[发明专利]一种纳米氧化锌场效应晶体管的制作方法有效
申请号: | 200810042500.6 | 申请日: | 2008-09-04 |
公开(公告)号: | CN101350364A | 公开(公告)日: | 2009-01-21 |
发明(设计)人: | 陈韬;屈新萍;刘书一;万景;茹国平;蒋玉龙 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/786;H01L29/10;H01L29/423;H01L21/336;H01L21/36 |
代理公司: | 上海正旦专利代理有限公司 | 代理人: | 陆飞;张磊 |
地址: | 20043*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纳米 氧化锌 场效应 晶体管 制作方法 | ||
1.一种纳米氧化锌场效应晶体管的制备方法,其特征在于具体步骤为:
(1)通过光刻腐蚀或者剥离工艺在衬底上制作图形化栅电极;
(2)在栅电极上外延生长栅绝缘层材料;
(3)采用光刻腐蚀或者剥离工艺在栅绝缘层上制作源漏电极;
(4)采用物理气相淀积斜溅射或者先淀积ZnO籽晶层再等离子刻蚀的方法在源漏电极的侧壁上生长ZnO籽晶层;
(5)采用溶液法在ZnO籽晶层上生长ZnO纳米棒,将横向生长的ZnO纳米棒作为导电沟道层;
其中,栅电极和源漏电极材料厚度为50nm-1um,栅绝缘层厚度为10nm-500nm,导电沟道层的厚度为10nm-200nm;
ZnO籽晶层的生长采用物理气相淀积斜溅射的方法,将样品倾斜40~50度进行溅射,仅仅在源漏电极的一侧淀积ZnO籽晶层;或者采用物理气相淀积、原子层淀积或溶胶凝胶法在源漏电极表面大面积生长ZnO籽晶层,然后通过等离子刻蚀的方法去除源漏电极顶端以及栅绝缘层上的ZnO籽晶层,仅保留源漏电极侧壁上的ZnO籽晶层;
溶液法在ZnO籽晶层上生长ZnO纳米棒的具体步骤为:将硝酸锌或醋酸锌,与六次甲基四胺、二甲基胺硼烷、氨水或者乙二胺中任意一种以摩尔比为1∶1至3∶1之间溶于去离子水中配制反应溶液,溶液中锌离子的浓度为0.01~0.04mol/L,用支架将源漏电极侧壁覆盖有籽晶层的衬底垂直放入反应溶液中,再把装有反应溶液和衬底的容器放入水浴锅中进行加热,反应温度在50℃~100℃,生长时间0.5~6h,反应完毕后取出样品,用去离子水冲洗并用氮气吹干,即制得ZnO纳米棒。
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