专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种通过Ga离子轰击对石墨烯掺杂改性的方法-CN201410181561.6有效
  • 王权;邵盈;任乃飞 - 江苏大学
  • 2014-05-04 - 2017-09-26 - H01L21/263
  • 本发明公开一种通过Ga离子轰击对石墨烯掺杂改性的方法,采用聚焦离子束系统,将样品放在位于密闭腔室中的样品台上,先按照样品的标记位置,移动样品的目标区域至透镜系统正下方,用气体注入系统对密闭腔室抽真空;再用探测器探测样品的位置,将样品此时的位置信号经扫描单元、图形发生器传给计算机;通过计算机和图形发生器在样品上绘制出需要的离子轰击区域;最后通过计算机设置聚焦离子束系统的工作参数对石墨烯进行离子轰击轰击时,Ga离子源受热液化,在外加电场的作用下形成离子流,离子流在偏转系统的作用下到达样品表面进行离子轰击;在保持石墨烯本征二维结构不变的同时赋予了石墨烯新的电学特性,改变其电学性能的效果明显。
  • 一种通过ga离子轰击石墨掺杂改性方法
  • [实用新型]一种基材离子轰击装置-CN202120954268.4有效
  • 游耀华;游瑾富 - 深圳中为思创科技有限公司
  • 2021-05-07 - 2021-11-05 - H01J37/32
  • 本实用新型公开一种基材离子轰击装置,包括一结构主体,所述结构主体包括反应炉、高压电闸及真空泵,所述高压电闸及真空泵均设于所述反应炉的侧面,所述反应炉的前端面设有控制面板;所述反应炉内部设有反应室,所述反应室设有贯穿所述反应炉侧壁的第一进料口及第二进料口,所述真空泵与所述反应室接通;将离子轰击工艺所需的各个装置集成到同一台装置中,能够减小离子轰击工艺所需的物料及时间以应用于较小的工件;同时能够保证离子轰击工艺所需的各个步骤,确保工艺的顺利完成。
  • 一种基材离子轰击装置

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