[发明专利]清洗组合物

权利要求书

1.一种不含氨基磺酸化合物的清洗组合物，包含：基于所述组合物的总重量，0.1～20wt％的氯基氧化剂和0.1～20wt％的碱性化合物，剩余物为水。

2.如权利要求1所述的清洗组合物，其中所述氯基氧化剂包含由氯、碱金属次氯酸盐、碱土金属次氯酸盐、碱金属亚氯酸盐、碱土金属亚氯酸盐、碱金属氯酸盐、碱土金属氯酸盐和亚氯酸镍构成的组中选出的一种或者多种。

3.如权利要求2所述的清洗组合物，其中所述氯基氧化剂包含由氯、碱金属次氯酸盐和碱土金属次氯酸盐构成的组中选出的一种或者多种。

4.如权利要求1所述的清洗组合物，其中所述碱性化合物包含由氢氧化铵、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化钙、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵和氢氧化胆碱构成的组中选出的一种或者多种。

5.如权利要求1所述的清洗组合物，进一步包含多功能添加剂。

6.如权利要求5所述的清洗组合物，其中所述多功能添加剂是烷醇胺盐，且所述烷醇胺盐包含由单乙醇胺盐、二乙醇胺盐、三乙醇胺盐、单异丙醇胺盐、二异丙醇胺盐和三异丙醇胺盐构成的组中选出的一种或者多种。

7.如权利要求5所述的清洗组合物，其中所述多功能添加剂使用基于所述组合物的所述总重量的0.001～5.0wt％的量。

8.如权利要求1～7中任一项所述的清洗组合物，其中所述清洗组合物的pH为8～14。

9.如权利要求1～7中任一项所述的清洗组合物，其中所述清洗组合物用来清洗用于半导体或者平板显示器的湿处理的设备。