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[发明专利]纳米孔,使用纳米孔的方法,制备纳米孔的方法和用纳米孔表征生物分子的方法-CN200480011566.9无效
发明人： X·S·凌 -专利权人：布朗大学
申请日： 2004-02-13 - 公布日： 2007-11-28 - 主分类号： C12Q1/68 文献下载
摘要：本发明涉及包括可用于检测和/或表征单个大分子以及对DNA或RNA进行测序和/或确定RNA的二级结构的一个或多个固态纳米孔的装置和系统。在本发明的一个固态纳米孔中，所述纳米孔的宽度和/或长度是由裂开的晶体的锐边限定或确定的，所述锐边在形成包括纳米孔的所述绝缘部件期间保持固定的关系。在本发明的另一方面，涉及线性或2－D电可寻址的纳米孔阵列，其中，所述纳米孔位于在所述绝缘部件的上表面上形成的槽和在所述绝缘部件的下表面上的形成的槽之间的交叉点上。
纳米使用方法制备表征生物分子

[发明专利]制作纳米孔的方法、纳米孔结构和单纳米孔传感器-CN202111588323.3有效
发明人：刘泽文;洪浩 -专利权人：清华大学
申请日： 2021-12-23 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： G01N33/48 文献下载
摘要：本发明公开了制作纳米孔的方法、纳米孔结构和单纳米孔传感器，制作纳米孔的方法，包括：提供硅片；形成第一掩膜层，形成第二掩膜层；形成第一图案化层，第一图案化层包括第一子凹槽；形成第二图案化层；形成第一刻蚀腔；形成第二刻蚀腔；形成金属层；形成第三刻蚀腔，以暴露位于锥尖的金属层；向第一刻蚀腔中加入电解质溶液，向第二刻蚀腔中加入电化学腐蚀溶液；对位于锥尖的金属层进行电化学腐蚀，以形成纳米孔。由此，可便于通过较为简便的方法制得具有极小尺寸的金属纳米孔结构。
制作纳米方法结构传感器

[实用新型]纳米孔薄膜-CN202022467547.6有效
发明人：周向前;伊沃·朗格诺 -专利权人：上海赢冠科技有限公司
申请日： 2020-10-30 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： B01D71/06 文献下载
摘要：本公开涉及一种纳米孔薄膜。所述薄膜包括膜体，所述膜体上设置有以预定阵列布置的、贯穿所述膜体的多个纳米孔，其中，所述多个纳米孔受控地配置成具有相同或基本相同的孔径和形状，并且其中，所述纳米孔在单位面积薄膜上的占空比配置成使得所述薄膜具有期望的通透度根据本公开的薄膜不仅能够将接近百分之百地过滤粒径小于纳米孔孔径的超细颗粒，而且还能够保持期望的高通透度和低流体阻力、从而使得流体(比如空气)能够以期望的流率畅通地流过所述薄膜。
纳米薄膜

[发明专利]纳米孔阵列-CN201480003939.1有效
发明人： R.J.A.陈;D.J.富拉加 -专利权人：吉尼亚科技公司
申请日： 2014-01-28 - 公布日： 2018-06-26 - 主分类号： G01N27/447 文献下载
摘要：公开了一种使用包括被包括在芯片上的多个单元的纳米孔阵列来分析分子的方法。引起在所述多个单元的至少一部分中形成纳米孔。评估纳米孔的第一物理测量结果。确定是否引起分子与纳米孔相互作用。引起纳米孔的至少一部分与分子相互作用。评估指示分子性质的纳米孔的第二物理测量结果。确定是否引起重新形成纳米孔，使得单元可重新使用以与附加分子相互作用。
纳米孔分子相互作用物理测量结果纳米孔阵列分子性质评估指示芯片评估分析

[发明专利]制作纳米孔阵列的方法、纳米孔阵列和纳米孔阵列传感器-CN202111587794.2在审
发明人：刘泽文;洪浩 -专利权人：清华大学
申请日： 2021-12-23 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： B81B1/00 文献下载
摘要：本发明提出了制作纳米孔阵列的方法、纳米孔阵列和纳米孔阵列传感器，制作纳米孔阵列的方法，包括：提供硅片；形成第一掩膜层，形成第二掩膜层；形成第一图案化层；形成第二图案化层；进行第一湿法刻蚀；进行第二湿法刻蚀；形成功能材料层；对第二刻蚀腔进行第三湿法刻蚀，以形成第三刻蚀腔，暴露位于锥尖的功能材料层；对位于锥尖的功能材料层进行第四刻蚀，以形成多个纳米孔，得到纳米孔阵列。由此，可通过简便的方法制备具有孔径均一、制备流程简便、可重复性高等优点的纳米孔阵列结构。
制作纳米阵列方法传感器

