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[发明专利]调焦调平光斑水平位置的测量方法-CN200710172260.7有效
发明人：王帆;段立峰;李志丹 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2007-12-13 - 公布日： 2008-05-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种调焦调平光斑水平位置的测量方法，应用于投影光刻机的调焦调平系统中，首先利用工件台的内部传感器进行闭环控制，在不同的倾斜目标值进行调焦调平，接着获取各个目标倾斜位置的调焦调平传感器的测量结果，最后利用所述测量结果计算调焦调平系统测量点水平位置，同时测量调焦调平光斑位置，并对由于所述调焦调平光斑位置引起的测量结果误差进行修正，利用本发明的测量方法通过测量调焦调平系统光斑位置与期望旋转中心的差异，并在调焦调平系统的算法中进行校正，提高了调焦调平系统的测量精度。
调焦平光水平位置测量方法

[发明专利]用于光刻设备的调焦调平检测装置及方法-CN201310349765.1有效
发明人：唐平玉;陈飞彪;徐荣伟;刁雷 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2013-08-13 - 公布日： 2017-08-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种用于光刻设备的调焦调平检控系统，包括光源、调焦调平检测装置和调焦调平控制装置；该光源经光纤接口耦合进入该调焦调平检测装置；该调焦调平检测装置，用于检测对象的垂直位置和倾斜度；该调焦调平控制装置，用于根据该调焦调平检测装置所获得的探测信号，驱动控制该对象的承载器的垂向位置和倾斜度；该调焦调平检测装置在光刻设备的投影物镜的镜筒内部。
用于光刻设备调焦检测装置方法

[发明专利]一种调焦调平检测装置及方法-CN201010209992.0有效
发明人：田湍;陈飞彪;李志丹;潘炼东;魏礼俊 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2010-06-25 - 公布日： 2011-12-28 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种调焦调平检测装置及方法，该装置具有：倾斜入射检测光学系统，振动反射镜光学系统，数字光电探测装置，调焦调平测量装置控制器，运动台控制器。该装置利用离焦高度引起的偏差通过振动反射镜调整后在数字光电探测装置上的检测光斑的位置偏差和时间段之间的量化关系测量离焦高度，从而实现调焦调平。该调焦调平检测方法采用了数字化检测方法，基本消除了模拟电路易受光、电磁和热等环境因素影响的弊端，显著增强了调焦调平检测系统的抗干扰性能，有利于调焦调平检测精度和测量稳定性的进一步提高。
一种调焦检测装置方法

[发明专利]一种可校正物料起伏的光刻装置及方法-CN201510175996.4有效
发明人：陈丹;王献英 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2015-04-15 - 公布日： 2018-08-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种可校正物料起伏的光刻装置，其特征在于，包括：照明系统，用于提供一光刻光束；掩模台，用于承载掩模；掩模台垂向传感器，用于探测并控制一掩模台的垂向位置；掩模调焦调平系统，用于测量掩模的面形；工件台，用于承载基板运动，补偿掩模和基板面形的低阶量；基板调焦调平系统，用于测量基板的面形；工件台垂向传感器，用于探测并控制一工件台的垂向位置；物镜阵列，由多个单物镜组成的两列物镜，单物镜包括上方可动镜片和下方可动镜片，所述上方可动镜片和下方可动镜片具有垂向调整功能，上方可动镜片用于补偿掩模局部面形高阶量，下方可动镜片用于补偿基板局部面形高阶量；掩模调焦调平系统和基板调焦调平系统位于两列物镜之间，掩模调焦调平系统位于基板调焦调平系统的正上方
一种校正物料起伏光刻装置方法

[发明专利]一种调焦调平检测装置-CN200510025462.X有效
发明人：李小平;陈飞彪;李志丹;关俊;杨志勇 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2005-04-27 - 公布日： 2005-10-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种应用于投影光刻系统中的调焦调平检测装置，它的主要功能是对被曝光硅片的表面相对于投影物镜之间的距离和倾斜度进行高精度、低成本的检测。主要是在投影物镜和硅片之间放置了一组浮筒装置，该组浮筒装置与投影物镜或投影物镜支承进行刚性联接，该组浮筒装置对硅片表面的位置信息进行测量，测量结果送往调焦调平控制系统，经过信号处理和调焦调平量的计算后，驱动调焦调平执行器对工件台的位置进行调整，完成硅片的调焦调平。该装置简化了传统气压式调焦调平检测装置的控制结构，提高了检测精度，很好地解决了传统装置中的不足。
一种调焦检测装置

