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[发明专利]EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物-CN202180013074.7在审
发明人：清水祥;田村护 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2021-02-05 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明提供用于形成能够形成所期望的抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜的组合物、及使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂图案制造方法、半导体装置的制造方法。所述组合物为(甲基)丙烯酸类聚合物的侧链具有被保护基取代的碱性有机基团，而且还包含有机溶剂的EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物，其中不包含上述(甲基)丙烯酸类聚合物以外的聚合物。
euv 抗蚀剂下层形成组合

[发明专利]粘合剂组合物的制造方法、粘合剂组合物以及粘合带-CN201210082689.8有效
发明人：藤田志郎;铃木淳史;五十岚智美 -专利权人：藤森工业株式会社
申请日： 2012-03-26 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： C09J4/02 文献下载
摘要：本发明公开一种粘合剂组合物的制造方法，该粘合剂组合物用于粘合带，该粘合带贴合于由铟锡氧化物形成的透明导电膜的所述铟锡氧化物表面，其中至少通过以下的(1)～(2)工序得到粘合剂组合物：(1)配制在由丙烯酸类树脂形成的压敏粘合剂组合物中混合至少一种含羟基的(甲基)丙烯酸酯单体和光聚合引发剂而成的粘合剂用原料组合物；(2)使用所述粘合剂用原料组合物通过光照射进行聚合反应，得到粘合剂组合物。
粘合剂组合制造方法以及粘合

[发明专利]电极形成用玻璃组合物和电极形成材料-CN200980122763.0无效
发明人：石原健太郎 -专利权人：日本电气硝子株式会社
申请日： 2009-09-01 - 公布日： 2011-05-18 - 主分类号： C03C8/04 文献下载
摘要：本发明的电极形成用玻璃组合物，其特征在于：作为玻璃组成，用下述氧化物换算的质量％表示，含有Bi2O373.1～90％、B2O32～14.5％、ZnO0～25％、MgO+CaO+SrO+BaO(MgO、CaO
电极形成玻璃组合材料

[发明专利]电极形成用玻璃组合物和电极形成材料-CN201080007957.9无效
发明人：石原健太郎 -专利权人：日本电气硝子株式会社
申请日： 2010-02-23 - 公布日： 2012-01-11 - 主分类号： C03C8/18 文献下载
摘要：本发明的电极形成用玻璃组合物，其特征在于，作为玻璃组成，以下述氧化物换算的质量％表示，含有Bi2O3 60～90％、B2O3 2～25％、ZnO 0～25％、MgO+CaO+SrO+BaO 0.01～20
电极形成玻璃组合材料

[发明专利]下层膜形成用组合物及图案形成方法-CN200780014538.6无效
发明人：能村仲笃;今野洋助;杉田光;高桥纯一 -专利权人： JSR株式会社
申请日： 2007-03-14 - 公布日： 2009-05-06 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明提供一种下层膜形成用组合物，其中，含有具有下述通式(1)所示的萘衍生物结构单元的聚合物(A)，通式(1)中，R₁表示羟基等，X表示碳原子数为1～20的可以取代的亚烷基等，n是
下层形成组合图案方法

[发明专利]偏光膜及其制造方法-CN201980062513.6有效
发明人：太田阳介 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2019-09-19 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：偏光膜，其为依次层叠有第1树脂层、偏光片、取向膜、第2树脂层的偏光膜，第1树脂层为包含(甲基)丙烯酸系化合物的第1固化性组合物的固化物，偏光片为偏光片形成用组合物的固化物，所述偏光片形成用组合物包含具有(甲基)丙烯酰基的聚合性液晶化合物和二向色性色素，取向膜为包含(甲基)丙烯酸系化合物的取向膜形成用组合物的固化物，第2树脂层为包含(甲基)丙烯酸系化合物的第2固化性组合物的固化物，第1固化性组合物及第2固化性组合物中的至少一者包含每单位分子量的(甲基)丙烯酰基数为40×10‑4以下的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物作为(甲基)丙烯酸系化合物。
偏光及其制造方法

