[发明专利]AlxGa(1-x)As衬底、红外LED用外延晶片、红外LED、制造AlxGa(1-x)As衬底的方法、制造红外LED用外延晶片的方法以及制造红外LED的方法无效
| 申请号: | 200980115891.2 | 申请日: | 2009-05-27 |
| 公开(公告)号: | CN102016136A | 公开(公告)日: | 2011-04-13 |
| 发明(设计)人: | 田中聪;宫原贤一;北林弘之;片山浩二;森下知典;森分达也 | 申请(专利权)人: | 住友电气工业株式会社 |
| 主分类号: | C30B29/42 | 分类号: | C30B29/42;C30B19/12;H01L21/205;H01L33/00 |
| 代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 陈海涛;樊卫民 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | al sub ga as 衬底 红外 led 外延 晶片 制造 方法 以及 | ||
1.一种具有AlxGa(1-x)As层(0≤x≤1)的AlxGa(1-x)As衬底,所述AlxGa(1-x)As层具有主面和在所述主面相反侧的背面;所述AlxGa(1-x)As衬底的特征在于,
在所述AlxGa(1-x)As层中,所述背面中Al的组成比x大于所述主面中Al的组成比x。
2.如权利要求1所述的AlxGa(1-x)As衬底,其中:
所述AlxGa(1-x)As层含有多个薄层;以及
所述多个薄层的各个薄层中Al的组成比x沿着自所述AlxGa(1-x)As层的背面侧的平面至其主面侧的平面的方向单调下降。
3.如权利要求1或2所述的AlxGa(1-x)As衬底,还具有与所述AlxGa(1-x)As层的所述背面接触的GaAs衬底。
4.一种红外LED用外延晶片,所述外延晶片具有:
权利要求1~3中任一项所述的AlxGa(1-x)As衬底;和
在所述AlxGa(1-x)As层的所述主面上形成的且包含有源层的外延层。
5.如权利要求4所述的红外LED用外延晶片,其中在外延层的与所述AlxGa(1-x)As层接触的平面中Al的组成比x大于在AlxGa(1-x)As层的与所述外延层接触的平面中Al的组成比x。
6.一种红外LED用外延晶片,所述外延晶片具有:
权利要求1或2所述的AlxGa(1-x)As衬底;
在所述AlxGa(1-x)As层的所述主面上形成的且包含有源层的外延层;
在所述外延层的与所述AlxGa(1-x)As层接触的平面相反侧的所述主面上形成的粘附层;以及
通过所述粘附层接合到所述外延层的所述主面的支持衬底。
7.如权利要求6所述的红外LED用外延晶片,其中所述粘附层和所述支持衬底是导电材料。
8.如权利要求6或7所述的红外LED用外延晶片,其中所述支持衬底由包含选自硅、砷化镓和碳化硅中的至少一种物质的材料构成。
9.如权利要求6~8中任一项所述的红外LED用外延晶片,还具有在所述粘附层和所述外延层之间形成的导电层和反射层,其中:
所述导电层相对于所述有源层发射的光是透明的;以及
所述反射层由反射光的金属材料制成。
10.如权利要求9所述的红外LED用外延晶片,其中所述导电层由包含选自氧化铟和氧化锡的混合物、含铝原子的氧化锌、含氟原子的氧化锡、氧化锌、硒化锌和氧化镓中的至少一种物质的材料构成。
11.如权利要求9或10所述的红外LED用外延晶片,其中所述反射层由包含选自铝、金、铂、银、铜、铬和钯中的至少一种物质的材料构成。
12.如权利要求6所述的红外LED用外延晶片,其中所述粘附层相对于所述外延层和所述支持衬底具有粘性,且所述粘附层为能透过所述有源层发射的光的透明胶粘性材料。
13.如权利要求12所述的红外LED用外延晶片,其中所述粘附层由包含选自聚酰亚胺树脂、环氧树脂、有机硅树脂和全氟环丁烷中的至少一种物质的材料构成。
14.如权利要求12或13所述的红外LED用外延晶片,其中所述支持衬底为能透过所述有源层发射的光的透明基板。
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