[发明专利]用于扫描光刻机的逐场调焦调平方法-CN201210358264.5有效
发明人：魏礼俊;陈飞彪 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2012-09-25 - 公布日： 2014-03-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种用于扫描光刻机的逐场调焦调平方法，采用多个测量光斑的调焦调平传感器系统在曝光面的各个曝光位置给出完整的垂向位置信息，从而消除了影响调焦调平精度、甚至导致调焦调平失败的风险，扫描光刻机整体曝光工艺能够更加具体
用于扫描光刻调焦平方

[发明专利]兼顾对准和调焦调平的测量系统及其测量方法和光刻机-CN201610934037.0有效
发明人：张成爽;潘炼东;于大维 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2016-10-31 - 公布日： 2020-05-01 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种兼顾对准和调焦调平的测量系统及其测量方法和光刻机，该系统包括标记板和至少一组探测支路，每组探测支路包括左探测支路和右探测支路，所述左探测支路和所述右探测支路对称设置，对称轴与所述物镜的光轴平行所述兼顾对准和调焦调平的测量系统实现了垂向测量系统和水平向测量系统的一体化结构，减少了光刻机整机的系统的空间需求。所述兼顾对准和调焦调平的测量系统的测量方法，实现工件的调焦调平及对准，提高了光刻机的工作效率。本发明还公开了一种光刻机，包括物镜和工件台等组件，以及设置在所述物镜和工件台之间的上述兼顾对准和调焦调平的测量系统，节约了光刻机的空间占用率。
兼顾对准调焦测量系统及其测量方法光刻

[发明专利]一种兼顾调焦调平和精密对准的测量系统及其测量方法-CN202010355166.0有效
发明人：罗先刚;刘明刚;高平;蒲明博;马晓亮;李雄 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2020-04-29 - 公布日： 2021-07-16 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种兼顾调焦调平和精密对准的测量系统及其测量方法。该系统的特点在于将暗场莫尔条纹对准偏差检测功能和啁啾光栅间隙检测功能集成到一组探测单元中。所述兼顾对准和调焦调平的测量系统实现了垂向测量系统和水平向测量系统的一体化结构，减少了光刻机整机系统的空间需求，节约了光刻机的空间占用率。所述兼顾对准和调焦调平的测量系统的测量方法，实现对基片的调焦调平及对准，提高了光刻机工作效率。
一种兼顾调焦平和精密对准测量系统及其测量方法

[发明专利]一种测校装置及测校方法-CN201510856637.5有效
发明人：陈飞彪;秦璋;蓝科;唐平玉 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2015-11-30 - 公布日： 2019-01-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种测校装置及测校方法，该测校装置包括：照明组件，包括光源、照明镜头和空间光调制器，所述照明组件用于形成不同模式的照明光束；投影照明系统，用于将所述照明光束投射到工件的对准标记上；调焦调平功能系统，用于测量工件的离焦倾斜量并反馈至曝光系统的工件台；对准功能系统，用于对测量工件的水平位置偏移量并反馈至曝光系统的工件台；所述调焦调平功能系统与所述对准功能系统共用部分光路。本发明可以节省光刻机的调焦调平流程的时间，提高对准精度，并且对准过程和调焦调平过程之间的相互校准，可以提高整个的调焦调平和对准的测量精度，最终提高光刻机的曝光精度，提高曝光工艺的产率。
一种装置校方

[发明专利]一种用于调焦测量的光谱重构系统-CN201410070291.1有效
发明人：陆侃;徐荣伟;王福亮 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2014-02-28 - 公布日： 2018-08-24 - 主分类号： G02B27/28 文献下载
摘要：一种光谱重构系统，包括：多种波段的光源系统，提供多个不同波段的光束；偏振分束系统，对不同波段的光束进行处理，以产生不同波段不同偏振态光束输出；偏振光强可调系统，根据不同工艺条件对不同波段不同偏振态光束的光强进行调整；合束系统，对经光强调整后的不同波段不同偏振态光束进行合束。该光谱重构系统可以根据不同工艺条件需求对各不同波段不同偏振态光束的光强进行配比，合束系统能够将不同波段不同偏振态的光束的偏振信息保留。将光谱重构系统应用于调焦调平系统可以起到大幅度减小调焦调平系统的测量误差，大幅度增强调焦调平系统的工艺适应性，大幅度提高调焦调平系统的测量精度的作用。
一种用于调焦测量光谱系统