[发明专利]被镀覆层形成用组合物、带被镀覆层前体层膜、带图案状被镀覆层膜、导电性膜、触控面板-CN201680018404.0有效
发明人：一木孝彦 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2016-03-30 - 公布日： 2019-06-21 - 主分类号： C23C18/18 文献下载
摘要：本发明提供一种被镀覆层形成用组合物，其能够形成通过镀覆处理可形成导电性优异的金属层、与该金属层的密合性也优异的被镀覆层；以及提供使用了该被镀覆层形成用组合物的带被镀覆层前体层的膜、带被镀覆层的膜、导电性膜和触控面板本发明的被镀覆层形成用组合物包含具有与金属离子相互作用的基团的非聚合性聚合物、具有2个以上聚合性官能团的多官能单体、单官能单体和聚合引发剂。
镀覆形成组合层前体层图案导电性面板

[发明专利]导电图案形成方法以及通过光照射或微波加热来形成导电图案的导电图案形成用组合物-CN201280057724.9有效
发明人：内田博 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2012-11-26 - 公布日： 2014-07-23 - 主分类号： H05K3/12 文献下载
摘要：本发明提供能够提高导电图案的导电率的导电图案形成方法、和能够通过光照射或微波加热形成导电图案的导电图案形成用组合物。调制含有在表面的全部或局部上形成了氧化铜的薄膜的铜粒子和氧化铜粒子和多元醇、和羧酸或聚烷撑二醇的还原剂、和粘合剂树脂的导电图案形成用组合物，利用该导电图案形成用组合物在基板上形成任意形状的印刷图案，对该印刷图案进行光照射或微波加热而生成铜的烧结体，形成导电图案。
导电图案形成方法以及通过照射微波加热组合

[发明专利]白色固化性树脂组合物及具有其固化物形成的绝缘层的印刷线路板-CN200910127299.6有效
发明人：大胡义和;宇敷滋 -专利权人：太阳油墨制造株式会社
申请日： 2009-03-20 - 公布日： 2009-09-30 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供白色固化性树脂组合物及具有其固化物形成的绝缘层的印刷线路板。本发明提供一种印刷线路板用白色固化性树脂组合物，其以高含有率含有氧化钛且保存稳定性优异。印刷线路板用白色固化性树脂组合物，其含有(A)固化性树脂、(B)氧化钛以及(C)酞菁；以及印刷线路板，其具有该白色固化性树脂组合物的固化物形成的绝缘层。
白色固化树脂组合具有形成绝缘印刷线路板

[发明专利]用碳化物基质制备复合材料的方法-CN201480033887.2在审
发明人： S·雅克斯;O·勒丹;L·马勒;A·戴尔凯姆;T·皮库尔若 -专利权人：赫拉克勒斯公司;原子能和替代能源专员署;中央科学研究中心
申请日： 2014-04-10 - 公布日： 2016-02-10 - 主分类号： C04B35/56 文献下载
摘要：一种用基质来致密化多孔基材(50)的方法，所述方法包括以下步骤：对存在于多孔基材中的孔进行再分以在所述基材中形成微孔网络，所述再分用填料组合物进行，所述填料组合物包含至少一个可通过微孔网络而进入的含碳相或含碳化物相；以及通过反应性化学气相渗透法来渗透由所述填料材料形成的微孔网络，所述渗透用反应性气体组合物进行，所述反应性气体组合物不含有碳并且包含至少一种适用于与填料组合物中的碳反应以形成碳化物(53)的元素。
碳化物基质制备复合材料方法

[发明专利]光取向膜形成用组合物、光取向膜、层叠体及偏振元件-CN202210113287.3在审
发明人：铃木纯次;幡中伸行;太田阳介;中野雅也 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2022-01-29 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： C08L33/14 文献下载
摘要：本发明提供一种光取向膜形成用组合物，其能够形成与基材的密合性良好的光取向膜，并且具有得到改善的液稳定性。本发明的光取向膜形成用组合物包含具有光反应性基团的光取向性聚合物、硅烷偶联剂、酸及溶剂。
取向形成组合层叠偏振元件

