专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种硅片清洗设备-CN202223378262.0有效
  • 赵占起;杨应得;吴川;杨文波;常宜龙 - 中凯达建设工程(上海)有限公司
  • 2022-12-15 - 2023-04-11 - B08B3/12
  • 本实用新型涉及硅片清洗领域,尤其涉及一种硅片清洗设备。所述硅片清洗设备包括超声波清洗和驱动组件;所述驱动组件通过电动推杆设置在超声波清洗内部,所述驱动组件包括支撑框,所述支撑框顶部的四角均设有电机,每个所述电机的顶部均设有转动盘,每个所述转动盘的顶部均设有凸条本实用新型提供的硅片清洗设备,通过驱动组件的工作,即可带动内部的连接环进行转动和上下往复移动,连接环即可顺利通过内部的放置框带动所需清洗硅片进行转动和往复移动,改变硅片与卡框之间的接触位置,因此降低清洗硅片出现死角的现象,可使硅片后期的清洗更加全面。
  • 一种硅片清洗设备
  • [实用新型]一种半导体生产用清洗装置-CN201921160691.6有效
  • 沈恒文;林旭斌;金修领;吉双平;郝小峰;刘彤辉 - 江苏艾匹克半导体设备有限公司
  • 2019-07-23 - 2020-05-15 - B08B13/00
  • 本实用新型公开了一种半导体生产用清洗装置,包括硅片清洗本体,所述硅片清洗本体的底部固定连接有底座,所述底座底部两侧的前侧和后侧均开设有动力槽,所述动力槽内壁的外侧固定连接有电机,所述电机的输出端固定连接有正反牙螺杆本实用新型通过设置硅片清洗本体、底座、动力槽、电机、正反牙螺杆、螺套、第一连接柱、连接杆、固定板、第二连接柱、支撑板和滑轮的配合使用,解决了现有的清洗装置体积较大,太过笨重,在需要调整位置时需多人合作才能抬起,从而造成清洗装置灵活性太差的问题,该半导体生产用清洗装置,具备便于移动的优点,便于使用者的使用,提高了清洗装置的实用性。
  • 一种半导体生产清洗装置
  • [实用新型]一种硅片清洗装置-CN202020663188.9有效
  • 嵇峰 - 江苏晶科天晟能源有限公司
  • 2020-04-27 - 2020-11-17 - H01L21/67
  • 本实用新型涉及硅片制造领域的一种硅片清洗装置,所述清洗装置本体由若干组独立的清洗构及配合清洗构设置的烘干机构组成,若干组独立的清洗构自进料口处到出料口依次按顺序排布设置,所述烘干机构设置在最后一道清洗构的前一道工序;所述清洗装置本体还配合设置有操作面板,所述清洗装置本体的四周及操作平台上还配合设置有防护栏,所述清洗构和烘干机构上还设置有运输装置;该实用新型提供一种硅片清洗装置,对硅片实行多级分段式清洗,彻底清洗硅片表面的杂质,提高硅片使用效率;避免在清洗过程中产生的不必要的损坏,降低不良率,减少成本。
  • 一种硅片清洗装置
  • [实用新型]一种两槽手动清洗片盒挂件-CN201520191609.1有效
  • 胡晓亮;赵文龙;高烨;崔小换 - 麦斯克电子材料有限公司
  • 2015-04-01 - 2015-08-19 - B08B13/00
  • 一种两槽手动清洗片盒挂件,适用于单晶硅清洗清洗单晶硅片时将装有硅片的片盒在两个槽体间移动。本实用新型采取在侧挡板(1)顶部增加手柄(2)的设计方便现场搬运,在两块侧挡板(1)之间的中间位置及靠近侧挡板(1)内侧位置上焊有四根固定横梁(5),并在固定横梁(5)上分别开有与硅片片盒宽度尺寸相同的4英寸硅片卡槽(6)、5英寸硅片卡槽(7)的技术方案,通过可移动挡板(4)完成不同规格尺寸的硅片清洗过程,不需要频繁更换不同规格尺寸的片盒挂件。本实用新型所用组件数量少,加工工艺简单,安装操做方便,有效解决了因清洗硅片规格尺寸不同而频繁更换片盒挂件问题。
  • 一种手动清洗机片盒挂件
  • [发明专利]干湿一体及生产线-CN201710204558.5有效
  • 上官泉元;谭兴波;杨虎 - 常州比太科技有限公司
  • 2017-03-30 - 2019-03-19 - H01L31/18
  • 本发明提供了一种干湿一体,包括插片上料、自动化前清洗、自动化上下料机构、RIE干法制绒、自动叠片和花篮自动回转机构;所述插片上料、自动化前清洗、自动化上下料机构依次连接,所述RIE干法制绒和自动叠片分别与所述自动化上下料机构连接,所述花篮自动回转机构安装在所述插片上料和所述自动化前清洗之间;本发明的整套设备为实现硅片的“干法制绒”工艺,集成了硅片自动插片、前清洗硅片自动化转换到干法制绒设备上、干法制绒、硅片自动化叠片等工艺和技术在此基础上,本发明还提供了一种采用该干湿一体的生产线。
  • 干湿一体机生产线
