[实用新型]框架分离自动上料装置有效
申请号: | 200820176494.9 | 申请日: | 2008-12-17 |
公开(公告)号: | CN201360000Y | 公开(公告)日: | 2009-12-09 |
发明(设计)人: | 姚剑锋;曾威;陈硕 | 申请(专利权)人: | 佛山市蓝箭电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/50 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 王月玲;艾持平 |
地址: | 528000广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 框架 分离 自动 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种半导体后工序封装设备,主要涉及自动粘片 机中的框架分离自动上料装置。
背景技术
在半导体后工序封装中,框架是一叠叠成包包装的,自动粘片机 工作时,拆掉包装将一叠叠框架放进框架槽中,上料机构再依次序将 框架一排排取出,放到机器的设定位置上,然后将框架一排排按顺序 输送进入自动粘片机轨道内,再将芯片粘结到框架上进行粘片。为了 保证自动粘片机连续、稳定地工作,必须按要求将一叠叠框架逐排送 到预设的工作位置上,然后再由钩爪将框架输送进入轨道内。
现有的自动粘片机上料装置中,对于引脚凸起的框架,一般采用 真空吸附的方法,尤其对于引脚不在同一个平面上的晶体管框架,如: SOT-89、TO-126框架等,通常的做法是通过真空将框架一排排地吸附 到预设的工作位置。现有的上料机构存在几个缺点:一是装置复杂, 制造成本高,它至少需要两个电机和一个电磁阀才能实现完整的动作; 二是故障率较高而准确率低,真空吸头容易磨损,有时不能吸附起一 排框架,有时又会一次吸附起两排框架。现有上料机构复杂、成本高, 故障率大,严重影响工作效率。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题在于针对现有技术的不足,提供 一种框架分离自动上料装置,该装置结构简单、框架运动位置准确、 故障率低;对框架的适应性高,引脚凸起高度不同的框架,均能操作 自如。
本实用新型所要解决的技术问题是通过如下技术方案实现的:
一种框架分离自动上料装置,该装置包括一分离板,分离板的上 方设有框架槽,分离板的上表面开设有用于容纳框架的凹槽,分离板 下方设有驱动装置,在驱动装置的驱动下,分离板在框架槽下方的分 离位置和预设的工作位置之间沿平面往复运动定位。
所述的驱动装置包括一凸轮,凸轮两侧分别设有拉杆和推杆,拉 杆一端固定,另一端与弹性元件的一端相连;推杆一端固定,另一端 可移动设置在分离板的下表面上,弹性元件的另一端与推杆相连。
为了方便推杆的运动,所述的推杆的另一端通过轴承嵌设在分离 板下表面的滑槽内。
为了将叠置在框架槽中的框架震松,便于相邻的两个框架分离, 所述的凸轮上设有凸缘。
为了便于框架的分离,分离板的上表面设有楔刀,设置在凹槽的 一侧,楔刀的刀口与凹槽的后边缘平齐。分离板上安装有楔刀,楔刀 的刀头上表面与水平面的夹角为5-10°。所述的楔刀的夹角角度与框 架引脚凸起的高度有关,使得楔刀插进框架槽时,与最底排框架相邻 的框架侧起,以免凸起的框架引脚阻碍最底排框架的运动,同时又不 致于由于楔刀的插入导致楔刀上的框架侧翻。
根据不同的需要,所述的弹性元件可以采用多种结构,比如:可 以采用弹簧。
综上所述,本实用新型结构简单,只需要一个电机,就可以完成 框架分离动作,并将框架送到预设的工作位置上;由于被分离的框架 始终处在分离板的凹槽内,因此框架运动位置准确,故障率低;同时, 该装置对框架的适应性高,无论是SOT-89框架,或者是TO-126等框 架,虽然框架引脚凸起的高度不同,但都可以采用本实用新型所提供 的装置得到准确、及时的分离,并送到预设的工作位置上。
下面结合附图和具体实施例对本实用新型的技术方案进行详细地 说明。
说明书附图
图1为本实用新型的整体结构示意图;
图2为框架平面结构示意图;
图3为框架侧面结构示意图;
图4为多个框架叠置后的示意图。
具体实施方式
图1为本实用新型的整体结构示意图。如图1所示,本实用新型 提供一种框架分离自动上料装置,该装置包括一分离板1,分离板1的 上方设有框架槽2,分离板1的上表面开设有用于容纳框架3的凹槽 11,分离板1下方设有驱动装置,在驱动装置的驱动下,分离板1在 框架槽2下方的分离位置和预设的工作位置之间沿平面往复运动定位。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造