[发明专利]一种硅片曝光方法及装置-CN201210103994.0有效
发明人：段立峰;马明英;蔡良斌;李术新;王献英 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2012-04-11 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提出了一种光刻装置硅片曝光方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）按照一定规则选取位于工件台上的硅片上的测量点；（2）使用测量系统测量选取好的测量点的位置数据；（3）对位置数据进行拟合，得到硅片面形；（4）计算硅片上每个曝光场的调焦调平参数；（5）根据曝光场的调焦调平参数对硅片进行调焦调平；（6）对硅片进行曝光。本发明提出的一种硅片曝光的方法以曝光场为单位进行调焦调平，保证每个曝光场在焦深范围内进行曝光，从而保证每个曝光场的成像质量；因对硅片所有曝光场都进行调焦调平，大大提高了曝光场的曝光质量，从而提高了硅片的良率与产率
一种硅片曝光方法装置

[发明专利]一种零位自动可调的调焦调平测量装置及其使用方法-CN200810035900.4有效
发明人：陈飞彪;李志丹;徐兵;田湍;肖可云;潘炼东 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2008-04-10 - 公布日： 2008-09-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种零位自动可调的调焦调平测量装置及其使用方法，在调焦调平精测测量装置中增加一组自动可调机构，该可调机构用于对调焦调平测量装置进行零位调整。当该可调机构位于其初始位置时，调焦调平测量处于精测模式，而当该可调机构不位于其初始位置时，调焦调平测量处于粗测模式。
一种零位自动可调调焦测量装置及其使用方法

[发明专利]三扫描式硅片调焦调平测量装置、系统以及方法-CN200810040348.8有效
发明人：陈飞彪;徐兵;金小兵;张冲 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2008-07-08 - 公布日： 2008-12-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种三扫描式硅片调焦调平测量装置、系统以及方法，所述装置应用于投影光刻机的调平调焦系统中，所述三扫描式硅片调焦调平测量装置由照明单元、投影单元、成像单元及探测单元组成，所述投影单元将狭缝或者狭缝阵列投影在硅片表面形成测量光斑或者光斑阵列，所述探测单元包括第一、第二和第三子探测单元；所述成像单元出射的光束分别由第一、第二和第三子探测单元进行相敏解调后进入一数字控制器，所述数字控制器对上述相敏解调的结果进行处理并产生调焦调平测量结果本发明的三扫描式硅片调焦调平测量装置具有较大的有效线性化区域，且光学设计难度小，结构相对紧凑。
扫描硅片调焦测量装置系统以及方法

[发明专利]自适应调焦调平传感器系统自我判断测量数据可信度的方法-CN200810176153.6有效
发明人：关俊 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2006-11-17 - 公布日： 2009-04-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种自适应调焦调平传感器系统及应用方法，其特征在于光斑掩模还具有形成位于曝光狭缝之外的预测光斑的通光孔，利用所成的曝光狭缝外的预测光斑使本发明的自适应调焦调平系统实现对工艺的自适应，对其本身测量点测量数据的可信度进行自我判断本发明的有益效果是大大提高了调焦调平系统的可用性及生产效率和成品率，减少了工艺实验的工作量，节约了使用成本，提高了调焦调平的测量性能和工件台的工作性能，并最终也提高了整个光刻机的工作性能，降低了其使用成本和使用难度
自适应调焦传感器系统自我判断测量数据可信度方法

[发明专利]自适应调焦调平传感器系统中自动增益环节的闭环反馈控制方法-CN200810176152.1有效
发明人：关俊 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2006-11-17 - 公布日： 2009-04-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种自适应调焦调平传感器系统及应用方法，其特征在于光斑掩模还具有形成位于曝光狭缝之外的预测光斑的通光孔，利用所成的曝光狭缝外的预测光斑使本发明的自适应调焦调平系统实现对工艺的自适应，对其本身测量点测量数据的可信度进行自我判断本发明的有益效果是大大提高了调焦调平系统的可用性及生产效率和成品率，减少了工艺实验的工作量，节约了使用成本，提高了调焦调平的测量性能和工件台的工作性能，并最终也提高了整个光刻机的工作性能，降低了其使用成本和使用难度
自适应调焦传感器系统自动增益环节闭环反馈控制方法

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