[发明专利]组合成像以及痕迹检测检查系统和方法

权利要求书

1.一种用于定位以及识别对象上的违禁品的方法，所述方法包括：

利用多个成像传感器扫描对象以收集辐射测量数据；

利用痕迹检测传感器从位于对象上或位于对象附近的化学蒸汽和粒子收集化学数据；

融合收集的辐射测量数据以及收集的化学数据以生成违禁品的位置以及违禁品的化学组分的概率中的至少一个。

2.根据权利要求1所述的方法，其中扫描对象包括通过使用多个被配置成在电磁频谱的毫米波区域内工作的辐射测量成像传感器来扫描对象。

3.根据权利要求1所述的方法，其中扫描对象包括通过使用多个被配置成在具有至少1太赫兹的较低频率的电磁频谱的区域内工作的辐射测量成像传感器来扫描对象。

4.根据权利要求1所述的方法，其中扫描对象包括通过使用多个核四极共振传感器来扫描对象。

5.根据权利要求1所述的方法，其中扫描对象包括在第一方向上机械地移动多个成像传感器。

6.根据权利要求1所述的方法，其中收集化学数据包括通过使用离子迁移率光谱传感器来收集化学数据。

7.根据权利要求1所述的方法，其中收集化学数据包括通过使用核共振荧光传感器来收集化学数据。

8.根据权利要求1所述的方法，其中融合辐射测量数据以及化学数据包括将辐射测量数据的元数据与化学数据的元数据组合以生成向用户显示的融合图像，该融合图像包括辐射测量图像以及叠加的化学数据。

9.一种用于定位以及识别对象上的违禁品的安全入口，所述安全入口包括：

多个成像传感器，用于收集对象的辐射测量数据；

痕迹采样传感器，用于从对象收集化学数据；以及

计算机系统，被配置成在操作上耦合至所述多个成像传感器以及所述痕迹采样传感器，所述计算机系统进一步被配置成融合辐射测量数据以及化学数据以获得违禁品的位置以及组分中的至少一个。

10.根据权利要求9所述的的安全入口，进一步包括包括门架，该门架包括圆柱形形状要素，当收集对象的辐射测量数据时，所述多个成像传感器在所述门架内机械地移动。

11.根据权利要求9所述的的安全入口，其中所述多个成像传感器被配置成在电磁频谱的毫米波区域和具有至少1太赫兹的较低边界频率的电磁频谱的区域之一内工作。

12.根据权利要求9所述的的安全入口，其中所述多个成像传感器包括多个核四极共振传感器。

13.根据权利要求9所述的的安全入口，其中所述痕迹采样传感器包括离子迁移率光谱传感器。

14.根据权利要求9所述的的安全入口，其中所述痕迹采样传感器包括核共振荧光传感器。

15.根据权利要求9所述的的安全入口，其中所述计算机系统进一步被配置成将辐射测量数据的元数据与化学数据的元数据组合以生成向用户显示的融合图像，该融合图像包括辐射测量图像以及叠加的化学数据。

16.一种用于定位以及识别对象上的违禁品的系统，所述系统包括：

门架，包括圆柱形形状要素；

多个成像传感器，被配置成在所述门架内机械地移动以收集对象的辐射测量数据；

痕迹采样传感器，耦合至所述门架并被配置成从对象收集化学数据；以及

计算机系统，电耦合至所述多个成像传感器以及所述痕迹采样传感器，所述计算机系统被配置成融合辐射测量数据以及化学数据来确定违禁品的位置和组分中的至少一个。

17.根据权利要求16所述的的系统，其中所述多个成像传感器被配置成在电磁频谱的毫米波区域和具有至少1太赫兹的较低边界频率的电磁频谱的区域之一内工作。

18.根据权利要求16所述的的系统，其中所述多个成像传感器包括多个核四极共振传感器。

19.根据权利要求16所述的的系统，其中所述痕迹采样传感器包括离子迁移率光谱传感器和核共振荧光传感器之一。

20.根据权利要求16所述的的系统，其中所述计算机系统进一步被配置成将辐射测量数据的元数据与化学数据的元数据组合以生成向用户显示的融合图像，该融合图像包括辐射测量图像以及叠加的化学数据。