[发明专利]一种太阳能级多晶硅材料的制备方法有效

专利信息
申请号: 200810167817.2 申请日: 2008-10-10
公开(公告)号: CN101724898A 公开(公告)日: 2010-06-09
发明(设计)人: 刘占果;周勇;刘军锋 申请(专利权)人: 比亚迪股份有限公司
主分类号: C30B29/06 分类号: C30B29/06;C30B30/02;C25B1/00
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 王崇;王凤桐
地址: 518118 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 太阳 能级 多晶 材料 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种多晶硅的制备方法,更具体地涉及一种太阳能级多晶硅 的制备方法。

背景技术

太阳能作为一种清洁、可持续发展的新型能源,已经受到广泛关注。高 纯多晶硅是太阳能电池的原材料。目前,生产多晶硅的工艺为西门子工艺和 硅烷法工艺。西门子工艺复杂,操作温度高,能耗高,设备投资大,多晶硅 生产成本高。硅烷法易燃易爆,危险性大。同时,由于太阳能行业的高速发 展,导致多晶硅材料的严重短缺,供不应求。硅材料的短缺以及高成本严重 限制了太阳能行业的发展,因而,非常有必要开发多晶硅生产的新工艺。

熔盐电解法是一种制备多晶硅的方法。用熔盐电解制备太阳能级多晶硅 的方法有:(1)以高纯二氧化硅为阴极,通过熔盐电解,实现阴极氧元素的 脱除,从而制备多晶硅;但在该方法中,脱氧过程不具备除杂的功能,难以 保证硅材料的纯度,并且二氧化硅的导电性极差,而导致电解过程的电流密 度低、电解效率低等问题;(2)如CN101070598A中公开了一种利用熔盐电 解法制备太阳能级硅材料的方法,该方法包括,以二氧化硅或其它含硅化合 物A为原料,金属M1为阴极,高纯石墨或其它碳材料为阳极,氟化物熔盐 为电解质,在600-1400℃温度下电解制备出含硅合金Si-M1;再以Si-M1为 阳极,高纯金属M2为阴极,氟化物熔盐为电解质,在600-1400℃进行三层 液电解精炼,制备出含硅合金Si-M2;以含硅合金Si-M2为原料,采用真空 蒸馏技术,在真空度10-2Pa至10-6Pa状态,温度600-1800℃的条件下,蒸馏 0.5-24小时,获得太阳能级材料;所述含硅化合物A为Li2SiF6,Na2SiF6, K2SiF6,Li2SiO3,Na2SiO3,K2SiO3,CaSiO3,MgSiO3,BaSiO3,Mg2SiO4或Be2SiO4;所述金属M1为Ag,Bi,Cd,Ce,Cu,Co,Cr,Fe,In,Mo, Ni,Pb,Sn或Zn中的至少一种;所述金属M2为Al,Mg,Ca,Li,Na, K,Be,Sr,Ba,Sc或Rb中的至少一种;所述氟化物熔盐组成为 Me3AlF6-Me’2SiF6-Me”Fx,各组分质量百分含量为:1-100%Me3AlF6、0-99 %Me’2SiF6、0-40%Me”Fx;其中Me为Na、K或Li中的至少一种;Me’为 Na、K或Li中的至少一种;Me”为Al、Mg、Ca、Ba、Na、K或Li中的至 少一种。该方法制得的多晶硅纯度不高。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术制得的多晶硅纯度不高的缺陷,提供一种 能够得到较高纯度的太阳能级多晶硅材料的制备方法。

CN101070598A采用先制备硅合金再真空蒸馏的方法,制备硅合金时采 用其它金属作为阴极,不可避免地要引入其它的杂质,而且不可能将制得的 合金中的金属完全除去,而导致制得的多晶硅材料的纯度不高,且在真空蒸 馏的过程中不可避免地造成了硅材料的损失,而增加了成本。

本发明提供了一种太阳能级多晶硅材料的制备方法,该方法包括在熔盐 中电解含硅材料,其中,以纯度大于或等于99.9999%的多晶硅材料为阴极, 以惰性导电材料为阳极;所述含硅材料为含硅和金属的材料,其中,硅比金 属更容易在阳极失去电子被氧化成阳离子,含硅材料的熔点不大于电解温 度;电解温度为700-1200℃。

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