[发明专利]敏射线树脂组合物

说明书

技术领域

本发明涉及一种新的敏射线的树脂组合物。更确切地说，涉及一个适用于生产半导体，制备LCD(液晶显示)板中的液晶显示装置中的显示平面，以及生产热压头的电路衬底(基片)等的敏射线树脂组合物。此外，本发明还涉及一种除了可适用于上述用途外，并还可适用于其它所有的应用对曝光射线的光敏特性的用途的敏射线树脂组合物，例如UV(紫外线)干燥油墨，紫外线油漆，紫外线粘合剂，摄影(光电)记录物质，光电模制(造型)物质等。

背景技术

在许多技术领域中，例如制备半导体集成电路如LSI(大规模集成电路)，制备LCD板中的液晶显示装置的显示平面，以及生产用于热压头的电路衬底的技术中，人们惯常用光刻(照相平板)工艺进行精细加工和制作精细元件。在上述光刻方法中，人们采用正性或负性的敏射线树脂组合物以便制得光致抗蚀图形。在上述射射线树脂组合物中，人们广泛地惯用一种含有一种树脂和一种光敏性物质的敏射线树脂组合物。此外，最近人们还广泛使用了一种光致酸生成剂的敏射线树脂组合物，即化学增强的敏射线树脂组合物。

在上述敏射线树脂组合物中，有一种典型的含有一种树脂和一种光敏性物质的正性的敏射线树脂组合物，它含有一种碱溶性树脂和一种作为光敏性物质的醌二叠氮化合物。在许多文献中，例如日本专利公告第23570／1979号(美国专利3，665，473)，日本专利公告第30850／1981号(美国专利4，115，128)，日本专利申请公开第73045／1980号，日本专利申请公开第205933／1986号，都把许多种的上述正性的含有碱溶性树脂和醌二叠氮化合物的敏射线树脂组合描述成“(线型)酚醛清漆树脂／醌二叠氮化物”。人们从(线型)酚醛清漆树脂和光敏性物质(光敏剂)两个方面继续对上述的含有碱溶性树脂和醌二叠氮化物的敏射线树脂组合物进行研究和开发工作。从(线型)酚醛清漆树脂的观点而言，由于这些迄今已知的树脂的物理特性和其它方面的改进，以及由于开发了一些新的上述树脂，人们已经制备了一些具有优良特性的敏射线树脂组合物。许多文献描述了一些可使敏射线树脂组合物具有优良特性的技术。日本专利文献第140235／1985号和第105243／1989号提示了一种使用具有特殊分子量分布的(线型)酚醛清漆树脂的技术。日本专利文献第97347／1985号和第189739／1985号以及日本专利第2590342号描述了一种使用(线型)酚醛清漆树脂的技术，所述(线型)酚醛清漆树脂的低分子量组份被有选择地消去。此外，人们还开发了各种新的醌二叠氮化物，而且还使用许多类型的添加剂。

至于含有树脂和光敏酸生成剂的敏射线树脂组合物，已有许多种类的该组合物问世。例如一种含有(线型)酚醛清漆树脂和作为光致酸生成剂的特种三嗪化合物的负性敏射线树脂组合物(日本专利文献第303，196／1993号)，一种含有其键可被酸分裂开的特种树脂的敏射线树脂组合物(日本专利文献第19，847／1990号)，以及一种含有特种碱性碘鎓化物的负性或正性的敏射线树脂组合物(日本专利文献第333，844／1995号)，如上所述，关于含有树脂和光致酸生成剂的敏射线树脂组合物，人们也已经在树脂，光致酸生成剂，添加剂等方面作了一些改进。

作为迄今已作的许多研究工作的结果，许多正性和负性的敏射线树脂组合物已在实践中应用。

然而，半导体集成电路的集成程度一年比一年高，因而在制备半导体生产中需要具有亚微米或半微米甚至更小行宽(谱线宽度)的图案。但是依据上述的传统工艺是不可能完全满足上述要求的。此外，在上述需要超细加工处理和重复生产分辨性和优良图案的条件下，也必须在生产中提高生产能力(每单位时间的产量)，以便能降低生产成本。由此，不断提高敏射线树脂组合物的敏感性也已经成为十分重要的任务。上述提高敏射线树脂组合物的敏感性的需求并不限定于半导体集成电路的生产中，在生产LCD中的液晶装置的显示平面和制备热压头的电路衬底等过程中也直接提出相同的需求。对于所有的应用对曝光射线的敏光特性的物质，例如UV(紫外线)干燥油墨，紫外线油漆，紫外线粘合剂，摄影(光电)记录物质，光电模制(造型)物质也存在上述需求。