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[发明专利]一种沉积静电放电电流的校准装置和方法-CN201810148823.7有效
发明人：吴红森;马蔚宇;康宁;王淞宇;杨金涛 -专利权人：北京无线电计量测试研究所
申请日： 2018-02-13 - 公布日： 2020-09-22 - 主分类号： G01R35/02 文献下载
摘要：本申请公开了一种沉积静电放电电流的校准装置和方法，解决了沉积静电放电电流的校准准确性的问题，所述装置包括被校准的沉积静电放电模拟器，放电靶，电阻，直流电压表，所述模拟器用于产生沉积静电放电电流，并向所述放电靶进行沉积静电放电；所述放电靶与所述电阻串联，用于接收所述模拟器产生的沉积静电并产生直流电流；所述电阻接地；所述直流电压表用于测量所述电阻的电压。所述方法包括以下步骤，调节高压产生器产生预定的沉积静电放电电流，记录所述电流表上的指示和直流电压表的指示；通过欧姆定律得到通过所述电阻的直流电流值；根据所述直流电流值对所述沉积静电放电电流值进行校准。本发明可以沉积静电放电电流进行精确校准。
一种沉积静电放电电流校准装置方法

[实用新型]一种溅射工艺设备-CN201721551285.3有效
发明人：王大为;林宗贤;吴龙江 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2017-11-17 - 公布日： 2018-08-28 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型提供一种溅射工艺设备，包括：静电吸盘、沉积环以及防护圈；沉积环包围静电吸盘侧边的至少一部分，且与静电吸盘侧边之间具有间隙，沉积环靠近静电吸盘侧边的一侧上表面低于静电吸盘上表面；沉积环上表面还具有凸起部，凸起部的最高点高于静电吸盘上表面；防护圈设置于静电吸盘与沉积环之间，并包围沉积环靠近静电吸盘侧边的一侧上表面边缘及侧面上边缘；从而，无需对所述静电吸盘进行打磨，一方面，不会对所述静电吸盘造成污染以及降低其静电吸附能力，提高产品质量；另一方面，降低所述静电吸盘报废的风险，减少资源浪费；再次，更换所述防护圈简单、方便，较之打磨所述静电吸盘耗时短，提高了生产效率。
静电吸盘沉积环上表面侧边防护圈工艺设备凸起部溅射打磨本实用新型上表面边缘包围静电吸附生产效率上边缘耗时报废侧面污染

[发明专利]薄膜沉积设备和制造有机发光显示设备的方法-CN201010266406.6有效
发明人：赵昌睦;金钟宪;崔镕燮;金相洙;姜熙哲;崔永默 -专利权人：三星移动显示器株式会社
申请日： 2010-08-27 - 公布日： 2011-04-06 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种用来大规模地制造大基底并能够具有高清晰度图案化的薄膜沉积设备和一种使用该薄膜沉积设备制造有机发光显示设备的方法，所述薄膜沉积设备包括：装载单元，将基底固定到静电吸盘上；沉积单元，包括保持在真空状态的室和设置在室中的薄膜沉积组件，用来将薄膜沉积在固定于静电吸盘上的基底上，薄膜沉积组件与基底分开预定的距离；卸载单元，将完成了沉积工艺的基底与静电吸盘分离；第一循环单元，将固定有基底的静电吸盘顺序地移动到装载单元、沉积单元和卸载单元；第二循环单元，将与基底分离的静电吸盘从卸载单元返回到装载单元，其中，第一循环单元在穿过沉积单元时穿过室。
薄膜沉积设备制造有机发光显示方法

[发明专利]有机层沉积装置、有机发光显示装置及其制造方法-CN201210518563.0有效
发明人：金东昱 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2012-12-05 - 公布日： 2017-06-09 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种有机层沉积装置、有机发光显示装置及其制造方法。该有机层沉积装置包括沉积源，用于排放沉积材料；沉积源喷嘴单元，布置在沉积源的一侧并包括多个沉积源喷嘴；图案缝隙片，与沉积源喷嘴单元相对地布置并包括多个图案缝隙；静电吸盘，基底能够附于静电吸盘并能够从静电吸盘拆卸；吸盘移动构件，与静电吸盘组合并被构造为使静电吸盘移动；以及引导构件，引导吸盘移动构件的移动，吸盘移动构件包括第一磁力发生器，引导构件包括与第一磁力发生器对应的第二磁力发生器，吸盘移动构件由于第一磁力发生器和第二磁力发生器产生的磁力而能够在引导构件上移动
有机沉积装置发光显示装置及其制造方法

