[其他]整个半导体层无电气缺陷的半导体器件及其制造方法在审
| 申请号: | 101986000006409 | 申请日: | 1986-11-06 |
| 公开(公告)号: | CN1003481B | 公开(公告)日: | 1989-03-01 |
| 发明(设计)人: | 山崎舜平;铃木邦夫;金花美树雄;深田武;阿部雅芳;小林一平;柴田克彦;薄田真人;永山進;小柳薰 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号: | 分类号: | ||
| 代理公司: | 中国专利代理有限公司 | 代理人: | 肖春京;萧掬昌 |
| 地址: | 日本国神奈*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 整个 半导体 电气 缺陷 半导体器件 及其 制造 方法 | ||
1、一种半导体器件,其特征在于,该器件包括:
一层半导体层;
一对电极,其间放置所说半导体层;
一种光可固化的树脂,用以治愈在所说半导体层的制造期间无意在其中产生的缝隙。
2、根据权利要求1的器件,其特征在于,其中所说光可固化的树脂是一正性光致蚀剂。
3、根据权利要求1的器件,其特征在于,其中所说光可固化的树脂是一负性光致蚀剂。
4、根据权利要求1的器件,其特征在于所说半导体层的层中含有-pin结的多层结构。
5、根据权利要求1的器件,其特征在于,其中所说缝隙是一针孔。
6、根据权利要求1的半导体,其特征在于,其中所说的电极由ITO、In2O3、SnO2或ITN制成。
7、权利要求6的半导体器件,其特征在于,其中所说的电极敷有一层金属层。
8、根据权利要求1的半导体器件,其特征在于,其中所说的金属层由铝、铬或银制成。
9、根据权利要求1的半导体器件,其特征在于,所说的器件是一种光电器件。
10、权利要求1的半导体器件,其特征在于,所说的器件是一种光发射器件。
11、权利要求10的半导体器件,其特征在于,所说的器件具有超点阵结构。
12、一种生产半导体器件的方法,其特征在于该方法包括下列工序:备制半导体层;
用一光可固化树脂涂敷整个半导体层并用以填塞该半导体层的缝隙;
为了使所说缝隙中的所说层部分不溶但其余部分可溶,用一个光辐射所说半导体层;
用一溶剂除去所说半导体层的可溶部分;以及
在所说半导体层上形成另一层。
13、根据权利要求12的方法,其特征在于,其中所说的另一层是准备做电极的导电层。
14、根据权利要求12的方法,其特征在于,其中所说光可固化树脂是一种正性光致抗蚀剂。
15、根据权利要求14的方法,其特征在于,其中所说光是从所说正性光致抗蚀剂一侧照射的紫外光。
16、根据权利要求12的方法,其特征在于,其中所说光可固化树脂是一种负性光致抗蚀剂。
17、根据权利要求16的方法,其特征在于,其中所说光是从所说半导体层一侧照射的紫外光。
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