专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]烹饪装置-CN201520058720.3有效
  • 曹达华;梅若愚 - 佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司;美的集团股份有限公司
  • 2015-01-27 - 2015-06-17 - A47J36/06
  • 本实用新型提供了一种烹饪装置,包括:锅体;锅盖,可开、合地盖装在所述锅体上,且所述锅体与所述锅盖之间围成烹饪腔室;和杀菌件,安装在所述锅盖上、并可向所述烹饪腔室内照射杀菌光;其中,所述杀菌件包括可产生杀菌光的发射源和可反射杀菌光的反光件,所述反光件位于所述发射源与所述锅盖之间,可将照射至其上的杀菌光反射至所述烹饪腔室内。该技术方案,通过在锅盖与发射源之间设置反光件,把照射到反光件上的杀菌光反射回至锅体,从而增强了杀菌光的利用率,扩宽了杀菌光的照射范围,间接地提高了烹饪装置的杀菌强度及杀菌效率。
  • 烹饪装置
  • [实用新型]AMS探测器校验装置-CN201621226887.7有效
  • 周冰;陈海彦;李肖宁 - 台山核电合营有限公司
  • 2016-11-15 - 2017-07-11 - G01T7/00
  • 本实用新型公开了一种AMS探测器校验装置,包括铅屏蔽体,其上端具有圆柱型凹槽,凹槽底面镶嵌有放射源,放射源偏离凹槽底面中心预设距离设置;转动体,其安装在铅屏蔽体的上表面,并且完全覆盖住放射源;以及反射体,其安装在铅屏蔽体的上表面,反射体覆盖部分的圆柱型凹槽,并且完全覆盖住放射源。由于在铅屏蔽体安装有反射体,反射体完全覆盖住放射源,完全屏蔽了放射源对人体的照射,并且校验探头安装在可旋转的转动体上,转动体可将安装孔旋转至反射体没有覆盖的区域用于安装校验探头,再将校验探头旋转至放射源的正上方进行校验,从而使得校验操作方便,并且极大降低了工作人员的吸收剂量和消除了误照射风险。
  • ams探测器校验装置
  • [发明专利]微波加热照射装置-CN201580041451.2有效
  • 小柳智之;泷川道生;稻泽良夫;佐佐木拓郎;本间幸洋 - 三菱电机株式会社
  • 2015-04-16 - 2019-11-05 - H05B6/64
  • 本发明的微波加热照射装置包括:具有开口部并从开口部照射微波从而对收纳于内部的试料进行加热的反应炉(1);配置于反应炉(1)的外侧并照射微波的一个微波辐射源(3);配置于反应炉(1)的上方并将由微波辐射源(3)所照射的微波反射至反应炉(1)的开口部的旋转二次曲面镜(4);以及设于反应炉(1)的开口部并用电介质至少形成被旋转二次曲面镜(4)反射的微波的照射部位以使该微波透射至反应炉的内部的盖子(电介质板(2)),配置微波辐射源(3)和旋转二次曲面镜(4),使得在盖子的用电介质形成的微波的照射部位上形成被旋转二次曲面镜(4)反射的微波的极化波进行透射的入射角。
  • 微波加热照射装置

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