[发明专利]有机层沉积设备、有机发光显示装置及其制造方法-CN201210228413.6有效
发明人：张锡洛;南命佑;康熙哲;金钟宪;洪钟元;蒋允豪 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2012-07-02 - 公布日： 2017-03-01 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种有机层沉积设备、一种有机发光显示装置和一种利用该有机层沉积设备制造有机发光显示装置的方法。所述有机层沉积设备包括静电吸盘，固定地支撑作为沉积目标的基板；沉积单元，包括保持一定真空的室以及有机层沉积组件，有机层沉积组件用来在由静电吸盘固定地支撑的基板上沉积有机层；第一输送器单元，用来将固定地支撑基板的静电吸盘移动到沉积单元中，其中，第一输送器单元穿过室的内部，第一输送器单元包括引导单元，引导单元具有接纳构件，用来使静电吸盘可沿着一定的方向移动。
有机沉积设备发光显示装置及其制造方法

[发明专利]沉积设备-CN202111043008.2在审
发明人：孙智熙;文英慜;李德重;文敏浩;宋昇勇;李璱;任星淳 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-09-07 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：实施例提供了一种沉积设备，所述沉积设备包括掩模框架、开口片、沉积掩模和静电吸盘。在掩模框架中，限定有第一开口部。开口片设置在掩模框架上。在开口片中，限定有与第一开口部叠置的第二开口部。沉积掩模设置在开口片上。在沉积掩模中，限定有与第二开口部叠置的多个第三开口部。静电吸盘设置在沉积掩模上并且其上设置有基底。基底设置在静电吸盘的表面上，并且AC电力施加到沉积掩模。
沉积设备

[发明专利]沉积设备的控制方法及控制系统-CN202110790789.5在审
发明人：梁涛 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2021-07-13 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本公开提供一种沉积设备的控制方法和控制系统，涉及半导体技术领域，该沉积设备的控制方法应用于沉积设备，其中，沉积设备包括反应腔室以及设置在反应腔室内的静电卡盘，静电卡盘上承载有晶圆，该控制方法包括：获取晶圆与静电卡盘之间的压力值；当压力值超出预设范围时，沉积设备发出报警信号，并根据静电卡盘的使用状态，执行清洁操作。本公开通过对静电卡盘进行清洁操作，以有效解决晶圆背压异常报警问题，减少处理故障的宕机时间，保证产品的顺利进行。
沉积设备控制方法控制系统

[发明专利]一种强磁场下静电喷雾沉积薄膜制备系统-CN201710918875.3有效
发明人：马小航;戴建明;白金;魏义永;朱雪斌;盛志高;孙玉平 -专利权人：中国科学院合肥物质科学研究院
申请日： 2017-09-30 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： B29C41/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种强磁场下静电喷雾沉积薄膜制备系统，包括：筒状超导磁体、超导磁体电源、静电喷雾沉积腔、反应液输送装置和高压直流电源；超导磁体电源与筒状超导磁体电连接；静电喷雾沉积腔设于筒状超导磁体的圆筒内强磁场中；静电喷雾沉积腔为密封结构，并且其腔壁上设有隔热部件；静电喷雾沉积腔的内部设有沉积台和喷嘴；反应液输送装置的注液泵通过供液软管与喷嘴连通，用于将反应液注入喷嘴；高压直流电源通过供电导线与沉积台和喷嘴电连接，用于控制沉积台与喷嘴之间的电场。本发明不仅能够提高薄膜的沉积速率和膜面均匀性，而且可以实现在强磁场下进行薄膜原位生长和后退火处理，从而能够实现对所制备薄膜的微结构和性能进行有效调控。
一种磁场静电喷雾沉积薄膜制备系统

[发明专利]制造静电夹的方法、静电夹及静电夹系统-CN201580006538.6有效
发明人：岱尔·K·史东;理查尔·库肯;林奕宽;朱利安·G·布雷克;留德米拉·史东 -专利权人：瓦里安半导体设备公司;安堤格里斯公司
申请日： 2015-01-30 - 公布日： 2020-06-30 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明提供一种制造静电夹的方法、一种静电夹及一种静电夹系统。在一个实施例中，一种制造静电夹的方法包含：形成绝缘体主体；在所述绝缘体主体上形成电极；以及在所述电极上沉积层堆叠，所述层堆叠包括使用原子层沉积(ALD)而沉积的氧化铝层。抗扩散层堆叠设置在静电夹的电极与将由静电夹固持的衬底之间。可在操作期间抑制金属从静电夹滤出，避免污染衬底。
制造静电方法系统

