专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]具有摇摆曝光合成平台的立体影像合成-CN200320117038.4无效
  • 李崇权 - 李崇权
  • 2003-10-14 - 2005-03-02 - G03B35/02
  • 本实用新型公开了具有摇摆曝光合成平台的立体影像合成,采用普通光学放大与摇摆曝光合成平台组合,普通光学放大置于摇摆曝光合成平台的上部。摇摆曝光合成平台具有一个可升降的曝光平台。曝光平面以平面上的摇摆中心轴作左右摇摆运动,作左右摇摆运动的曝光平面通过其摇摆中心轴。摇摆曝光合成平台相对于放大镜头在直角坐标的两个方向移动并定位。摇摆曝光合成平台的摇摆中心轴垂直于放大镜头的光轴。摇摆曝光平台通过专用控制器来控制平面的水平位置、起始位置、摇摆角度、摇摆速度及停止位置。本实用新型利用摇摆曝光合成平台替代原固定曝光平台,利用普通平面放大机制作各种类型、不同厚度的立体照片、立体灯片及多画面影像。
  • 具有摇摆曝光合成平台立体影像合成机
  • [发明专利]浸润式曝光装置及曝光方法-CN201811093184.5在审
  • 陈琦南 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2018-09-18 - 2020-03-24 - G03F7/20
  • 本发明提供一种浸润式曝光装置以及改善气泡缺陷的浸润式曝光装置的曝光方法,浸润式曝光装置包括:晶圆载台,用于承载待曝光晶圆;浸润液形成装置,设置于待曝光晶圆上方,用于形成浸润液流场,其中,曝光光源经由浸润液流场实现对待曝光晶圆的曝光;以及边缘限液装置,设置于晶圆载台上,且边缘限液装置位于待曝光晶圆的外围,并与待曝光晶圆的外缘之间具有间距。通过上述方案,本发明通过浸润液限流装置的设置,改善了待曝光晶圆周围的环境,从而减小了晶圆边缘的空隙,减小形成气泡的大小,进而减小气泡上升的速度,从而使得晶圆在曝光的过程中,气泡不会随水流进入曝光光路中,防止气泡对待曝光晶圆曝光质量的影响。
  • 浸润曝光装置方法
  • [实用新型]一种LED曝光供气装置-CN202320474456.6有效
  • 王涛;张雪;逄淑惠 - 青岛龙彩制版有限公司
  • 2023-03-14 - 2023-08-22 - G03F7/20
  • 本实用新型公开了一种LED曝光供气装置,涉及LED曝光技术领域,包括工作台,所述工作台中部设安装槽,所述安装槽处设储气组件,所述储气组件两侧的工作台上分别固定安装抽气组件和进气组件,用于从曝光机内抽气和向曝光中供气本实用新型设计方案通过真空泵将曝光机内可能存在杂质的空气抽出,经过滤块过滤后存储到储气罐内备用,储气罐中的洁净空气通过气嘴、凸块、进气支管和进气管不经过滤的进入曝光,提高进气效率,节能高效,曝光中进气量不足时,第二电机通过扇叶和过滤块向曝光中输入洁净空气,延长过滤块的使用时间,提高曝光的工作效率和加工质量。
  • 一种led曝光供气装置
  • [实用新型]装载治具及曝光-CN202120442908.3有效
  • 查娟娟;马贤杰;冯小楠;张振 - 聚灿光电科技(宿迁)有限公司
  • 2021-03-01 - 2021-10-22 - G03F7/20
  • 本实用新型提供一种装载治具及曝光,所述装载治具用于装载待曝光元件,所述装载治具包括:壳体,所述壳体内设有多个相互间隔的容置部,所述待曝光元件放置于所述容置部中;以及遮光部,所述遮光部叠置于所述容置部的一侧,用于遮盖所述待曝光元件;其中,所述装载治具放置于曝光中,所述遮光部用于阻挡所述曝光产生的曝光光线照射至所述待曝光元件的待曝光表面上。
  • 装载曝光
  • [实用新型]一种掩膜版、曝光装置及系统-CN201220037458.0有效
  • 张青 - 安徽鑫昊等离子显示器件有限公司
  • 2012-02-06 - 2012-09-26 - G03F1/42
  • 本实用新型提供了一种掩膜版、曝光装置及系统,曝光装置包括掩膜版和曝光计测装置,所述曝光计测装置包括摄像Camera与间隙传感器Gap sensor,曝光系统包括曝光装置和曝光。所述曝光装置中的掩膜版上设置有间隙窗Gap Window和对位标识Mark,所述Gap Window与对位Mark之间的相对位置与所述Camera与Gap sensor之间的相对位置一致,当进行曝光计测时,可实现Gap和Alignment同时计测,相应的,曝光系统中曝光的操作界面中包括Gap和Alignment同时计测模式。在曝光过程中,由于Gap计测和Alignment计测同时进行,因此节省了曝光计测的时间。
  • 一种掩膜版曝光装置系统
