[发明专利]内埋式线路结构及其制作方法无效

专利信息
申请号: 200810093320.0 申请日: 2008-04-18
公开(公告)号: CN101562945A 公开(公告)日: 2009-10-21
发明(设计)人: 陈宗源;江书圣 申请(专利权)人: 欣兴电子股份有限公司
主分类号: H05K3/10 分类号: H05K3/10;H05K1/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 内埋式 线路 结构 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种内埋式线路结构的制作方法,包括:

提供承载基板;

形成覆盖该承载基板的膜层;

利用激光光束来图案化该膜层,以形成局部暴露该承载基板的掩模层;

形成线路层于该掩模层所暴露的表面上;

在形成该线路层之后,移除该掩模层;

形成绝缘层于该承载基板上,其中该线路层内埋于该绝缘层中;以及

移除该承载基板,以裸露出该线路层的第一表面,其中该线路层的第二表面相对于该第一表面,且该第一表面的面积小于该第二表面的面积。

2.如权利要求1所述的内埋式线路结构的制作方法,其中该线路层具有连接于该第一表面与该第二表面之间的侧表面,该绝缘层覆盖该第二表面与该侧表面。

3.如权利要求1所述的内埋式线路结构的制作方法,其中该线路层是从该第二表面朝向该第一表面渐缩。

4.如权利要求1所述的内埋式线路结构的制作方法,其中形成该绝缘层的方法包括压合该承载基板于该绝缘层上。

5.如权利要求1所述的内埋式线路结构的制作方法,其中该绝缘层为胶片或树脂层。

6.如权利要求1所述的内埋式线路结构的制作方法,其中形成该膜层的方法包括涂布光致抗蚀剂层于该承载基板上。

7.如权利要求1所述的内埋式线路结构的制作方法,其中该承载基板包括载板与配置于该载板上的导电层,该膜层覆盖该导电层,当图案化该膜层之后,该掩模层局部暴露该导电层。

8.一种内埋式线路结构,包括:

绝缘层;以及

线路层,内埋于该绝缘层中,该线路层具有第一表面、相对该第一表面的第二表面以及连接于该第一表面与该第二表面之间的侧表面,其中该绝缘层覆盖该第二表面与该侧表面,而该第一表面未被该绝缘层所覆盖,该第一表面的面积小于该第二表面的面积。

9.如权利要求8所述的内埋式线路结构,其中该线路层是从该第二表面朝向该第一表面渐缩。

10.如权利要求8所述的内埋式线路结构,其中该第一表面实质上与该绝缘层的表面切齐。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于欣兴电子股份有限公司,未经欣兴电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810093320.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top