[发明专利]传动机构的表面镀膜方法无效
申请号: | 200810211839.4 | 申请日: | 2008-09-09 |
公开(公告)号: | CN101671814A | 公开(公告)日: | 2010-03-17 |
发明(设计)人: | 林玉雪 | 申请(专利权)人: | 林玉雪 |
主分类号: | C23C16/32 | 分类号: | C23C16/32;C23C16/42;C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 梁 挥;祁建国 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 传动 机构 表面 镀膜 方法 | ||
1.一种传动机构的表面镀膜方法,其特征在于,包括以下步骤:
(a)提供一传动机构;
(b)清洁该传动机构的表面;
(c)将该传动机构设置于一工作环境中,导入一氢气与一四甲基硅烷(Tetra-methylsilane;TMS;Si(CH3)4)气体至该工作环境中,施加一外加电力而在该工作环境中产生一偏压电场,将该偏压电场的一偏压值控制在400~700伏特(V),并将该外加电力的功率控制在800~1500瓦(W),借以在该传动机构的表面形成一附着膜;
(d)导入该氢气、该TMS气体与一烃类(hydrocarbon)气体至该工作环境中,将该偏压值控制在400~700V,并将该外加电力的功率控制在800~1500W,借以在该附着膜的表面形成一混合膜,使该混合膜含有一非晶质类钻石材料与该附着膜所含的成分,且在该混合膜中,越远离该传动机构处,该非晶质类钻石材料的含量越高;以及
(e)导入该氢气、该TMS气体与该烃类气体至该工作环境中,将该偏压值控制在400~700V,并将该外加电力的功率控制在800~1500W,借以在该混合膜的表面形成一非晶质类钻石膜,进而制成一镀膜传动机构。
2.根据权利要求1所述的传动机构的表面镀膜方法,其特征在于,该步骤(b)更包含以下步骤:
(b1)将该传动机构设置于该工作环境中;
(b2)提供该外加电力而在该工作环境中产生该偏压电场;
(b3)将至少一氩气与上述的氢气导入该工作环境;以及
(b4)利用该偏压电场将该氩气与氢气解离为一电浆状物质,以清洁该传动机构的表面。
3.根据权利要求2所述的传动机构的表面镀膜方法,其特征在于,在该步骤(b)中,包含一历时10~25分钟的第一清洗阶段,且在该第一清洗阶段将该工作环境的压力控制在4~15μbar,该偏压电场的该偏压值控制在300~700V,该外加电力的功率控制在600~1400W。
4.根据权利要求3所述的传动机构的表面镀膜方法,其特征在于,在该第一清洗阶段,该氩气的流量为50~200标准立方公分/分钟(standard cc/min;sccm),该氢气的流量为50~200sccm,且该气体被解离后所形成的电浆状物质为电浆状的氩离子与氢离子。
5.根据权利要求2所述的传动机构的表面镀膜方法,其特征在于,在该步骤(b)中,包含一历时10~30分钟的第二清洗阶段,且在该第二清洗阶段将该工作环境的压力控制在2~15μbar,该偏压电场的该偏压值控制在500~700V,该外加电力的功率控制在1200~1400W。
6.根据权利要求5所述的传动机构的表面镀膜方法,其特征在于,在该第二清洗阶段,该氩气的流量为200~400sccm,该氢气的流量为50~400sccm,且该气体被解离后所形成的电浆状物质为电浆状的氩离子与氢离子。
7.根据权利要求1所述的传动机构的表面镀膜方法,其特征在于,该外加电力由一可调式电源供应器所提供。
8.根据权利要求1所述的传动机构的表面镀膜方法,其特征在于,在进行该步骤(c)时,历时1~10分钟,该氢气的流率控制在50~100sccm,且该TMS气体的流率控制在50~250sccm。
9.根据权利要求1所述的传动机构的表面镀膜方法,其特征在于,在进行该步骤(c)时,将该工作环境的压力控制在2~4μbar。
10.根据权利要求1所述的传动机构的表面镀膜方法,其特征在于,在进行该步骤(d)时,历时1~10分钟,该氢气的流率控制在50~800sccm,该TMS控制在50~250sccm,该烃类气体为一乙炔(acetylene)气体,且该乙炔气体的流量控制在50~800sccm。
11.根据权利要求1所述的传动机构的表面镀膜方法,其特征在于,在进行该步骤(d)时,将该工作环境的压力控制在4~15μbar。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的