[实用新型]一种半导体致冷装置无效
申请号: | 200820200121.0 | 申请日: | 2008-09-02 |
公开(公告)号: | CN201269667Y | 公开(公告)日: | 2009-07-08 |
发明(设计)人: | 胡振辉 | 申请(专利权)人: | 胡振辉 |
主分类号: | F25B21/02 | 分类号: | F25B21/02 |
代理公司: | 中山市科创专利代理有限公司 | 代理人: | 尹文涛 |
地址: | 528403广东省中山市东凤镇*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半导体 致冷 装置 | ||
1、一种半导体致冷装置,包括有热电堆(1)、铝质的散热件(2)和导冷件(3),其特征在于所述热电堆(1)上的上导流片(11)外侧与所述散热件(2)贴合,散热件(2)与上导流片(11)接触端设有极氧化层(211),所述热电堆(1)上的下导流片(12)外侧与所述导冷件(3)贴合,导冷件(3)与下导流片(12)接触端设有阳极氧化层(311)。
2、根据权利要求1所述的一种半导体致冷装置,其特征在于所述上导流片(11)和下导流片(12)均为铜片。
3、根据权利要求1所述的一种半导体致冷装置,其特征在于所述散热件(2)上相对所述上导流片(11)的一侧设有规则排列的多个散热片(210);所述导冷件(3)上相对所述下导流片(12)一侧设有用于增大与空气接触面的多个传导片(310)。
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