[发明专利]调控静电喷雾雾滴沉积率的方法-CN201611178619.7在审
发明人：唐全林 -专利权人：苏州唐氏机械制造有限公司
申请日： 2016-12-19 - 公布日： 2017-05-17 - 主分类号： B05B5/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种调控静电喷雾雾滴沉积率的方法，属于农业施药技术领域。该方法通过测量静电充电雾流的空间电荷密度和靶标在单位时间内累积的电荷量之间的对应关系，找出达到最佳的静电喷雾雾滴沉积率对应的静电充电雾流的空间电荷密度，在施药过程中，维持这个空间电荷密度基本恒定，完成对静电喷雾雾滴沉积率的调控该方法克服了农业环境下难以通过计算确定最佳雾滴沉积量的困难，简单有效地解决了其优化问题。
调控静电喷雾雾滴沉积方法

[实用新型]有机层沉积设备和有机发光显示装置-CN201220319909.X有效
发明人：张锡洛;南命佑;康熙哲;金钟宪;洪钟元;蒋允豪 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2012-07-02 - 公布日： 2013-03-13 - 主分类号： C23C14/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种有机层沉积设备和一种有机发光显示装置。所述有机层沉积设备包括：静电吸盘，固定地支撑作为沉积目标的基板；沉积单元，包括保持一定真空的室以及有机层沉积组件，有机层沉积组件用来在由静电吸盘固定地支撑的基板上沉积有机层；第一输送器单元，用来将固定地支撑基板的静电吸盘移动到沉积单元中，其中，第一输送器单元穿过室的内部，第一输送器单元包括引导单元，引导单元具有接纳构件，用来使静电吸盘可沿着一定的方向移动。根据本实用新型的有机层沉积设备可以容易地制造，可以应用于以简单的方式大规模地制造大型显示装置，并且提高了制造产率和沉积效率。
有机沉积设备发光显示装置

[实用新型]沉积环装置、静电卡盘装置及高温铝腔-CN202320345982.2有效
发明人：张凯 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2023-02-27 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种沉积环装置、静电卡盘装置及高温铝腔，沉积环装置包括沉积环本体，所述沉积环本体上开设有若干第一螺纹孔，若干所述第一螺纹孔通过连接件与静电卡盘装置连接。本实用新型提供的沉积环装置，由于在沉积环本体上开设有若干第一螺纹孔，然后所述第一螺纹孔通过连接件与静电卡盘装置连接，因此能够使得所述沉积环本体与所述静电卡盘装置牢牢固定，以使得沉积环本体不再出现晃动。而且由于沉积环本体不再出现晃动，不需要不断检查晶背均匀性，使得机台复机时间缩短，从而减少了测试晶圆假片的使用和调机次数。
沉积装置静电卡盘高温

[发明专利]静电沉积的方法-CN03822734.7无效
发明人： J·马拉;S·J·巴特斯拜;D·B·范达姆 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2003-08-08 - 公布日： 2005-10-19 - 主分类号： B05D1/04 文献下载
摘要：一种在显示器的基板(1)上进行静电沉积特别是LCD滤色器(9)或者分隔物材料(15)的工艺，包括相继静电沉积红色，绿色和蓝色材料(8)以及黑色矩阵材料(14)或者分隔物材料。具有单极电荷的烟雾状材料在沉积室中经过大小受控的静电力作用，而通过(外部)施加的静电场被导向(优选是抗重力方式)基板表面。
静电沉积方法

[实用新型]一种带防静电涂层的考夫曼电源-CN201520291209.8有效
发明人：乔宪武;吴昊 -专利权人：中国计量学院
申请日： 2015-04-30 - 公布日： 2015-07-22 - 主分类号： H01J37/08 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种新型离子源，特别涉及一种带防静电涂层的考夫曼电源。所述加速电极靠近屏极的表面涂覆防静电涂层，所述防静电涂层为金属氧化物，有防静电功能。防静电涂层能够消除加速电极的金属离子沉积，能够消除由于金属沉积造成的短路现象。
一种静电涂层考夫曼电源

[发明专利]制造显示装置的设备-CN202110359497.6在审
发明人：曹踊晧;高银儿;朴俊河;成箕运;全洪柱;许明洙 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-04-02 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：根据本发明的一实施例的制造显示装置的设备包括：腔室；沉积头，其布置于腔室内部，并且喷射沉积物质；掩模，其布置于沉积头下方；静电吸盘，其布置于掩模下方；以及温度调节模块，其至少一部分布置于静电吸盘下方。温度调节模块包括：温度调节管路，其布置于静电吸盘内部；以及温度调节基底部，其布置于静电吸盘下方，并且其内部布置有电永磁吸盘。
制造显示装置设备

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