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[实用新型]一种蒸镀罩及蒸镀设备-CN202221614056.2有效
发明人：刘全宝;毋炳辉;彭兆基 -专利权人：合肥维信诺科技有限公司;昆山国显光电有限公司
申请日： 2022-06-23 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种蒸镀罩及蒸镀设备，蒸镀罩包括遮挡板，遮挡板包括至少一个开口区域，开口区域允许来自蒸发源的蒸发分子穿过遮挡板；其中，遮挡板包括相对的第一面和第二面，第一面为朝向蒸发源的一面，遮挡板的第一面上设置有间隔槽，间隔槽用于匹配蒸发源的阻隔结构，以收容阻隔结构。通过上述方式，本实用新型能够保护多点式蒸发源中相邻的蒸发单元间不会相互影响、污染。
一种蒸镀罩设备

[发明专利]一种共蒸发制备铜锌锡硫硒薄膜太阳电池吸收层的方法-CN201410653908.2在审
发明人：杨亦桐;王胜利;李微;赵彦民;乔在祥 -专利权人：中国电子科技集团公司第十八研究所
申请日： 2014-11-17 - 公布日： 2016-06-15 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种共蒸发制备铜锌锡硫硒薄膜太阳电池吸收层的方法。本发明属于薄膜太阳电池技术领域。一种共蒸发制备铜锌锡硫硒薄膜太阳电池吸收层的方法，其铜锌锡硫硒薄膜太阳电池为多层结构；制备步骤：1、将镀Mo的衬底放置在共蒸发设备腔室，Cu、ZnS、Sn、Se蒸发源分布蒸发腔室下方；2、将蒸发腔内抽真空至3×10^-4Pa，衬底加热至500℃，各蒸发源加热，在Mo背电极上共蒸发Cu、ZnS、Sn、Se；3、停止Cu、ZnS蒸发源加热，共蒸发Sn、Se；4、停止Sn蒸发源加热，至衬底温度低于300℃，停止Se蒸发源加热，待衬底冷却取出。本发明具有有效抑制Zn元素再蒸发，得到成分接近化学计量比的铜锌锡硫硒薄膜材料，薄膜的结晶质量高，均匀性和光电性能好等优点。
一种蒸发制备铜锌锡硫硒薄膜太阳电池吸收方法

[发明专利]一种对蒸镀材料进行多级加热的蒸发源-CN202210295599.0在审
发明人：闫风;孙世宏 -专利权人：北京北方鸿瑞科技有限公司
申请日： 2022-03-23 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种对蒸镀材料进行多级加热的蒸发源，包括：蒸发源腔体，用于容纳蒸发源材料，上部开设有加料管和蒸发出气管，加料管上端配有密封盖板；蒸发加热器设置在蒸发源腔体上方，位于蒸发加热器隔热罩形成的封闭空间内，裂解加热结构包括裂解板及裂解加热器，其设置在蒸发加热器隔热罩上方，外部设有裂解加热器隔热罩，裂解板表面设有透过隔热罩的裂解出气管；材料蒸发后，通过蒸发出气管进入裂解板，经裂解加热器加热达到工艺温度后形成特定分子状态，再经裂解板上的通气孔到达裂解出气管后进入蒸发工艺区内。本发明的结构解决了现有蒸发源无法对蒸发材料气体进一步加热处理达到所需分子状态，从而无法得到优质膜层质量的问题。
一种材料进行多级加热蒸发

[实用新型]一种对蒸镀材料进行多级加热的蒸发源-CN202220652900.4有效
发明人：闫风;孙世宏 -专利权人：北京北方鸿瑞科技有限公司
申请日： 2022-03-23 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种对蒸镀材料进行多级加热的蒸发源，包括：蒸发源腔体，用于容纳蒸发源材料，上部开设有加料管和蒸发出气管，加料管上端配有密封盖板；蒸发加热器设置在蒸发源腔体上方，位于蒸发加热器隔热罩形成的封闭空间内，裂解加热结构包括裂解板及裂解加热器，通过支撑板固定在蒸发加热器隔热罩上端，外部设有裂解加热器隔热罩，裂解板表面设有透过隔热罩的裂解出气管；材料蒸发后通过蒸发出气管进入裂解板，经裂解加热器加热达到工艺温度和特定分子状态，经裂解板上的气体通道到达裂解出气管后进入蒸发工艺区。本实用新型的结构解决了现有蒸发源无法对蒸发材料气体进一步加热处理达到所需分子状态，从而无法得到优质膜层质量的问题。
一种材料进行多级加热蒸发

