[其他]整个半导体层无电气缺陷的半导体器件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 101986000006409 申请日: 1986-11-06
公开(公告)号: CN1003481B 公开(公告)日: 1989-03-01
发明(设计)人: 山崎舜平;铃木邦夫;金花美树雄;深田武;阿部雅芳;小林一平;柴田克彦;薄田真人;永山進;小柳薰 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: 分类号:
代理公司: 中国专利代理有限公司 代理人: 肖春京;萧掬昌
地址: 日本国神奈*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 整个 半导体 电气 缺陷 半导体器件 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1、一种半导体器件,其特征在于,该器件包括:

一层半导体层;

一对电极,其间放置所说半导体层;

一种光可固化的树脂,用以治愈在所说半导体层的制造期间无意在其中产生的缝隙。

2、根据权利要求1的器件,其特征在于,其中所说光可固化的树脂是一正性光致蚀剂。

3、根据权利要求1的器件,其特征在于,其中所说光可固化的树脂是一负性光致蚀剂。

4、根据权利要求1的器件,其特征在于所说半导体层的层中含有-pin结的多层结构。

5、根据权利要求1的器件,其特征在于,其中所说缝隙是一针孔。

6、根据权利要求1的半导体,其特征在于,其中所说的电极由ITO、In2O3、SnO2或ITN制成。

7、权利要求6的半导体器件,其特征在于,其中所说的电极敷有一层金属层。

8、根据权利要求1的半导体器件,其特征在于,其中所说的金属层由铝、铬或银制成。

9、根据权利要求1的半导体器件,其特征在于,所说的器件是一种光电器件。

10、权利要求1的半导体器件,其特征在于,所说的器件是一种光发射器件。

11、权利要求10的半导体器件,其特征在于,所说的器件具有超点阵结构。

12、一种生产半导体器件的方法,其特征在于该方法包括下列工序:备制半导体层;

用一光可固化树脂涂敷整个半导体层并用以填塞该半导体层的缝隙;

为了使所说缝隙中的所说层部分不溶但其余部分可溶,用一个光辐射所说半导体层;

用一溶剂除去所说半导体层的可溶部分;以及

在所说半导体层上形成另一层。

13、根据权利要求12的方法,其特征在于,其中所说的另一层是准备做电极的导电层。

14、根据权利要求12的方法,其特征在于,其中所说光可固化树脂是一种正性光致抗蚀剂。

15、根据权利要求14的方法,其特征在于,其中所说光是从所说正性光致抗蚀剂一侧照射的紫外光。

16、根据权利要求12的方法,其特征在于,其中所说光可固化树脂是一种负性光致抗蚀剂。

17、根据权利要求16的方法,其特征在于,其中所说光是从所说半导体层一侧照射的紫外光。

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