[发明专利]研磨用组合物和研磨方法无效
| 申请号： | 200710193445.6 | 申请日： | 2007-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN101220256A | 公开（公告）日： | 2008-07-16 |
| 发明（设计）人： | 河村笃纪;佐藤英行;服部雅幸 | 申请（专利权）人： | 福吉米股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 熊玉兰;李平英 |
| 地址： | 日本岐阜*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 组合 方法 | ||
【权利要求书】：
1.研磨用组合物，其特征在于，该研磨用组合物含有胶体二氧化硅和过氧化氢，pH为5～8.5，研磨用组合物中的铁离子浓度为0.02ppm以下。
2.权利要求1的研磨用组合物，该研磨用组合物中进一步含有磷酸或磷酸盐。
3.权利要求1或2的研磨用组合物，其特征在于，对钨膜的研磨速度与对硅氧化膜的研磨速度之比为3以上。
4.权利要求1～3中任一项的研磨用组合物，其中，使用研磨用组合物进行研磨后的晶片上的硅氧化膜的损耗偏差为20nm以下。
5.研磨方法，该方法是使用权利要求1～4中任一项的研磨用组合物对含有钨的晶片进行研磨。
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