[发明专利]一种真空蒸镀装置-CN201310526932.5有效
发明人：刘则 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2013-10-30 - 公布日： 2014-01-29 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明的真空蒸镀装置，包括蒸镀腔室、设置在蒸镀腔室内的蒸发源装置、设在蒸发源装置与待蒸镀基板间的挡板组件，所述的蒸发源装置设置在蒸镀腔室的中心区域；所述的挡板组件具有与蒸发源装置位置相对应的用于使蒸镀物质通过的挡板组件开口由于蒸发源装置设置在蒸镀腔室的底板的中心区域，在基板上镀膜厚度更加均匀。
一种真空装置

[实用新型]一种真空蒸镀装置-CN201320678739.9有效
发明人：刘则 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2013-10-30 - 公布日： 2014-06-11 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型的真空蒸镀装置，包括蒸镀腔室、设置在蒸镀腔室内的蒸发源装置、设在蒸发源装置与待蒸镀基板间的挡板组件，所述的蒸发源装置设置在蒸镀腔室的中心区域；所述的挡板组件具有与蒸发源装置位置相对应的用于使蒸镀物质通过的挡板组件开口由于蒸发源装置设置在蒸镀腔室的底板的中心区域，在基板上镀膜厚度更加均匀。
一种真空装置

[实用新型]一种双蒸发源的卷绕镀膜机-CN202121458125.0有效
发明人：李成林;郝明;杜雪峰 -专利权人：辽宁分子流科技有限公司
申请日： 2021-06-29 - 公布日： 2022-01-18 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种双蒸发源的卷绕镀膜机，主要包括镀膜室、镀膜室门、蒸发源、卷绕系统和真空系统；卷绕系统包括收卷辊和放卷辊；镀膜室门为2个，可交替开关；每个镀膜室门上均设置有1套蒸发源；通过2个镀膜室门的交替开关，实现2套蒸发源交替参与卷绕镀膜机的镀膜工作。在镀膜室门打开之后，需要对该镀膜室门上设置的蒸发源进行清理维护和镀膜材料填加的工作。2个镀膜室门的交替开关是在更换收卷辊和放卷辊的同时进行的。
一种蒸发卷绕镀膜

[发明专利]一种防止材料劣化的蒸发源装置-CN201910300405.X在审
发明人：邹成;刘志文 -专利权人：湖畔光电科技（江苏）有限公司
申请日： 2019-04-15 - 公布日： 2019-06-14 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明涉及OLED真空蒸镀设备技术领域，特别是一种防止材料劣化的蒸发源装置，包括坩埚，所述坩埚外壁上设置有蒸发源加热丝，所述蒸发源加热丝与电源电连接；所述坩埚内侧底部放置有永磁棒，所述蒸发源加热丝外侧设置有控制磁场大小和交替周期的电磁发生装置采用上述结构后，本发明通过调节磁场大大小和交替周期，永磁棒会在磁场的作用下在坩埚内运动，从而使材料的加热更加均匀，蒸发的速率更加稳定。
加热丝蒸发源坩埚磁场蒸发源装置防止材料交替周期永磁棒劣化电磁发生装置真空蒸镀设备电源电连接外侧设置坩埚外壁加热蒸发

[发明专利]一种用于液体的真空蒸发源结构-CN202211521728.X在审
发明人：董茂进;冯煜东;王小军;秦丽丽;王冠;冯尔鹏;蔡宇宏;韩仙虎;王毅;马凤英 -专利权人：兰州空间技术物理研究所
申请日： 2022-11-30 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： C23C14/12 文献下载
摘要：本发明涉及一种真空蒸发源结构，具体涉及一种用于液体的真空蒸发源结构。本发明公开了一种用于液体的真空蒸发源结构。对于饱和蒸汽压较低(小于10Pa)的液态单体，粘度1‑30CPS(25℃)。蒸发源设计有以下特点：1、能够连续供给，液体管和连续液体流量计设计；2、流量控制准确，液体流量计前后压强稳定；3、不会由于气泡等干扰恒定蒸发，雾化器前端具有除泡机构。
一种用于液体真空蒸发结构

