[发明专利]半导体装置及电子设备有效

专利信息
申请号: 200980146497.5 申请日: 2009-11-19
公开(公告)号: CN102224579A 公开(公告)日: 2011-10-19
发明(设计)人: 中野高宏;内海胜喜;佐野光 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01L21/3205 分类号: H01L21/3205;H01L21/60;H01L23/12;H01L23/52;H01L27/14
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 黄剑锋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 装置 电子设备
【权利要求书】:

1.一种半导体装置,具备:

半导体基板;

贯通电极,将上述半导体基板沿厚度方向贯通而设置;

内部电极,设置在上述半导体基板的第1主面的、上述贯通电极到达的部分,与上述贯通电极电连接;

第1保护膜,将上述内部电极的一部分除外而覆盖上述第1主面;

第2保护膜,与上述第1保护膜离开而设置在上述内部电极的未被上述第1保护膜覆盖的部分;以及

金属布线,设置在上述半导体基板的与上述第1主面相反侧的第2主面,与上述贯通电极电连接。

2.如权利要求1所述的半导体装置,其中,

上述第2保护膜的面积比上述贯通电极与上述内部电极接触的区域的面积大。

3.如权利要求1所述的半导体装置,其中,

上述第2保护膜的形状是圆形。

4.如权利要求1所述的半导体装置,其中,

上述第2保护膜的形状是多边形。

5.如权利要求1所述的半导体装置,其中,

上述第2保护膜的形状是圆环状,上述第2保护膜的外径比上述贯通电极与上述内部电极接触的区域的直径大,上述第2保护膜的内径比上述区域的上述直径小。

6.如权利要求1所述的半导体装置,其中,

上述第1保护膜及上述第2保护膜都是无机材料。

7.如权利要求1所述的半导体装置,其中,

上述第1保护膜是无机材料;

上述第2保护膜是有机材料。

8.如权利要求1所述的半导体装置,其中,

上述半导体装置还具备第3保护膜,该第3保护膜设置在上述内部电极上,将上述第1保护膜与上述第2保护膜间的间隙的一部分填埋。

9.如权利要求1所述的半导体装置,其中,

上述半导体装置还具备将上述金属布线的一部分除外而覆盖上述第2主面的绝缘层。

10.如权利要求9所述的半导体装置,其中,

上述半导体装置还具备外部电极,该外部电极设置在上述金属布线的未被上述绝缘层覆盖的部分,与上述金属布线电连接。

11.一种电子设备,其中,

将权利要求1所述的半导体装置的上述金属布线或上述外部电极与在布线基板的表面设置的布线电连接而成。

12.一种半导体装置,其特征在于,具备:

半导体基板;

贯通电极,将上述半导体基板沿厚度方向贯通而设置;

内部电极,设置在上述半导体基板的第1主面的、上述贯通电极到达的部分,与上述贯通电极电连接;

保护膜,将上述内部电极的一部分除外而覆盖上述内部电极及上述第1主面;以及

金属布线,设置在上述半导体基板的与上述第1主面相反侧的第2主面,与上述贯通电极电连接;

在上述内部电极上,上述保护膜设有多个开口。

13.如权利要求12所述的半导体装置,其特征在于,

上述多个开口设置在上述贯通电极与上述内部电极接触的区域的外侧。

14.如权利要求12所述的半导体装置,其特征在于,

上述多个开口的形状是圆形。

15.如权利要求12所述的半导体装置,其特征在于,

上述多个开口的形状是多边形。

16.如权利要求15所述的半导体装置,其特征在于,

上述多边形的角部是曲线形状。

17.如权利要求12所述的半导体装置,其特征在于,

上述多个开口具有圆弧状的轮廓。

18.如权利要求12所述的半导体装置,其特征在于,

在一个上述内部电极上,上述保护膜的上述开口至少有两处以上。

19.如权利要求12所述的半导体装置,其特征在于,

在上述内部电极上,在上述保护膜上设有另一个保护膜。

20.如权利要求19所述的半导体装置,其特征在于,

上述另一个保护膜经由上述开口与上述内部电极接触。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社,未经松下电器产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980146497.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top