专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]磁共振成像序列相位校正方法及磁共振设备-CN201610879030.3有效
  • 陈操;郭红宇;徐勤 - 上海东软医疗科技有限公司
  • 2016-10-08 - 2019-07-23 - G01R33/565
  • 本申请提供一种磁共振成像序列相位校正方法及磁共振设备,所述方法包括:通过磁共振预扫描,获取成像序列在多通道条件下每个通道的回波信号,所述回波信号包括第一回波信号和第二回波信号;对所述多个通道的第二回波信号进行多次平移,确定使所述多个通道的成像相位一致性最高的位移量,作为校正位移量;根据所述校正位移量,确定所述多个通道的回波信号的一阶相位校正值和零阶相位校正值。本申请磁共振成像序列相位校正方法,不利用信号形状直接计算一阶相位校正值,而是通过平移信号曲线确定多通道的一阶相位校正值和零阶相位校正值,能避免先计算一阶相位校正值,再计算零阶相位校正值的过程容易受各种因素的影响而导致计算错误的缺陷
  • 磁共振成像序列相位校正方法设备
  • [发明专利]一种基于表面等离子体耦合结构的全息成像-CN201610144405.1有效
  • 吴文刚;樊姣荣;朱佳 - 北京大学
  • 2016-03-15 - 2019-01-11 - G03H1/00
  • 本发明公开了一种基于表面等离子体耦合结构的全息成像膜。采用电子束光刻,制备非对称的纳米结构层。该亚波长尺度耦合结构超材料在可见光光谱中表现出谐波共振和暗场激发等离子共振模式,产生多共振峰窄带共振,非对称的上层纳米结构使得反射阵列对不同入射场具有灵敏的色彩响应和高反射率,因此反射阵列能够应用于彩色全息成像的全息成像膜,可实时再现物体真实的三维图像的记录和再现,真正的空间成像、色彩鲜艳,对比度,清晰度高在商品展示、影视制作、艺术创作等领域有重要应用前景。
  • 一种基于表面等离子体耦合结构全息成像

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