  • [发明专利]线路板曝光能量检测方法-CN201210516890.2有效
  • 惠小平 - 深圳市兴达线路板有限公司
  • 2012-12-05 - 2013-04-03 - G03F7/20
  • 线路板曝光能量检测方法,包括覆铜板制作工序,曝光尺挡片制作工序,以及曝光工序;覆铜板上制作四组挡墙,分别对应曝光下框下部、上部,以及曝光的上框上部、下部,曝光测试时,首先利用曝光尺挡片遮挡覆铜板,露出对应曝光下框下部、上部的两组挡墙,得到曝光能量格数,之后翻转曝光尺挡片,露出对应曝光机上框上部、下部的两组挡墙,得到曝光能量格数。本发明采用一个专用的覆铜板检测曝光能量值,不需要在生产的电路板上进行曝光,不会影响电路板的正常生产,同时,可有效的避免曝光后的电路板流入下工序。
  • 线路板曝光能量检测方法
  • [发明专利]摄像中的曝光时间控制-CN202210328576.5在审
  • 维克托·埃德帕尔姆;安德里亚·艾瑞思拓 - 安讯士有限公司
  • 2022-03-30 - 2022-10-18 - H04N5/235
  • 摄像中的曝光时间控制。一种用于控制摄像(150)的曝光时间变量(ET)的曝光时间控制器,摄像与自动曝光算法(110)相关联,自动曝光算法(110)被配置成通过递增和递减ET变量来减少曝光失配(ΔE),曝光时间控制器包括:存储器(120),用于对在摄像对场景进行成像并且算法有效时所应用的ET值进行记录;以及处理电路(130),被配置成:当摄像对场景进行成像时,确定曝光失配超过阈值;对所记录的ET值的分布进行估计;基于所估计的分布,识别多个相对最频繁的ET值;并且响应于确定曝光失配超过阈值,将所识别的ET值中的一个分配到ET变量。
  • 摄像机中的曝光时间控制
  • [发明专利]超薄柔性盖板玻璃分片系统-CN202310277143.6在审
  • 周阳强;高树军;王健;卞恒卿;金虎范 - 青岛融合智能科技有限公司
  • 2023-03-21 - 2023-06-23 - B65G49/06
  • 其技术方案为:包括依次设置的紫外曝光装置、泡水除胶装置和单片分离装置;紫外曝光装置包括紫外曝光,紫外曝光机内设置有紫外灯管;紫外曝光的前后端分别设置有玻璃入口和玻璃出口,玻璃入口和玻璃出口处分别设置有软帘;紫外曝光的前后端贯穿设置有玻璃传送平台,玻璃传送平台上设置有玻璃传送机构。本发明无需打开紫外曝光的顶盖将玻璃放入紫外曝光中,大大提高了生产效率;将紫外曝光、泡水除胶和单片分片三个工段串成一体,减少了分片过程中产品周转的时间,提高了生产效率,降低了产品转运成本。
  • 超薄柔性盖板玻璃分片系统
  • [实用新型]一种曝光机降尘排风装置-CN202023309133.7有效
  • 袁强;刘长征 - 广东海圣科技有限公司
  • 2020-12-30 - 2021-09-14 - B08B5/02
  • 本实用新型公开了一种曝光机降尘排风装置,包括曝光本体,所述曝光本体的侧壁设有延伸至其内部的吹风机构,所述曝光本体的侧壁贯穿设有多个吸风机构,相邻的两个所述吸风机构之间通过第一传送带连接,所述吹风机构与位于最上端的吸风机构之间通过第二传送带连接,所述曝光本体的一侧设有导向机构,多个所述吸风机构均与导向机构相互连通,所述曝光本体的侧壁固定连接有集尘机构,所述导向机构延伸至集尘机构内,所述吹风机构包括设置在曝光本体侧壁上的鼓风机。本实用新型结构设计合理,能够将曝光本体内的灰尘吹起,加快曝光本体内部的空气流动,并能够将灰尘排出进行集中收集吸附,避免其四处飘散。
  • 一种曝光机降尘排风装置
  • [发明专利]曝光的操作方法-CN202110306971.9在审
  • 王承宏;徐嘉祥 - 南亚科技股份有限公司
  • 2021-03-23 - 2022-06-14 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种曝光的操作方法,包括在晶圆的第一层上执行曝光,其中曝光的步骤依序地执行于覆盖第一层的多个第一曝光区域上;在晶圆的第二层上执行曝光,其中第二层在第一层上,曝光的步骤依序地执行于覆盖第一层的多个第二曝光区域上;以及在覆盖晶圆的第三曝光区域上执行曝光,且第三曝光区域对应的曝光能量为零。借此,本发明的曝光的操作方法,通过在相邻的两个曝光步骤之间安插虚拟曝光的步骤,可降低第一层及第二层对应的图案之间的叠对误差。此外,通过这样的方式,使曝光的工艺可适用于不同曝光机型,避免因曝光的起始位置及结束位置不同而增加叠对误差。
  • 曝光操作方法

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