[发明专利]利用了碳氧间双键的抗蚀剂下层膜形成用组合物-CN201980034895.1在审
发明人：德永光;绪方裕斗;桥本圭祐;中岛诚 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2019-05-21 - 公布日： 2021-01-15 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：提供显示高蚀刻耐性、良好的干蚀刻速度比和光学常数，对所谓的高低差基板也被覆性良好，埋入后的膜厚差小，能够形成平坦的膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物。此外，提供适合于该抗蚀剂下层膜形成用组合物的聚合物的制造方法、使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂下层膜、以及半导体装置的制造方法。制作一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含碳原子数6～60的芳香族化合物(A)与碳原子数3～60的含氧化合物(B)所具有的碳氧间双键的反应生成物、以及溶剂，上述含氧化合物(B)在一分子中具有1个部分结构：‑CON＜或‑COO‑，上述反应生成物中，上述含氧化合物(B)的1个碳原子连接2个上述芳香族化合物(A)。
利用碳氧间双键抗蚀剂下层形成组合

[发明专利]含有磺酸*盐的含硅EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物-CN201380029266.2在审
发明人：柴山亘;志垣修平;坂本力丸 -专利权人：日产化学工业株式会社
申请日： 2013-07-29 - 公布日： 2015-02-25 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明的课题是提供抗蚀剂形状良好的EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物。作为解决本发明课题的手段，涉及一种EUV光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含作为硅烷的水解性有机硅烷、其水解物或其水解缩合物，还包含含有烃基的磺酸根离子与含有 euv 抗蚀剂下层形成组合

[发明专利]压印用模具的制造方法-CN201680052313.9有效
发明人：坂田郁美;武田亚衣 -专利权人：综研化学株式会社
申请日： 2016-09-14 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： B29C59/04 文献下载
摘要：本发明提供不易产生转印不良的压印用模具的制造方法。根据本发明，所述压印用模具的制造方法具备如下工序：卷绕工序，将具有形成有由所期望的微细凹凸图案的反转图案构成的基体图案的树脂层的膜模具，以能够在两端的对接部形成不存在上述基体图案的间隙的方式卷绕于圆柱形的转印辊；树脂填充工序，向上述间隙填充树脂组合物；以及，图案形成工序，将设置在图案追加模具的转印图案按压于上述树脂组合物而将由上述转印图案的反转图案构成的追加图案形成在上述树脂组合物上；上述树脂组合物以如下方式填充：在将上述图案追加模具按压于上述树脂组合物之前或者将上述图案追加模具按压于上述树脂组合物之时，上述树脂组合物从上述间隙溢出而在上述树脂层的表面上形成上述树脂组合物的溢出部分。
压印模具制造方法

[发明专利]柔性线路基板用感光性树脂组合物及用其获得的柔性线路基板-CN200710148577.7无效
发明人：藤井弘文;盛田浩介;水谷昌纪;大川忠男;吉见武;多田光一郎;大西谦司 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2007-08-29 - 公布日： 2009-03-04 - 主分类号： G03F7/028 文献下载
摘要：本发明的目的是提供对加热固化后发生的翘曲具有抑制效果的感光性树脂组合物及用其获得的柔性线路基板。本发明的解决方式是采用包含下述(A)～(C)成分的柔性线路基板用感光性树脂组合物，以及一种柔性线路基板，该柔性线路基板通过以下方式形成：使用上述柔性线路基板用感光性树脂组合物在导体线路图案上形成感光性树脂组合物层，将其曝光、显影成规定的图案，从而形成覆盖绝缘层。(A)对乙烯性不饱和化合物进行加聚形成的玻璃化转变温度为55℃以下的含羧基的线形聚合物；(B)含有乙烯性不饱和基团的聚合性化合物；(C)光聚合引发剂。
柔性线路基板用感光性树脂组合获得