[发明专利]纳米孔结构、控制纳米孔大小的装置及方法-CN201910082998.7在审
发明人：梁圣法;张文昌;项飞斌;姚志宏;李冬梅;刘明;谢常青 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2019-01-28 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： B82B1/00 文献下载
摘要：本公开提供一种纳米孔结构、控制纳米孔大小的装置及方法，该纳米孔结构，包括：介电薄膜材料，其上形成有纳米孔或纳米孔阵列；以及金属层，其形成于所述介电薄膜材料的正反表面；其中，所述介电薄膜材料和所述金属层上对应设置有通孔本公开提供的纳米孔结构、控制纳米孔大小的装置及方法通过采用在介电薄膜材料双面生长金属层的方法，实现对纳米孔结构电流电压曲线的线性控制；同时通过使用电化学方法原位缩小成孔的尺寸的方法，实现纳米孔的精确控制及纳米孔结构的重复利用
纳米孔介电薄膜材料金属层纳米孔阵列电化学电压曲线结构电流双面生长线性控制正反表面重复利用成孔通孔

[发明专利]柔性基底纳米孔结构及柔性基底纳米孔阵列-CN201910996511.6在审
发明人：陈昌;胡春瑞;豆传国 -专利权人：上海新微技术研发中心有限公司
申请日： 2019-10-19 - 公布日： 2020-01-17 - 主分类号： C12M1/36 文献下载
摘要：本发明提供一种柔性基底纳米孔结构及纳米孔阵列，包括柔性基底和纳米孔结构，纳米孔结构形成于孔基底上，纳米孔结构包括纳米孔腔、纳米孔，纳米孔腔贯穿孔基底，纳米孔是纳米孔腔的一端开口，纳米孔腔呈非线性缩小腔体或线性缩小腔体向纳米孔延伸；还包括：光栅，由多组光栅槽构成；孔保护膜，覆盖光栅和纳米孔腔；金属层，覆盖孔保护膜，以缩小纳米孔尺寸至1～100nm；流体腔。每个纳米孔结构含一个覆盖金属层的等离激元光谱纳米孔，纳米孔周围是布拉格光栅反射镜，实现柔性基底制备；单个纳米孔的尺寸小，具有不易被外力折断，满足恶劣环境下的测序有益效果；金属层表面局域等离激元增强电场与距离呈指数衰减，提供亚纳米的空间分辨率。
纳米孔柔性基底光栅等离激元保护膜基底腔体布拉格光栅覆盖金属层金属层表面空间分辨率纳米孔阵列恶劣环境结构形成线性缩小一端开口指数衰减电场反射镜贯穿孔光栅槽金属层流体腔亚纳米折断测序覆盖光谱制备延伸

[发明专利]柔性基底纳米孔结构和纳米孔阵列制造方法-CN201910996480.4有效
发明人：陈昌;胡春瑞;豆传国 -专利权人：上海新微技术研发中心有限公司
申请日： 2019-10-19 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C12M1/36 文献下载
摘要：本发明提供一种柔性基底纳米孔结构的制造方法，包括步骤：步骤100、形成纳米孔结构；步骤200、形成柔性基底的纳米孔结构；步骤100包括：在孔基底上形成纳米孔结构，纳米孔结构包括纳米孔腔、纳米孔和光栅，光栅由多组光栅槽构成，纳米孔腔贯穿孔基底，纳米孔是纳米孔腔的一端开口，光栅围绕纳米孔腔，光栅形成于孔基底上远离纳米孔的面上；形成覆盖光栅和纳米孔腔的金属层，以缩小纳米孔尺寸至1～100nm。形成覆盖金属层的等离激元光谱纳米孔，纳米孔周围是布拉格光栅反射镜，实现柔性基底制备；单个纳米孔的尺寸小，具有不易被外力折断，满足恶劣环境下的测序有益效果；金属层表面局域等离激元增强电场与距离呈指数衰减，提供亚纳米的空间分辨率。
柔性基底纳米结构阵列制造方法

[实用新型]柔性基底纳米孔结构及柔性基底纳米孔阵列-CN201921756610.9有效
发明人：陈昌;胡春瑞;豆传国 -专利权人：上海新微技术研发中心有限公司
申请日： 2019-10-19 - 公布日： 2020-07-31 - 主分类号： C12M1/36 文献下载
摘要：本实用新型提供一种柔性基底纳米孔结构及柔性基底纳米孔阵列，包括柔性基底和纳米孔结构，纳米孔结构形成于孔基底上，纳米孔结构包括纳米孔腔、纳米孔，纳米孔腔贯穿孔基底，纳米孔是纳米孔腔的一端开口，纳米孔腔呈非线性缩小腔体或线性缩小腔体向纳米孔延伸；还包括：光栅，由多组光栅槽构成；孔保护膜，覆盖光栅和纳米孔腔；金属层，覆盖孔保护膜，以缩小纳米孔尺寸至1～100nm；流体腔。每个纳米孔结构含一个覆盖金属层的等离激元光谱纳米孔，纳米孔周围是布拉格光栅反射镜，实现柔性基底制备；单个纳米孔的尺寸小，具有不易被外力折断，满足恶劣环境下的测序有益效果；金属层表面局域等离激元增强电场与距离呈指数衰减，提供亚纳米的空间分辨率。
柔性基底纳米结构阵列

