[发明专利]具抗氧化纳米薄膜的散热单元及抗氧化纳米薄膜沉积方法有效

专利信息
申请号: 201010142112.2 申请日: 2010-03-30
公开(公告)号: CN102208377A 公开(公告)日: 2011-10-05
发明(设计)人: 陈盈同 申请(专利权)人: 陈盈同
主分类号: H01L23/373 分类号: H01L23/373;H05K7/20;C23C18/16
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 孙皓晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 氧化 纳米 薄膜 散热 单元 沉积 方法
【权利要求书】:

1.一种具抗氧化纳米薄膜的散热单元,其特征在于包含:

一金属本体,具有一受热部及一散热部,该受热部及散热部外部披覆有至少一纳米金属化合物薄膜,所述纳米金属化合物薄膜是由一还原气体及一纳米氧化物涂层与前述金属本体反应所形成。

2.如权利要求1所述的具抗氧化纳米薄膜的散热单元,其特征在于所述散热单元为散热器、均温板、散热鳍片组、热管、回路式热管及水冷头其中任一。

3.如权利要求1所述的具抗氧化纳米薄膜的散热单元,其特征在于所述纳米氧化物涂层选自于氧化硅(SiO2)、氧化钛(TiO2)、氧化铝(Al2O3)、氧化锆(ZrO2)、氧化钙(CaO)、氧化钾(K2O)及氧化锌(ZnO)所组成的群组。

4.如权利要求1所述的具抗氧化纳米薄膜的散热单元,其特征在于所述金属本体选自于铜、铝、镍及不锈钢所组成的群组。

5.一种具抗氧化纳米薄膜的散热单元,其特征在于包含:

一金属本体,所述金属本体具有一腔室,该腔室内部具有一毛细结构,所述毛细结构具有30%-60%的孔隙率,该毛细结构披覆有至少一纳米金属化合物薄膜,所述纳米金属化合物薄膜是由一还原气体及一纳米氧化物涂层与前述毛细结构反应所形成。

6.如权利要求5所述的具抗氧化纳米薄膜的散热单元,其特征在于所述散热单元为电击流道板、均温板、热管、平板式热管、回路式热管及水冷头其中任一。

7.如权利要求5所述的具抗氧化纳米薄膜的散热单元,其特征在于所述纳米氧化物涂层选自于氧化硅(SiO2)、氧化钛(TiO2)、氧化铝(Al2O3)、氧化锆(ZrO2)、氧化钙(CaO)、氧化钾(K2O)及氧化锌(ZnO)所组成的群组。

8.如权利要求5所述的具抗氧化纳米薄膜的散热单元,其特征在于所述金属本体选自于铜、铝、镍及不锈钢所组成的群组。

9.一种散热单元的抗氧化纳米薄膜沉积方法,其特征在于包含下列步骤:

提供一散热单元;

于前述散热单元表面涂布至少一纳米氧化物涂层;

于高温环境下通入一还原气体对该散热单元及散热单元表面的纳米氧化物涂层进行还原作业;

于热处理及还原作业后,在前述散热单元形成一纳米金属化合物薄膜。

10.如权利要求9所述的散热单元的抗氧化纳米薄膜沉积方法,其特征在于所述散热单元为电击流道板、散热器、均温板、散热鳍片组、热管、平板式热管、回路式热管及水冷头其中任一。

11.如权利要求9所述的散热单元的抗氧化纳米薄膜沉积方法,其特征在于所述还原气体为硫化氢、氢气、一氧化碳及氨气其中任一。

12.如权利要求9所述的散热单元的抗氧化纳米薄膜沉积方法,其特征在于所述还原作业温度为600度~1000度。

13.如权利要求12所述的散热单元的抗氧化纳米薄膜沉积方法,其特征在于所述还原作业温度为650度~850度。

14.如权利要求9所述的散热单元的抗氧化纳米薄膜沉积方法,其特征在于于散热单元表面涂布纳米氧化物涂层采用物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)及溶胶凝胶法(sol gel)其中任一。

15.如权利要求14所述的散热单元的抗氧化纳米薄膜沉积方法,其特征在于所述溶胶凝胶法为浸渍拉提式、沉降式、旋转涂布式、涂刷式及沾湿式其中任一。

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