  • [实用新型]干湿一体及生产线-CN201720329247.7有效
  • 上官泉元;谭兴波;杨虎 - 常州比太科技有限公司
  • 2017-03-30 - 2017-11-28 - H01L31/18
  • 本实用新型提供了一种干湿一体,包括插片上料、自动化前清洗、自动化上下料机构、RIE干法制绒、自动叠片和花篮自动回转机构;所述插片上料、自动化前清洗、自动化上下料机构依次连接,所述RIE干法制绒和自动叠片分别与所述自动化上下料机构连接,所述花篮自动回转机构安装在所述插片上料和所述自动化前清洗之间;本实用新型的整套设备为实现硅片的“干法制绒”工艺,集成了硅片自动插片、前清洗硅片自动化转换到干法制绒设备上、干法制绒、硅片自动化叠片等工艺和技术在此基础上,本实用新型还提供了一种采用该干湿一体的生产线。
  • 干湿一体机生产线
  • [实用新型]一种超声波硅片清洗-CN202320448324.6有效
  • 姜李斌;许晓辉;孙文兵 - 浙江艾科半导体设备有限公司
  • 2023-03-10 - 2023-08-15 - B08B3/12
  • 本实用新型公开了一种超声波硅片清洗,包括清洗体,所述清洗体顶端的一侧开设有清洗槽,所述清洗槽的底部固定安装有震动面钢板,所述清洗槽槽底等距固定安装有多个超声波换能器,所述超声波换能器的顶端与震动面钢板底端接触连接,所述清洗槽内壁两侧均开设有滑槽,两个所述滑槽的内部均滑动连接有滑块。本实用新型通过安装的伺服电机带动梯形丝杆的转动,通过梯形丝杆的转动带动滑块的升降,通过滑块的移动带动金属滤网的升降,通过金属滤网的升降,便于对清洗后的硅片提出,方便清洗后的硅片滤水和硅片的提拿,通过安装的水循环机构,水循环机构便于实现对清洗槽内部的清洗水内循环处理,确保了超声波硅片的清晰效果。
  • 一种超声波硅片清洗
  • [发明专利]一种半导体硅片清洗双头清洗-CN201610145371.8在审
  • 李赵和 - 李赵和
  • 2016-03-15 - 2016-06-01 - B08B3/02
  • 本发明公开了一种半导体硅片清洗双头清洗枪,包含一固定底座,在所述的固定底座上设有一加压缸,在所述的加压缸上设有一第一喷射口和一第二喷射口,在所述的第一喷射口和第二喷射口上设有一控制压片,所述的第一喷射口为线形喷射口由于本发明的半导体硅片清洗双头清洗枪在本体上设置了一个固定底座,在这个固定底座上设置了一个加压缸,加压缸上设置了两个喷射口,一个喷射口为直线喷射口,另外一个喷射口为雾化喷射口,两个喷射口相互配合,从而大大提高了半导体硅片清洗双头清洗枪的清洗效率
  • 一种半导体硅片清洗机双头
  • [实用新型]一种废水回收系统-CN201220520470.7有效
  • 崔盼;高世超 - 蠡县英利新能源有限公司
  • 2012-10-11 - 2013-03-20 - E03F1/00
  • 本实用新型公开了一种废水回收系统,包括水槽,该水槽通过第一隔板分为过滤槽和抽水槽;其中,过滤槽与硅片清洁的排水口连通,抽水槽通过设置于其内的抽水系统与预清洗水槽连通。由于在清洗过程中通过溢流来保持水的洁净程度,清洗的进水口一直处于打开状态,因此废水经由排水口不断流入水槽的过滤槽内。废水在过滤槽过滤沉淀后水位达到第一隔板高度时,相对清洁的水由第一隔板流入抽水槽,再经由抽水槽内的抽水系统将过滤后的水抽入硅片清洗槽内待喷淋使用。该废水回收系统,将清洗所排的废水全部利用,抽入预清洗槽内进行粗略喷淋使用,并且因为由清洗排出的废水水温适中,预清洗硅片时无需再次加热,从而实现了节能减排的目的。
  • 一种废水回收系统
  • [发明专利]制备薄片化单晶硅片减投清洗剂的加药装置-CN202210938828.6有效
  • 冯震坤;章祥静 - 无锡京运通科技有限公司
  • 2022-08-05 - 2023-08-11 - B08B3/08
  • 本发明公开了制备薄片化单晶硅片减投清洗剂的加药装置,具体涉及硅片制备领域,包括主体机构,主体机构的一侧设有第一清洗构,第一清洗构的顶部固定安装有用于调节其高度的调节机构,第一清洗构的顶部固定安装有用于固定硅片硅片限位机构,第一清洗构的顶部设有用于清洗硅片表面的第二清洗构,主体机构包括混合仓,混合仓的顶部连通设有多个加药管,混合仓的底部固定安装有支撑架,混合仓的一侧连通设有流通管。本发明通过在添加药物时,使药物在单独硅片的表面进行均匀分散,而加快对单独硅片表面的均匀反应,更便于对硅片表面杂质的消除,同时避免杂质混入清洁池,从而提升对清洁剂的重复利用率,减少成本。
  • 制备薄片单晶硅片减投清洗剂装置

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