[发明专利]包括微米和亚微米特征的半导体等器件的光机械特征制作无效
| 申请号： | 03103377.6 | 申请日： | 2003-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN1434349A | 公开（公告）日： | 2003-08-06 |
| 发明（设计）人： | P·梅;C·P·陶西;A·H·简斯 | 申请（专利权）人： | 惠普公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F1/00;H01L21/027;B81C1/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 包括 微米 特征 半导体 器件 机械 制作 | ||
【说明书】：
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