[发明专利]蒸发源和采用该蒸发源的蒸镀装置-CN200510092373.7有效
发明人：金度根;许明洙;郑锡宪;康熙哲;古野和雄 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2005-08-29 - 公布日： 2006-08-09 - 主分类号： C23C14/26 文献下载
摘要：一种蒸发源和蒸镀装置，该蒸发源将坩埚和加热部以及喷嘴部配置在一个划分空间，缩小其尺寸；所述蒸镀装置利用所述蒸发源将蒸镀物质蒸镀在基板上。所述蒸发源包括：壳体(110)；内设于所述壳体(110)内的坩埚(120)；内设于所述壳体(110)中，用于加热坩埚(120)而设于其周边的加热部；喷嘴部，经由喷射嘴(140)将从所述坩埚(120)蒸发的蒸镀物质喷射到位于壳体
蒸发采用装置

[发明专利]一种线性蒸发源-CN201310248645.2无效
发明人：廖良生;丁磊;周旻;陈敏;周东营;李杨帆 -专利权人：苏州方昇光电装备技术有限公司
申请日： 2013-06-21 - 公布日： 2013-09-11 - 主分类号： C23C14/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种线性蒸发源，包括线性蒸发源的主体及设置于线性蒸发源的主体上方的盖板，所述主体一体成型，在所述主体内部两端对称开设有凹槽，所述凹槽内设有蒸发元件，所述两个凹槽之间位于主体下方设有加热元件；本发明的线性蒸发源不易变形，工作效率高，且可实现高均匀性厚膜。
一种线性蒸发

[发明专利]蒸镀设备及蒸镀方法-CN202011216077.4在审
发明人：翁志坤;冉忠堂;沈旭铭 -专利权人：广东广纳芯科技有限公司
申请日： 2020-11-04 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： C23C14/26 文献下载
摘要：本发明涉及一种蒸镀设备，包括：蒸镀室，在该蒸镀室中放置待蒸镀晶圆；以及蒸发源，利用该蒸发源，在待蒸镀晶圆表面蒸镀金属膜，该金属膜是由合金金属和稀土元素形成薄膜，利用该蒸发源，通过蒸发镀膜方式来添加稀土元素
设备方法

[实用新型]蒸发源及蒸镀设备-CN201820798426.X有效
发明人：裴凤巍;张金中;黄俊杰 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2018-05-25 - 公布日： 2019-01-11 - 主分类号： C23C14/26 文献下载
摘要：一种蒸发源及蒸镀设备。该蒸发源包括：容器本体；至少一个喷嘴，设置在所述容器本体的外表面，其中，所述至少一个喷嘴与所述容器本体为一体结构。该蒸发源的喷嘴与容器本体为一体结构，在进行蒸发操作时喷嘴不易堵塞，且不用拆卸。
容器本体喷嘴蒸发源一体结构蒸镀设备拆卸蒸发堵塞

[发明专利]蒸发装置-CN201811470696.9在审
发明人：李朝 -专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2018-12-04 - 公布日： 2019-02-22 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供一种蒸发装置，包括：一底座；至少一蒸发源，设于所述底座的一侧表面，所述蒸发源包括一喷嘴，设于所述蒸发源的顶部；二个以上角度限制板，设于所述底座的一侧表面，分别设于一蒸发源的两侧，所述角度限制板的高度高于所述喷嘴的高度本发明的技术效果在于，中部开口的角度限制板既可以起到限制材料蒸发角度的作用，又可以减少材料在角度限制板上的聚集生长而降低蒸发源喷嘴堵孔风险；多种结构的角度限制板可以满足不同蒸镀材料、不同蒸镀工艺、不同蒸镀腔体构造的需求
角度限制板蒸发源底座蒸发装置喷嘴技术效果减少材料移动组件蒸镀材料蒸镀腔体中部开口喷嘴堵蒸镀开口蒸发生长

[发明专利]蒸发源及成膜装置-CN202110723236.8在审
发明人：田村博之 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2017-07-05 - 公布日： 2021-09-21 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供一种蒸发源及成膜装置，即便是位于最外侧的蒸发口部的开口端面以朝向蒸发源的长边方向外侧的方式倾斜的结构，也能够防止成膜材料的向蒸发源的反射或再次蒸发及向蒸发源周边构件的堆积。所述蒸发源具有收容成膜材料的容器和沿着所述容器的长边方向排列且分别从所述容器突出的多个筒状部，其特征在于，所述多个筒状部中的第一筒状部和第二筒状部以顶端在所述长边方向上朝向相同的方向的方式倾斜，所述第一筒状部的倾斜角度和所述第二筒状部的倾斜角度不同
蒸发装置