[发明专利]固态纳米孔形成在审
| 申请号： | 202180059600.3 | 申请日： | 2021-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN116368095A | 公开（公告）日： | 2023-06-30 |
| 发明（设计）人： | 谢平 | 申请（专利权）人： | 牛津纳米孔科技公开有限公司 |
| 主分类号： | B82Y15/00 | 分类号： | B82Y15/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 严罗一;刘芳 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于产生包括开孔的衬底的方法，所述方法包括：提供衬底，所述衬底包括固态膜和在所述固态膜的第一表面上的化学表面改性；以及通过所述化学表面改性和所述固态膜形成开孔。本发明还涉及包括化学表面膜和开孔的衬底、包括此类衬底的传感器和包括此类衬底的设备。 | ||
| 搜索关键词： | 固态 纳米 形成 | ||
【主权项】：
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