国未经审查的专利公开号10-2005-0004163公开了一种用于防止黏液的组合物，其包括氯基氧化剂，氨基磺酸化合物和阴离子聚合物或磷酸化合物。然而，这种组合物的能力也如日本经审查的专利公布号sho.41-15116公开的组合物一样，不足以除去污染物，并且有二次污染的担忧。

发明内容

因此，鉴于相关领域中所遇到的问题，创造出了本发明，本发明旨在提供一种清洗组合物，其使得已粘附于或者以黏液的形式存在于湿处理设备内部的污染物能被有效的剥离和移除，甚至毋须施加物理力，且也能被完全溶解由此将二次污染减至最低。

本发明的一个方面提供一种不含氨基磺酸化合物的清洗组合物，其包括，基于组合物的总重量，0.1～20wt％的氯基氧化剂和0.1～20wt％的碱性化合物，剩余物为水。

附图说明

由结合附图的以下详细说明将更清楚地理解本发明的特点和优点，其中：

图1是显示了通过浸泡在实例1的清洗组合物内，清洗其上沾附细菌杂质的塑料管的结果的照片；

图2是显示了通过浸泡在实例3的清洗组合物内，清洗清洗擦的结果的照片，该清洗擦用来从用于FPD制造工艺的蚀刻工艺的罐体内部收集杂质，从而带有这些杂质；和

图3是显示了通过浸泡在对比实例4的清洗组合物内，清洗清洗擦后，浸泡的容器的状态照片，该清洗擦用来从用于FPD制造工艺中的蚀刻工艺的罐体内部收集杂质，从而带有这些杂质。

具体实施方式

在下文中给出本发明的详细说明。

本发明关于一种不含氨基磺酸化合物的清洗组合物，其包括基于组合物的总重量，0.1～20wt％的氯基氧化剂，和0.1～20wt％的碱性化合物，剩余物为水。

根据本发明的清洗组合物不包含氨基磺酸化合物。在包含氨基磺酸化合物的情况下，可以改善氯基氧化剂的稳定性，但很难提高清洗组合物溶解污染物的能力。包含在根据本发明的清洗组合物内的碱性化合物可以使氯基氧化剂稳定并且高度地溶解污染物，从而给予根据本发明的清洗组合物更好的效果。根据本发明的清洗组合物，其组成非常简单，可以显现强清洗能力。