[发明专利]纳米孔测序方法-CN201880099752.4在审
发明人：朱国丽;沈寒婕;林建勋;江媛;曾涛 -专利权人：深圳华大生命科学研究院
申请日： 2018-12-07 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： C12Q1/6869 文献下载
摘要：一种纳米孔测序方法，包括：在纳米孔测序装置中，以核酸单链环或双链环为模板进行滚环扩增，产生出扩增的单链，在电场的作用下，将扩增的单链引入纳米孔测序装置的纳米孔中，使扩增的单链通过纳米孔并产生每个碱基的电信号
纳米孔测序方法

[发明专利]纳米孔测序仪-CN202210970470.5在审
发明人： B·博扬诺瓦;R·N·埃科尔卡尔;J·S·费希尔;J·G·曼德尔;羌梁梁;S·M·巴纳德 -专利权人：伊鲁米纳公司
申请日： 2018-06-19 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： G01N27/327 文献下载
摘要：示例纳米孔测序仪包括顺式孔、反式孔、和流体连接顺式孔和反式孔的纳米孔。在一个示例测序仪中，改性电解质(包括电解质和阳离子络合剂)存在于顺式孔、或反式孔、或顺式孔和反式孔中。在另一个示例测序仪中，凝胶态聚电解质存在于顺式孔、或反式孔、或顺式孔和反式孔中。
纳米孔测序仪

[发明专利]固态纳米孔形成-CN202180059600.3在审
发明人：谢平 -专利权人：牛津纳米孔科技公开有限公司
申请日： 2021-07-21 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： B82Y15/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于产生包括开孔的衬底的方法，所述方法包括：提供衬底，所述衬底包括固态膜和在所述固态膜的第一表面上的化学表面改性；以及通过所述化学表面改性和所述固态膜形成开孔。本发明还涉及包括化学表面膜和开孔的衬底、包括此类衬底的传感器和包括此类衬底的设备。
固态纳米形成

[发明专利]纳米孔电压方法-CN201780062958.5有效
发明人： R.戴维斯;M.沃尔格伦 -专利权人：豪夫迈·罗氏有限公司
申请日： 2017-10-10 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： G01N33/487 文献下载
摘要：一种用于为核酸分子测序的方法包括提供测序单元（200），所述测序单元具有驻留在井（205）之上的膜（214）中的纳米孔（216），在井底部的第一电极（202），在膜之上的腔室（215）中的第二电极（210跨第一电极和第二电极（202,210）而施加第一电压信号，从而创建使序列单元中的核酸分子移动通过纳米孔（216）的力。
纳米电压方法

[发明专利]纳米孔测序仪-CN201880037549.4有效
发明人： B·博扬诺瓦;R·N·埃科尔卡尔;J·S·费希尔;J·G·曼德尔;羌梁梁;S·M·巴纳德 -专利权人：伊鲁米纳公司
申请日： 2018-06-19 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： G01N33/487 文献下载
摘要：示例纳米孔测序仪包括顺式孔、反式孔、和流体连接顺式孔和反式孔的纳米孔。在一个示例测序仪中，改性电解质(包括电解质和阳离子络合剂)存在于顺式孔、或反式孔、或顺式孔和反式孔中。在另一个示例测序仪中，凝胶态聚电解质存在于顺式孔、或反式孔、或顺式孔和反式孔中。
纳米孔测序仪

[发明专利]跨膜纳米孔-CN201780053839.3有效
发明人：斯特凡·霍沃卡;吉纳维夫·普;乔纳森·伯恩斯 -专利权人： UCL商务有限公司
申请日： 2017-07-14 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G01N33/68 文献下载
摘要：提供了一种跨膜纳米孔，其包含：i.至少一个支架多核苷酸链；ii.多个订书钉多核苷酸链；和iii.至少一个疏水修饰的多核苷酸链，其中所述至少一个疏水修饰的多核苷酸链包含多核苷酸链和疏水部分；其中所述多个订书钉多核苷酸链中的每一个与所述至少一个支架多核苷酸链杂交以形成所述跨膜纳米孔的三维结构，并且其中所述至少一个疏水修饰的多核苷酸链与所述至少一个支架多核苷酸链的一部分杂交，所述跨膜纳米孔限定了最小内部宽度为至少约5nm的中心通道。还提供了包含所述跨膜纳米孔的膜和那些膜的应用。
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