[发明专利]层叠型陶瓷电子元器件的制造方法无效
申请号: | 201010157110.0 | 申请日: | 2010-03-31 |
公开(公告)号: | CN101861059A | 公开(公告)日: | 2010-10-13 |
发明(设计)人: | 松原大悟 | 申请(专利权)人: | 株式会社村田制作所 |
主分类号: | H05K3/46 | 分类号: | H05K3/46;H05K1/16 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 张鑫;胡烨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 层叠 陶瓷 电子元器件 制造 方法 | ||
1.一种层叠型陶瓷电子元器件的制造方法,该方法所制造的层叠型陶瓷电子元器件包括:至少表面具有由铁氧体制成的铁氧体层以构成的陶瓷层叠体;以及形成于所述陶瓷层叠体的表面且含有金属氧化物的外部电极,其特征在于,
所述制造方法包括:
通过烧成来准备成为具有所述外部电极的所述层叠型陶瓷电子元器件的半成品的层叠构造物的工序;以及
烧成所述半成品的层叠构造物的烧成工序,
所述烧成工序含有低氧烧成阶段,所述低氧烧成阶段在氧分压低于大气中的氧分压的条件下实施烧成。
2.如权利要求1所述的层叠型陶瓷电子元器件的制造方法,其特征在于,
在所述低氧烧成阶段中,设定氧浓度在10体积%以下。
3.如权利要求1或2所述的层叠型陶瓷电子元器件的制造方法,其特征在于,
所述金属氧化物的材料与形成所述铁氧体的材料相同。
4.如权利要求1至3中任一项所述的层叠型陶瓷电子元器件的制造方法,其特征在于,
所述半成品的层叠构造物中的所述外部电极所含有的所述金属氧化物的含有量在0.1~10重量%的范围内。
5.如权利要求1至4中任一项所述的层叠型陶瓷电子元器件的制造方法,其特征在于,
所述半成品的层叠构造物在其内部具有内部布线导体,以使该内部布线导体中不含有金属氧化物。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社村田制作所,未经株式会社村田制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010157110.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:利多卡因胶带制剂
- 下一篇:用于动态带宽管理的方法和设备